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公开(公告)号:CN101679568B
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN200880020887.3
申请日:2008-02-13
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08F220/20 , C08F220/22 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F220/18 , C08F220/22 , G02B5/1852 , G02B5/1857 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/033 , C08F222/1006
Abstract: 本发明提供可获得脱模性及机械强度优良的固化物的光固化性组合物,以及可制造表面具有模具的反转图案被精确地转印的精细图案且耐久性良好的成形体的方法。采用包含15~60质量%化合物(A)、5~40质量%具有氟原子且具有1个以上的碳-碳不饱和双键的化合物(B)(化合物(A)除外)、10~55质量%具有1个(甲基)丙烯酰氧基的化合物(C)(化合物(B)除外)及1~12质量%光聚合引发剂(D)((A)+(B)+(C)+(D)=100质量%)的光固化性组合物20,所述化合物(A)为具有2个以上的环且具有2个(甲基)丙烯酰氧基的芳香族化合物或具有2个以上的环且具有2个(甲基)丙烯酰氧基的脂环式化合物。
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公开(公告)号:CN101160331B
公开(公告)日:2010-12-15
申请号:CN200680012901.6
申请日:2006-03-22
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08F220/10 , B29C59/02 , C08F220/22 , H01L21/027
CPC classification number: B29C37/0053 , B29C35/0888 , B29C43/003 , B29C43/021 , B29C2035/0833 , B29C2043/3634 , B29C2059/023 , B29K2105/0002 , B29L2011/0016 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F222/1006 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/027
Abstract: 提供了可以高效制造耐热性、耐化学性、脱模性、光学特性(透明性、低折射率性)等物性优良的精细图案形成体的光固化性组合物,以及可以在表面高精度转印模具的精细图案的精细图案形成体的制造方法。该光固化性组合物的特征在于,含有25℃时的粘度为0.1~100mPa·s的不含氟原子的单体50~98质量%、含氟单体0.1~45质量%、含量大于0.1质量%且小于等于20质量%的含氟表面活性剂及/或含氟聚合物、以及光聚合引发剂1~10质量%,且实质上不含溶剂。使用该光固化性组合物、基板以及表面具有精细图案的模具的、由固化物形成的精细图案形成体或与基板一体的该精细图案形成体的制造方法,该固化体具有转印了模具的精细图案的表面。
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公开(公告)号:CN101678572A
公开(公告)日:2010-03-24
申请号:CN200880017133.2
申请日:2008-04-09
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B29C59/02 , B29C33/40 , B29C33/424 , B29C33/56 , B29C35/0888 , B29C59/005 , B29L2011/00
Abstract: 本发明提供具有透光性、脱模性、机械强度、尺寸稳定性、高精度的微细图案且微细图案的变形少的模具,可高尺寸精度地转印模具的微细图案且转印微细图案的变形少的具有转印微细图案的基材的制造方法。模具(10)具有透明基体(A)(12)、中间层(C)(14)和表面层(B)(16);所述透明基体(A)(12)在形成有中间层(C)(14)的表面具有基于官能团(x)的化学键,其线膨胀系数与含氟聚合物(I)的线膨胀系数之间的差的绝对值不足30ppm/℃,热变形温度为100~300℃;所述中间层(C)(14)由主链中具有含氟脂肪族环结构且具有与官能团(x)具反应性的反应性基团(y)的含氟聚合物(II)形成;表面层(B)(16)由主链中具有含氟脂肪族环结构且实质上不具有反应性基团(y)的含氟聚合物(I)形成,在表面具有微细图案(18)。
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公开(公告)号:CN100422853C
公开(公告)日:2008-10-01
申请号:CN03107058.2
申请日:2003-03-03
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/038 , H01L21/027 , C08F214/18
