公开(公告)号：CN101801846A

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200880107513.5

申请日：2008-10-10

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 八尾章史

IPC: C01B31/06 ,  C09K3/14 ,  C30B29/04

Abstract: 本发明提供一种氟化纳米金刚石分散液的制作方法，其包括以下工序：纯化工序，将氟化纳米金刚石和碳原子数4以下的醇混合，进行超声波处理而制作悬浮液，对所得的悬浮液进行利用离心分离的分级处理而制作氟化纳米金刚石的分散液；干燥工序，从该纯化工序中获得的氟化纳米金刚石的分散液中除去前述醇，从而制作干燥氟化纳米金刚石；再分散工序，将该干燥工序中获得的干燥氟化纳米金刚石和非质子性极性溶剂混合，利用超声波处理而制作氟化纳米金刚石分散液。

公开(公告)号：CN112921320B

公开(公告)日：2023-04-28

申请号：CN202110075293.X

申请日：2016-06-22

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 八尾章史 ,  山内邦裕 ,  藤原昌生 ,  宫崎达夫

IPC: C23F1/10 ,  C23F1/02 ,  C23F1/44 ,  H01L21/306 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213

Abstract: 一种湿式蚀刻方法，其特征在于，其是使用蚀刻液对基板上的含金属膜进行蚀刻的湿式蚀刻方法，前述蚀刻液是三氟甲基与羰基键合而成的β‑二酮的有机溶剂溶液，前述含金属膜包含能够与前述β‑二酮形成络合物的金属元素，前述蚀刻液中所包含的水的量为1质量％以下。

公开(公告)号：CN111052468B

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN201880058447.0

申请日：2018-09-14

Applicant: 电化株式会社 ,  中央硝子株式会社

Inventor： 大角真一朗 ,  永井达也 ,  新井贵子 ,  伊藤哲哉 ,  大森启之 ,  铃木圣唯 ,  八尾章史

IPC: H01M4/62 ,  H01M4/13 ,  H01M4/139

Abstract: 本发明提供一种能够简便地得到粘结性优异的电池用正极、及输出特性与循环特性优异的电池的电池用炭黑。本发明所使用的电池用炭黑的特征在于，按照JIS K6217‑2C法测定的BET比表面积为100m2/g以上，且使用XPS测定的表面氟浓度X(单位：原子％)及表面氧浓度Y(单位：原子％)满足下述的条件(A)及(B)：(A)0.3≤X≤4.0、(B)0.1≤Y≤3.0。

公开(公告)号：CN114512399A

公开(公告)日：2022-05-17

申请号：CN202210020327.X

申请日：2016-07-01

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 大森启之 ,  八尾章史

IPC: H01L21/311

Abstract: 本发明的干式蚀刻方法的特征在于：其是对形成在基板上的硅氧化物层与硅氮化物层的积层膜，隔着形成在所述积层膜上的掩模，进行使干式蚀刻剂等离子体化并施加500V以上的偏压电压的蚀刻，从而对该层形成垂直方向的贯通孔的方法，并且所述干式蚀刻剂至少包含C3H2F4、CxFy所表示的不饱和全氟碳及氧化性气体，且所述干式蚀刻剂中所含的所述不饱和全氟碳的体积为所述干式蚀刻剂中所含的所述C3H2F4的体积的0.1～10倍的范围。通过该干式蚀刻方法，可以将SiOx的蚀刻速度相对于SiN的蚀刻速度的比(SiN/SiOx比)任意地控制在0.90～1.5之间，并且也可以对掩模实现高蚀刻选择性。

公开(公告)号：CN108028307B

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN201680056060.2

申请日：2016-09-26

Applicant: 中央硝子株式会社 ,  东北泰克诺亚奇股份有限公司

Inventor： 菊池亚纪应 ,  八尾章史 ,  寒川诚二 ,  小野崇人

IPC: H01L35/26 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B33/02 ,  H01L29/06 ,  H01L35/14 ,  H01L35/32 ,  H01L35/34

Abstract: 本发明使用硅系材料，得到能发挥良好的热电转换性能的热电转换材料。使用下述热电转换材料，其特征在于，直径20nm以下的柱状或球状的纳米点(1)以面密度为5×1010个/cm2以上、所述纳米点间的间隔为0.5nm以上且30.0nm以下的方式嵌入于嵌入层(3)，构成纳米点(1)的第1材料为包含30原子％以上的硅的材料，相对于构成嵌入层(3)的第2材料，第1材料的价带与第2材料的价带的能量之差、及第1材料的导带与第2材料的导带的能量之差中的任一个或两个处于0.1eV以上且0.3eV以下的范围。

