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公开(公告)号:CN100347101C
公开(公告)日:2007-11-07
申请号:CN200510067500.8
申请日:2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/78
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化,进行最佳的水处理的水处理控制系统。水处理控制装置14求出由被处理水水质计21测得的被处理水的水质指标和由臭氧处理水水质计24测得的臭氧处理水的水质指标的差值作为水质指标的变化量。将该水质指标的变化量除以被处理水的水质指标或臭氧处理水的水质指标求出水质指标变化率。水处理控制装置14根据该水质指标变化率控制臭氧气体注入装置19,调整臭氧气体注入量。
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公开(公告)号:CN101164914A
公开(公告)日:2008-04-23
申请号:CN200710152915.4
申请日:2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化,进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水,排出已处理的处理水的处理槽;将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置;测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段;使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率,根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系,算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段;按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率,控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。
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公开(公告)号:CN101164914B
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN200710152915.4
申请日:2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化,进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水,排出已处理的处理水的处理槽;将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置;测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段;使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率,根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系,算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段;按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率,控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。
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