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/115 , Y10S430/146
Abstract: 一种抗蚀剂组合物,它包括下列含氟聚合物(A)、在光照下产生酸的酸生成化合物(B)和有机溶剂(C);含氟聚合物(A):具有受保护的酸性基团的含氟聚合物,它具有式(1)的氟化二烯环化聚合形成的单体单元和聚合式(2)的丙烯酸类单体形成的单体单元,当通过聚合式(1)的氟化二烯和式(2)的丙烯酸类单体得到的共聚物没有受保护的酸性基团时,它可通过在共聚物中形成受保护的酸性基团来得到:CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1)和CH2=CR3-CO2R4(2)。R1、R2、R3、R1和Q的定义见说明书。
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公开(公告)号:CN1711291A
公开(公告)日:2005-12-21
申请号:CN200380102894.5
申请日:2003-11-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C08F214/18 , C08F36/20 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供一种适合用作250nm以下的准分子激光的抗蚀材料用的原料聚合物的含氟聚合物。含氟聚合物具有环化聚合下式(3)所示的含氟二烯而成的单体单元,CF2=CFCF2-C(CF3)(R5)-CH2CH=CH2(3),式中,R5表示被-CHR7-O-R8保护了的羟基或者具有该羟基的有机基;R8表示可具有取代基的环烷基等的环式饱和烃、具有该环式饱和烃的有机基。
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公开(公告)号:CN1221861C
公开(公告)日:2005-10-05
申请号:CN02805512.8
申请日:2002-01-31
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/114 , Y10S430/146 , Y10T428/3154
Abstract: 提供了可形成对放射线的透明度和干蚀刻性优异、且灵敏度、析像度、平坦性、耐热性等优异的光致抗蚀剂图案的化学放大型光致抗蚀剂组合物。该光致抗蚀剂组合物的特征是,它包含:含氟聚合物(A)、受光照射而产生酸的产酸化合物(B)、及有机溶剂(C),所述的含氟聚合物(A)是具有以式(1)表示的含氟二烯的环化聚合重复单元的含氟聚合物,且Q中具有嵌段化酸性基团,CF2=CR1-Q-CR2=CH2……(1)式中,R1、R2分别独立地表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基,Q为2价的有机基,且表示具有通过酸能够显现为酸性基团的嵌段化酸性基团或能转换成该嵌段化酸性基团的基团的有机基。
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公开(公告)号:CN1675268A
公开(公告)日:2005-09-28
申请号:CN03819683.2
申请日:2003-08-21
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08F36/20
CPC classification number: C08F36/20 , C08F36/16 , C08F214/18 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供了官能团浓度高、可获得充分的官能团特性、且Tg不会下降的含氟聚合物。该聚合物是具有通过式(1)(如图)表示的含官能团的含氟二烯的环化聚合而形成的单体单元的含氟聚合物。式中,R1~R4互相独立,表示氢原子、氟原子、碳原子数小于等于8的烷基或环状脂肪族烃基,其中至少1个为环状脂肪族烃基,烷基及环状脂肪族烃基中的氢原子可被氟原子、烷基或氟烷基取代;Q表示2价有机基团,该基团是具有通过酸可显现酸性基的嵌段化酸性基或可转变为该嵌段化酸性基的基团的有机基团。
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公开(公告)号:CN1442753A
公开(公告)日:2003-09-17
申请号:CN03107058.2
申请日:2003-03-03
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/038 , H01L21/027 , C08F214/18
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/115 , Y10S430/146
Abstract: 一种抗蚀剂组合物,它包括下列含氟聚合物(A)、在光照下产生酸的酸生成化合物(B)和有机溶剂(C);含氟聚合物(A):具有受保护的酸性基团的含氟聚合物,它具有式(1)的氟化二烯环化聚合形成的单体单元和聚合式(2)的丙烯酸类单体形成的单体单元,当通过聚合式(1)的氟化二烯和式(2)的丙烯酸类单体得到的共聚物没有受保护的酸性基团时,它可通过在共聚物中形成受保护的酸性基团来得到:CF2=CR1-Q-CR2=CH2(1)和CH2=CR3-CO2R4(2)。R1、R2、R3、R1和Q的定义见说明书。
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