公开(公告)号：CN111491893A

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201880081620.9

申请日：2018-10-04

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 长友真圣 ,  八尾章史 ,  上岛修平 ,  菊池亚纪应

IPC: C01G41/04

Abstract: 本发明提供一种使钨与含氟气体在800℃以上进行反应而制造六氟化钨的方法。本发明的方法中，与边将反应温度控制为400℃以下边由含氟气体与金属钨得到六氟化钨的现有技术相比，能够增加单位反应容器中的制造量。反应容器中，优选装备有用于将反应容器的内壁面温度保持为400℃以下的制冷剂夹套。

公开(公告)号：CN110832106A

公开(公告)日：2020-02-21

申请号：CN201880044231.9

申请日：2018-07-24

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 八尾章史 ,  长友真圣 ,  池田晋也

IPC: C23C8/08 ,  F16J12/00 ,  F17C1/10 ,  F17C13/00

Abstract: 本发明的已完成填充的容器的制造方法的特征在于，包括如下工序：准备金属制的保存容器的工序，所述金属制的保存容器至少内表面由锰钢构成、且该内表面的表面粗糙度Rmax为10μm以下；氟化工序，在50℃以下，使上述保存容器的内表面与包含选自由ClF3、IF7、BrF5、F2和WF6组成的组中的至少一种第1含氟气体的气体接触；置换工序，对上述保存容器的内部用非活性气体进行置换；和，填充工序，在上述保存容器的内部填充选自由ClF3、IF7、BrF5、F2和WF6组成的组中的至少一种第2含氟气体。

公开(公告)号：CN107924837A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680044981.7

申请日：2016-07-01

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 大森启之 ,  八尾章史

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01J2237/3341 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

Abstract: 本发明的干式蚀刻方法的特征在于：其是对形成在基板上的硅氧化物层与硅氮化物层的积层膜，隔着形成在所述积层膜上的掩模，进行使干式蚀刻剂等离子体化并施加500V以上的偏压电压的蚀刻，从而对该层形成垂直方向的贯通孔的方法，并且所述干式蚀刻剂至少包含C3H2F4、CxFy所表示的不饱和全氟碳及氧化性气体，且所述干式蚀刻剂中所含的所述不饱和全氟碳的体积为所述干式蚀刻剂中所含的所述C3H2F4的体积的0.1～10倍的范围。通过该干式蚀刻方法，可以将SiOx的蚀刻速度相对于SiN的蚀刻速度的比(SiN/SiOx比)任意地控制在0.90～1.5之间，并且也可以对掩模实现高蚀刻选择性。

公开(公告)号：CN107533971A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680027447.5

申请日：2016-06-22

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 八尾章史 ,  山内邦裕 ,  藤原昌生 ,  宫崎达夫

IPC: H01L21/308 ,  C23F1/10

Abstract: 一种湿式蚀刻方法，其特征在于，其是使用蚀刻液对基板上的含金属膜进行蚀刻的湿式蚀刻方法，前述蚀刻液是三氟甲基与羰基键合而成的β‑二酮的有机溶剂溶液，前述含金属膜包含能够与前述β‑二酮形成络合物的金属元素。

公开(公告)号：CN103429790A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201280013502.7

申请日：2012-01-27

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 毛利勇 ,  八尾章史 ,  菊池亚纪应 ,  米仓正明 ,  堀内大嗣

IPC: C25B11/12 ,  C25B1/24 ,  C25B11/04 ,  C25D9/06

CPC classification number: C25B11/0478 ,  C25B1/245 ,  C25B11/12 ,  C25D3/66 ,  C25D9/06

Abstract: 本发明的氟化合物的电解合成用电极具备：电极基材，至少其表面由导电性炭材料构成；导电性金刚石层，覆盖于前述电极基材表面的一部分上；和含金属氟化物膜，覆盖于没有被前述导电性金刚石层覆盖的前述电极基材的露出部上。该电解合成用电极能够抑制电极表面上的氟化石墨层的生成，防止电极的有效电解面积的减少，在包含氟化氢的熔融盐电解浴中稳定地实施电解。