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公开(公告)号：CN103848577A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201210509476.9
申请日：2012-12-03
Applicant: 联建(中国)科技有限公司 , 胜华科技股份有限公司
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C23/0055 , Y10T428/315
Abstract: 本发明公开了一种以离子注入强化玻璃的方法，包括下列步骤。首先，提供一离子注入装置。离子注入装置产生多个正离子与多个负离子。然后，利用离子注入装置将正离子与负离子注入一玻璃基底中用以强化玻璃基底。
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公开(公告)号：CN103108981A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201180037701.7
申请日：2011-07-01
Applicant: 阿普塔尔法国简易股份公司
CPC classification number: C23C14/48 , A61F9/00 , A61L2/16 , B05B11/3001 , B05B15/18 , B65D83/48 , C03C23/0055 , C08J7/123 , C08J7/18
Abstract: 本发明涉及流体产品分配设备的表面处理方法。该方法包括用多电荷且多能量的离子束通过离子植入对所述设备的至少一部分的至少一个待处理表面进行改性的步骤，改性的所述待处理表面具有抗摩擦性能。所述多电荷离子选自氦（He）、氮（N）、氧（O）、氖（Ne）、氩（Ar）、氪（Kr）、氙（Xe），离子植入进行至0至3μm的深度。
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公开(公告)号：CN1762873B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200510051654.8
申请日：2005-02-22
Applicant: 应用材料合资有限公司
CPC classification number: C03C17/36 , C03C17/3423 , C03C17/366 , C03C23/0055
Abstract: 本发明涉及玻璃涂层和生产这种玻璃涂层的方法。玻璃涂层包含第一层ZnO层和沉积在其上的Ag第二层。在ZnO层涂敷ZnO层之前，后者用离子照射。
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公开(公告)号：CN101006198A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200580027570.9
申请日：2005-08-18
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: C23C16/48 , C23C16/50 , C23C16/503 , C23C16/507 , C23F1/00 , H01L21/306 , G21K5/10 , H01J37/08
CPC classification number: C03C23/0055 , B08B7/0057 , B08B7/0071 , C03C15/00 , C03C23/002 , H01J37/321 , H01J37/32412 , H01J2237/335 , H01L21/02046 , H01L21/26513
Abstract: 本发明包括一种方法和一种设备，可以在离子注入室或与离子注入室相连的隔离室内，在离子注入之前去除晶片表面上的污染物和氧化表层。用于去除污染物的手段包括组合或单独地进行低能量等离子刻蚀、加热晶片、以及应用紫外线照射。其结果是，可以在清洗/准备步骤之后立即进行注入，而没有将晶片的晶片表面暴露在外部环境下而受到污染物的潜在危险。该准备过程可以去除诸如水蒸气、有机物和表面氧化物等表面污染物。
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公开(公告)号：CN103906716A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201280052406.3
申请日：2012-08-17
Applicant: 葛迪恩实业公司
CPC classification number: C03C21/007 , C03C23/0055 , C03C23/006 , C03C25/607 , C03C25/6286 , C23C14/48 , C23C16/513 , H01J37/32018 , H01J2237/327
Abstract: 本发明的示例性实施例涉及一种强化玻璃基板(例如，钠钙硅玻璃基板)的改进方法。在示例性实施例中，通过在玻璃内生成电场来化学地强化玻璃基板。在一些特定情况下，可通过包含有类似Li+、K+、Mg2+、和/或其他离子的等离子围绕基板来执行化学钢化。在一些情况下，该离子可经电极产生的电场的半周期被推动进入玻璃基板从而形成等离子。其可有利于通过缩短的时间比例来化学地强化玻璃基板。在另一些示例性实施例中，电场可设置在浮槽中，从而钠离子从熔化的玻璃带中被推动进入锡槽，其有利于获得更坚固的玻璃基板且钠含量减少。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103097571A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201180037686.6
