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公开(公告)号：CN105467766B
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201510639369.1
申请日：2015-09-30
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种硬化性组合物、使所述硬化性组合物硬化而成的硬化膜、以及使用所述硬化膜的有机EL显示装置、液晶显示装置及触摸屏显示装置。本发明的硬化性组合物含有：作为成分A的聚合性单体、作为成分B的光聚合引发剂、作为成分C的至少具有钛原子或铝原子以及(甲基)丙烯酰基的化合物、及作为成分D的聚合抑制剂，且成分A包含具有一个以上的羧基的聚合性单体。本发明的硬化性组合物的图案化性优异且所得硬化膜的密接性及对基底金属的耐变色性优异。
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公开(公告)号：CN103080839B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201180041965.X
申请日：2011-08-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/73 , C07D307/78 , C07D307/92 , C07D335/06 , C07D335/08 , G02F1/1333 , G03F7/039 , H05B33/22
CPC classification number: C07D307/78 , C07C309/00 , C07C2602/08 , C07C2603/16 , C07C2603/18 , C07D307/92 , C07D335/06 , C07D335/08 , G02F1/133345 , G02F1/136227 , G02F2202/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L27/3258 , H05B33/22
Abstract: 本发明的目的为提供一种高感度且固化膜的透明性优良、显影宽容度广的感光性树脂组合物、以及使用了该组合物的固化膜的形成方法。本发明的感光性树脂组合物的特征在于，含有以式(1)表示的肟磺酸酯化合物、具有在酸的作用下分解并生成羧基或酚性羟基的酸分解性基团的结构单元的树脂、以及溶剂。R1表示烷基、芳基或杂芳基，R2各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或卤素原子，Ar1表示邻亚芳基或邻杂亚芳基，X表示O或S，n表示1或2。在存在2个以上的R2之中，至少1个为烷基、芳基或卤素原子。
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公开(公告)号：CN105467765A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510633144.5
申请日：2015-09-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性组合物、硬化膜及其制造方法、以及使用硬化膜的应用，感光性组合物即便在低温下进行加热的情况下，所得硬化膜的硬度也优异，且光刻的图案化性优异，进而所得显示装置的触控检测能力的稳定性优异。感光性组合物含有：聚合性单体、具有碱显影性基的化合物、光聚合引发剂、聚合抑制剂、分子内具有一个选自由三级氨基及芳香族含氮杂环基所组成的组群中的基团的胺化合物、以及溶剂，且聚合性单体含有分子内具有三个以上的(甲基)丙烯酰基的聚合性单体，相对于感光性组合物的总固体成分量，胺化合物的含量为10质量％以下。
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公开(公告)号：CN104508554A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380040120.8
申请日：2013-06-03
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D263/56 , C07D263/60 , C07D277/64 , C07D277/84 , C08F12/22 , C08F20/26 , G02F1/1368 , G03F7/039 , G03F7/40 , H01L51/50 , H05B33/22
CPC classification number: G03F7/027 , C07D263/56 , C07D263/60 , C07D277/64 , C07D277/84 , C07D417/12 , C08F12/22 , C08F20/26 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/40 , H01L27/3258 , H05B33/22
Abstract: 本发明提供一种感光度、保存稳定性、及耐热透明性优异的感光性树脂组合物。所述感光性树脂组合物包括：(A)含有满足下述(1)及下述(2)的至少一个的聚合物的聚合物成分，(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，(2)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元的聚合物、及具有(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物；(B)由式(I)所表示的化合物；以及(C)溶剂。
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公开(公告)号：CN101620377A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200910151360.0
申请日：2009-07-02
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 崎田享平
IPC: G03F7/00 , G02F1/1339 , G02F1/1362
Abstract: 本发明提供一种固化性良好、经时保存稳定性优异、特别是在抑制固化后的图案精度降低方面经时保存稳定性优异的纳米压印用固化性组合物。该纳米压印用固化性组合物的特征在于，包含(A)聚合性单体、(B)光聚合引发剂及(C)阻聚剂，并且，该阻聚剂的添加量相对于该聚合性单体以重量计为300ppm～5％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119998728A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202380070019.0
申请日：2023-09-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F290/14 , C08G73/10 , G03F7/027 , G03F7/09 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/312
Abstract: 本发明提供一种膜的制造方法、使用感光性树脂组合物的固化物的制造方法、由所述感光性树脂组合物固化而成的固化物及包含所述固化物的层叠体，所述膜的制造方法将含有(A)树脂；(C)光聚合引发剂；(D)自由基阻聚剂，其选自(D‑1)在分子内具有自由基的化合物及(D‑2)在分子内不具有自由基且分子量为270以上的化合物中的至少1个化合物；及(E)溶剂的感光性树脂组合物涂布于基材上之后，包括在5000Pa以下的压力下进行干燥的工序，或包括以第一温度进行干燥的工序；在以所述第一温度进行干燥的工序中的压力±10％的范围内的压力下以比所述第一温度高的第二温度进行干燥的工序，或仅包括作为干燥工序以90℃以上用超过五分钟的时间进行干燥的工序。
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公开(公告)号：CN110088679B
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN201780077182.4
申请日：2017-12-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、及光酸产生剂、以及使用这些的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过光化射线或放射线的照射而产生pKa为‑1.40以上的酸的光酸产生剂、及(B)具有含有酸分解性基的重复单元的树脂，通过具有上述酸分解性基的重复单元的Et h灵敏度为5.64以下的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，尤其在形成超微细的图案时，粗糙性能、曝光宽容度及焦点裕度非常优异。
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公开(公告)号：CN114902138A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080089460.X
申请日：2020-12-07
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性树脂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：含有具有特定的环结构的重复单元(a1)的树脂(A)、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物(B)通过光化射线或放射线的照射分解而酸捕获性降低的特定的化合物(C)。
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公开(公告)号：CN111512229A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201880082630.4
申请日：2018-10-30
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可获得灵敏度优异的抗蚀剂膜且可获得LER性能优异的图案，并且能够抑制图案形成时的图案崩塌的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法、带抗蚀剂膜的空白掩模、光罩的制造方法以及电子元件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：树脂X，其具有以通式(I)表示的重复单元A、具有酸分解性基的重复单元B以及选自由以通式(II)表示的重复单元c1等的重复单元C；化合物Y，其为通过光化射线或放射线的照射而碱性降低的碱性化合物或铵盐化合物；及光产酸剂Z，其为化合物Y以外的化合物。
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公开(公告)号：CN109643064A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780052378.8
申请日：2017-07-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供即使将曝光的扫描速度设为超高速，也能够具有液浸液的高追随性并能够减少残渣和显影缺陷的感光化射线性或感放射线性树脂组合物等。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有以通式(1)所表示的重复单元的树脂(C)。图案形成方法包含通过感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜的工序，电子器件的制造方法包含图案形成方法。通式(1)中，Z表示卤素原子、以R11OCH2－所表示的基团或以R12OC(＝O)CH2－所表示的基团。R11及R12表示一价取代基。X表示氧原子或硫原子。L表示(n+1)价的连结基团。R表示如下基团，该基团具有通过碱显影液的作用而分解并在碱显影液中的溶解度增大的基团。n表示正整数。
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