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公开(公告)号：CN109471211A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201811639285.8
申请日：2018-12-29
Applicant: 润坤(上海)光学科技有限公司 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种消偏振合束镜薄膜，包括基底以及设置在基底上的第一薄膜，所述的第一薄膜的膜系结构为Sub|x1H x2L x3H x4L......xk-3H xk-2L xk-1H xkL|Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，x1～xk为每层薄膜层的光学厚度系数，k为薄膜层总数。与现有技术相比，本发明具有优化过程简单，膜系规整，便于精确制备，降低了制备复杂性，消偏效果好、光谱特性优良，便于推广使用等优点，在大型激光装置光路传输中具有广阔的实用前景，可用于不同波长激光的非相干合束。
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公开(公告)号：CN106862114A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201710070731.7
申请日：2017-02-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种LBO晶体表面镀膜前的清洗方法，将LBO晶体依次执行下述步骤：采用无水乙醇和乙醚混合液擦拭LBO晶体表面；采用弱碱性溶液对LBO晶体进行超声波清洗，所述弱碱性溶液包括NH4OH和H2O2，体积比为NH4OH:H2O2:H2O＝1:8:50；采用无水乙醇对LBO晶体进行漂洗；将LBO晶体放置于装有无水乙醇的密闭容器内，对LBO晶体进行超声加热清洗；取出LBO晶体，再次漂洗；在正压容器环境中干燥氮气风刀对LBO晶体进行干燥。与现有技术相比，本发明具有清洗效果好，既可以提升LBO晶体镀膜后的抗激光损伤特性，可以提升其镀膜后的薄膜附着力及抗裂纹特性等优点。
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公开(公告)号：CN105127142B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201510585073.6
申请日：2015-09-16
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜元件用超光滑表面熔石英光学基板超声波清洗方法，属于光学技术领域。所述清洗方法包括以下步骤：在正式超声清洗前，运用旋涂1μm~3μm人工氧化硅小球的基板实验获得低频段80KHz超声频率对微米尺度颗粒有效去除的最低超声功率、最佳超声时间；利用旋涂0.3μm～1μm人工氧化硅小球的基板实验获得中频段400KHz超声频率时氨水、双氧水和纯水的最佳比例，结合原子力显微镜获得最佳超声时间；综合上述两个方面获得最优超声清洗参数后，实施对超光滑熔石英光学基板进行超声波精细清洗。本发明的优点在于通过所述方法实现对熔石英光学基板高效、定量的超声清洗，在实现基板高洁净度清洗的同时避免了超声波过度清洗对基板元件造成的超光滑表面损伤和材料疲劳。
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公开(公告)号：CN105203503A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510585072.1
申请日：2015-09-16
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/49
Abstract: 本发明涉及一种高功率激光薄膜元件用超光滑光学基板表面检测方法，采用532nm波长激光倾斜入射光学基板表面，运用微分干涉显微镜的暗场模式观测激光在基板表面的散射光信息，实现对光学基板表面缺陷及微小残留颗粒的高灵敏度检测；通过分别采用暗场显微模式下激光散射以及微分干涉显微模式对所旋涂有300~3μm人工氧化硅小球的样品进行观测，对比建立微粒激光散射面积与微粒实体尺度对应关系，实现对于微粒的激光散射检测的量化定标；通过对比暗场显微模式下激光散射以及微分干涉显微模式对刻有600nm~5μm宽度人工划痕基板的观测结果，建立划痕激光散射面积与实体宽度对应关系，完成对划痕缺陷的激光散射量化定标。本发明极大地提高了基板表面缺陷检测的精度和效率。
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公开(公告)号：CN103042008B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201210569708.X
申请日：2012-12-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在白炽灯照射下基板表面无肉眼可见的污染物为止；将擦拭后的基板置于第一槽碱性溶液，分别用不同频率对基板先后进超声清洗；将所得基板放置于第二槽中，用去离子水喷淋；将基板放置于第三槽去离子水中，分别在不同频率下先后超声3～6分钟，在白炽灯下观测基板表面洁净度，无肉眼可见颗粒后将基板放置于第四槽去离子水中在80KHz超声下进行慢提拉，用热吹风将提拉后的基板干燥，即得到所需产品。本发明将清洗过程与表面检测结合起来，将擦拭法、化学清洗法、超声波清洗法结合起来综合运用，以达到清洗效率高而又对基板光滑表面损伤小的最优清洗效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104535984A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201410828917.0
