微孔金属箔及其制造方法
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110112422B

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN201910416918.7

    申请日:2019-05-17

    Abstract: 一种微孔金属箔的制造方法,包括如下步骤:S1、在金属箔的第一表面覆盖第一掩膜层,在金属箔的第二表面覆盖第二掩膜层,以形成覆膜金属箔;S2、使用荷能重离子对覆膜金属箔进行辐照,以在第一掩膜层和/或第二掩膜层内形成离子径迹;S3、对辐照后的覆膜金属箔进行蚀刻,以在覆膜金属箔上形成微孔;S4、去除经过蚀刻后的覆膜金属箔表面的第一掩膜层和第二掩膜层,得到微孔金属箔。本发明提供的上述制造方法具有成本低、工艺简单,生产效率高等特点;且按照本发明提供的方法制得的微孔金属箔的孔径较小,能够满足将其作为集流体制作电极的需求。

    中子单色器屏蔽系统
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111627585A

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN201910062118.X

    申请日:2019-01-22

    Abstract: 本发明公开了一种中子单色器屏蔽系统,该中子单色器屏蔽系统包括:屏蔽转鼓,具有一容置空间以容纳单色器,该屏蔽转鼓包含:若干块层叠的屏蔽块;复合楔形块结构,该复合楔形块结构沿着径向分布有至少两层的楔形块结构,每层楔形块结构中包含多个楔形块;以及楔形块提升装置,设置于最高层屏蔽块上,与复合楔形块结构中的楔形块的位置一一对应;其中,通过利用楔形块提升装置提升不同位置处的楔形块,为不同的单色器起飞角提供中子出射孔道。复合楔形块结构在很大程度上减少屏蔽开口尺寸,进而减少非中子路径上的开口的尺寸,能够大大提升屏蔽效果、降低谱仪的本底进而提高谱仪性能。

    具有图案的核孔膜的制造方法

    公开(公告)号:CN111530297A

    公开(公告)日:2020-08-14

    申请号:CN202010380890.9

    申请日:2020-05-08

    Abstract: 本发明公开了一种具有图案的核孔膜的制造方法,包括以下步骤:提供高分子材料薄膜;对高分子材料薄膜进行重离子辐照,以便在高分子材料薄膜中形成核径迹;对经过重离子辐照的高分子材料薄膜的至少一部分进行激光照射,以使高分子材料薄膜的至少一部分中的核径迹发生改变;对经过激光照射的高分子材料薄膜进行化学蚀刻,以便通过化学腐蚀使核径迹形成为微孔,同时在高分子材料薄膜的经过激光照射的至少一部分上和在未被激光照射的其余部分上产生不同的蚀刻效果,从而形成具有图案的核孔膜。本发明以简易、低成本且节约时间的方式制造具有图案的核孔膜,同时减少了胶黏剂和覆膜的使用,减少环境污染。

    发散角连续可调的中子准直器结构及其标定方法

    公开(公告)号:CN109671513B

    公开(公告)日:2020-06-23

    申请号:CN201811618906.4

    申请日:2018-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种发散角连续可调的中子准直器结构及其标定方法,中子准直器结构包括:若干片中子吸收层平行设置,每片中子吸收层的上、下方均固定有调整柱;调整滑块,为一中空框结构,设置于若干片中子吸收层外部;其中,该调整滑块的上、下表面均设置有与中子吸收层对应数量的调整槽,各个调整槽之间的间距沿着中子吸收层平行设置的方向呈渐变分布,中子吸收层的调整柱伸入该调整槽内;以及驱动结构,用于驱动该调整滑块沿着中子吸收层平行设置的方向进行移动,以改变调整柱在调整槽中所处的位置使中子吸收层的间距发生变化,从而实现中子发散角的连续调节。该结构可实现发散角按需调整,满足各种中子实验要求,节约中子束流时间和经费。

    发散角连续可调的中子准直器结构及其标定方法

    公开(公告)号:CN109671513A

    公开(公告)日:2019-04-23

    申请号:CN201811618906.4

    申请日:2018-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种发散角连续可调的中子准直器结构及其标定方法,中子准直器结构包括:若干片中子吸收层平行设置,每片中子吸收层的上、下方均固定有调整柱;调整滑块,为一中空框结构,设置于若干片中子吸收层外部;其中,该调整滑块的上、下表面均设置有与中子吸收层对应数量的调整槽,各个调整槽之间的间距沿着中子吸收层平行设置的方向呈渐变分布,中子吸收层的调整柱伸入该调整槽内;以及驱动结构,用于驱动该调整滑块沿着中子吸收层平行设置的方向进行移动,以改变调整柱在调整槽中所处的位置使中子吸收层的间距发生变化,从而实现中子发散角的连续调节。该结构可实现发散角按需调整,满足各种中子实验要求,节约中子束流时间和经费。

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