公开(公告)号：CN1248048C

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN01145446.6

申请日：2001-08-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤正光 ,  野嶋茂树 ,  三本木省次 ,  池永修

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70625

Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后，测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件，来判断上述光掩模是否合格。

公开(公告)号：CN1652022A

公开(公告)日：2005-08-10

申请号：CN200510056072.9

申请日：2002-05-31

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤正光

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

Abstract: 提供一种掩模基板的平整度模拟系统，可以解决在将掩模基板吸附到晶片曝光装置的掩模台后掩模基板的平整度恶化而引起晶片曝光装置制品成品率低的问题。该掩模基板的平整度模拟系统包括：取得有关掩模基板的主面的平整性的第一信息的测定基板的平整性的单元；以及取得有关由根据上述第一信息和与曝光装置的掩模吸盘结构有关的信息进行的把上述掩模基板设置于上述曝光装置时的模拟得到的有关上述主面的平整度的第二信息的单元。

公开(公告)号：CN1441461A

公开(公告)日：2003-09-10

申请号：CN03105260.6

申请日：2003-02-25

Applicant: 株式会社东芝 ,  大日本印刷株式会社

Inventor： 伊藤正光

IPC: H01L21/00 ,  G03F1/00

CPC classification number: G03F9/7084 ,  G03B27/42 ,  G03F1/60 ,  G03F9/7076 ,  Y10T428/24545

Abstract: 一种掩模基板包括具有参考标记的透明基板和形成在透明基板上的遮光膜。

公开(公告)号：CN1356592A

公开(公告)日：2002-07-03

申请号：CN01145446.6

申请日：2001-08-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 伊藤正光 ,  野嶋茂树 ,  三本木省次 ,  池永修

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70625

Abstract: 掩模的制造方法具备在形成光掩模的图案后,测定形成的图案的尺寸步骤和根据测定的图案尺寸的结果求出使用上述光掩模时的曝光裕度的步骤。并且根据上述求得的曝光裕度是否满足所期望的曝光裕度这个条件,来判断上述光掩模是否合格。