申请日：2014-12-29
Applicant: 同济大学
CPC classification number: G01S7/4814 , G02B27/10
Abstract: 本发明涉及一种双通道复合波长近红外激光雷达发射系统光学镜头。两路光学通道的共用激光光源和前级扩束系统，两路通道输出不同口径的平行光束，通过转换镜切换进行分时工作，满足了紧凑化和低成本的要求，实现了模块化设计；共用的前级扩束系统利用两种光学材料进行消色差设计，满足复合工作波长的需求。通过改变激光光源输出波长，系统功能实现复合工作波长、双发射通道输出不同口径平行光束的多工作模态。本发明中的两路光学通道光轴平行，在调整好测试设备与待测目标后，仅仅调整系统的工作波长和移动切换镜即可对待测目标进行不同波段、不同测试模式的测量，显著提高了测量的便捷性。从工程应用角度考虑，为确保系统的切换复位精度，本发明采用了固定大口径折反射通道，对小口径通道加入反射切换机构的方式。
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公开(公告)号：CN103882378A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410050236.6
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种非线性晶体三硼酸氧钙钇晶体表面高激光损伤阈值增透膜的制备方法。针对YCOB晶体各向异性强及增透膜的损伤机理，该方法的步骤包括YCOB基板的氢氟酸刻蚀、YCOB基板的冷加工、YCOB基板的离子束刻蚀、YCOB基板的超声波清洗、YCOB基板的真空离子束清洗以及YCOB基板上薄膜镀制。由本发明制备的YCOB增透膜光学特性优异、损伤阈值高、环境稳定性好，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、易于推广等优点，在未来的高功率激光薄膜领域具有广泛应用前景。
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公开(公告)号：CN103217730A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310134626.7
申请日：2013-04-18
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/20
Abstract: 本发明涉及一种用于光学滤波的渐变光学厚度负滤光片膜系。该膜系应用光学厚度呈函数渐变的主膜系及匹配膜系构建了窄带高反射、两侧宽带高透射的高性能负滤光片。本发明提出的膜系结构采用两种折射率材料，各膜层光学厚度适合常规薄膜监控方式，相比原有渐变折射率及等效层负滤光片具有更高的可制备性。由本发明构建的窄带负滤光片具有材料选择范围广、能实现频带宽、制作成本低、易于推广等优点，在光电探测器、激光防护、光谱学等领域具有广泛应用前景。
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公开(公告)号：CN103042008A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210569708.X
申请日：2012-12-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在白炽灯照射下基板表面无肉眼可见的污染物为止；将擦拭后的基板置于第一槽碱性溶液，分别用不同频率对基板先后进超声清洗；将所得基板放置于第二槽中，用去离子水喷淋；将基板放置于第三槽去离子水中，分别在不同频率下先后超声3～6分钟，在白炽灯下观测基板表面洁净度，无肉眼可见颗粒后将基板放置于第四槽去离子水中在80KHz超声下进行慢提拉，用热吹风将提拉后的基板干燥，即得到所需产品。本发明将清洗过程与表面检测结合起来，将擦拭法、化学清洗法、超声波清洗法结合起来综合运用，以达到清洗效率高而又对基板光滑表面损伤小的最优清洗效果。
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公开(公告)号：CN102873048A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210417513.3
申请日：2012-10-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜表面的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签轻拭激光薄膜表面，将擦拭后的激光薄膜置于第一清洗槽中，第一清洗槽中加入碱性溶液对该样品进行清洗，溶液温度为室温；所述碱性溶液体积比为NH4OH：H2O2：H2O=1:10:50；将所得溶液分别在120kHz～180kHz、200kHz～300kHz频率下先后超声2～4分钟；所得样品放置于第二清洗槽中，用去离子水漂洗，去离子水温度为室温；将样品放置第三清洗槽3中，第三清洗槽中加入去离子水，分别在120kHz～180kHz、200kHz～300kHz频率下先后超声3～6分钟；取出样品，重复清洗，干燥，即得所需产品。本发明的优点是在达到较高清洗效率、有效去除表面有机污染物和污染颗粒的同时，对激光薄膜不会造成物理损伤，避免了薄膜在高功率激光系统使用中因为薄膜表面吸附的颗粒而引起的薄膜烧蚀损坏，保证激光薄膜在高功率激光系统使用中具有高的损伤阈值。
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