微流体装置的制造方法、微流体装置及微流体装置制造用感光性树脂组合物

    公开(公告)号:CN106066575A

    公开(公告)日:2016-11-02

    申请号:CN201610246881.4

    申请日:2016-04-20

    Abstract: 本发明提供一种微流体装置的制造方法、微流体装置及微流体装置制造用感光性树脂组合物,制造方法包括:由感光性树脂组合物在支撑体上形成树脂层的工序,感光性树脂组合物含有具有至少两个自由基聚合性基的化合物、光自由基产生剂、具有至少两个阳离子反应性基的化合物、光阳离子产生剂以及选自具有保护基的胺、光降解性碱、具有酰亚胺结构的化合物、具有酰胺结构的化合物及具有脲结构的化合物中的至少一种化合物;对树脂层的一部分进行紫外线曝光及显影的工序;在显影后的树脂层上载置覆盖材料而获得层压体的工序;及对所得的层压体进行紫外线曝光的工序。由于光刻后的经图案化的树脂层具有充分的强度与粘性,从而使微流体装置具有良好的流路。

    硅烷化合物、聚硅氧烷以及放射线敏感性树脂组合物

    公开(公告)号:CN1886410A

    公开(公告)日:2006-12-27

    申请号:CN200480034903.6

    申请日:2004-10-14

    Abstract: 本发明提供适合作为I-D偏差、焦点会聚范围(DOF)等特别优异的化学放大型抗蚀剂中的树脂成分的新型聚硅氧烷,作为合成该聚硅氧烷的原料等有用的新型硅烷化合物,和含有该聚硅氧烷的放射线敏感性树脂组合物。硅烷化合物用下述式(I)表示。聚硅氧烷具有下述式(1)表示的结构单元(R表示烷基,R1与R2表示氟原子、低级烷基或低级氟代烷基,n是0或1,k是1或2,i是0~10的整数)。放射线敏感性树脂组合物含有该聚硅氧烷和放射线敏感性酸发生剂。

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