申请日：2011-07-01
Applicant: 阿普塔尔法国简易股份公司
IPC: C23C14/48 , A61F9/00 , A61L2/16 , C08J7/18 , H01J37/317 , A61J1/00 , A61M15/00 , B65D1/00 , B05B11/00 , A61M11/00 , C08J7/12 , C23C14/46
CPC classification number: B01J19/085 , A61M15/00 , A61M2205/0205 , B05B11/0005 , B65D81/24 , B65D83/75 , C03C23/0055 , C08J7/123 , C08J7/18 , C23C14/48 , H01J37/3171 , H01J2237/2004
Abstract: 本发明涉及流体产品分配设备的表面处理方法。该方法包括用多电荷且多能量的离子束通过离子植入对与所述流体产品接触的所述设备的至少一部分的至少一个待处理表面进行改性的步骤，改性的所述表面具有限制在改性的所述表面上形成生物膜并因而限制细菌的出现和/或繁殖的性能。所述多电荷离子选自氦、硼、碳、氮、氧、氖、氩、氪、氙，离子植入进行至0至3μm的深度。
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公开(公告)号：CN1871180B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN03803599.5
申请日：2003-01-13
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: C03C17/3417 , C03C17/42 , C03C23/0055 , C03C2218/355 , C03C2218/365 , G02B1/105 , G02B1/115 , G02B1/12 , G02B1/14 , G02B1/18 , Y10T428/31507
Abstract: 本发明涉及一种用于处理眼镜片的方法，所述眼镜片包括两个主要侧面，其中第一侧面包括一个薄的外部有机或无机层，所述方法包括：至少一个处理步骤，所述处理步骤通过能进行表面物理冲击和/或化学改性的高能和/或反应性物质用于第二镜片侧面；任选地，至少一个或多个用于淀积无机层或有机层的步骤，所述至少一个或多个步骤通过所述高能和/或反应性物质与处理步骤同时或随后进行，其特征在于：在通过高能和/或反应性物质的处理步骤之前，将一个临时保护层淀积到薄的外部有机或无机层上。应用于眼光学元件。
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公开(公告)号：CN101031520A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200580013796.3
申请日：2005-04-27
Applicant: 法国圣戈班玻璃厂
CPC classification number: C03C15/00 , B24B13/015 , B24B19/26 , C03C17/30 , C03C17/42 , C03C19/00 , C03C23/0055 , C03C23/006 , C03C2217/75 , C03C2217/76 , C03C2218/31 , Y10T428/315
Abstract: 本发明涉及一种曲面的窗格玻璃，其至少有一面主表面被活化。特别的，所述的活化通过直接摩擦玻璃表面的打磨操作来实现。理想地，使用自闭合的和在玻璃表面上运行的打磨带。活化后，可沉积憎水性涂层，例如通过使用氟化硅烷。该涂有憎水性涂层的玻璃可用作机动车辆上的窗玻璃。
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公开(公告)号：CN1862289A
公开(公告)日：2006-11-15
申请号：CN200510034655.1
申请日：2005-05-13
Applicant: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 , 鸿海精密工业股份有限公司
Inventor： 吕昌岳
CPC classification number: C03C23/0055 , G02B3/0087
Abstract: 本发明提供一种梯度折射率透镜，其包括：一预定形状的透镜基体；以及所述透镜基体中通过离子植入法植入呈预定梯度浓度分布的添加物，使其折射率具有相应梯度分布。本发明还提供所述梯度折射率透镜的制备方法。
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公开(公告)号：CN1762873A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200510051654.8
申请日：2005-02-22
Applicant: 应用薄膜两合公司
CPC classification number: C03C17/36 , C03C17/3423 , C03C17/366 , C03C23/0055
Abstract: 本发明涉及玻璃涂层和生产这种玻璃涂层的方法。玻璃涂层包含第一层ZnO层和沉积在其上的Ag第二层。在ZnO层涂敷ZnO层之前，后者用离子照射。
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