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公开(公告)号：CN111902747A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980021633.1
申请日：2019-03-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02B5/20 , C08L101/00 , C09D7/61 , C09D201/00 , G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种可获得涂布性及图案化性优异且具有良好的遮光性的硬化膜的硬化膜的形成方法以及可获得涂布性及图案化性优异且具有良好的遮光性的硬化膜的硬化性组合物。本发明为一种硬化膜的形成方法，其包括：(1)在基板上形成具有凸部的模板的步骤；(2)通过硬化性组合物而在所述模板的凸部间形成涂膜的步骤；以及(3)使所述涂膜硬化的步骤，并且所述硬化性组合物包含白色颜料、黑色颜料或这些的组合的颜料；硬化性化合物；及溶媒，且所述颜料相对于所述溶媒除外的所有成分的含量为50质量％以上、90质量％以下，所述溶媒的相对介电常数为6.0以下。
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公开(公告)号：CN105143977A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480023657.8
申请日：2014-04-15
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种用于抑制膜形成油墨的濡湿扩散、洇渗而形成高精细图案的具有凹图案的基材的制造方法，且提供一种用于制造所述基材的组合物，并提供一种导电膜的形成方法、电子电路及电子元件。具有凹图案的基材的制造方法包括以下步骤：在基板1上(i)涂布含有具有酸解离性基的聚合物及酸产生剂的组合物而形成涂膜2的步骤；以及(ii)对涂膜2的既定部分进行放射线照射的步骤。导电膜的形成方法中，对涂膜2的经曝光的部分中所形成的凹图案涂布导电膜形成油墨，进行加热，形成图案6。使用导电膜的形成方法来提供电子电路及电子元件。
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公开(公告)号：CN101539723B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN200910008068.3
申请日：2009-02-20
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/004 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供着色层形成用放射线敏感性组合物，该组合物即使在低曝光量下，也可以形成显影时不发生像素图案的缺损或脱落、并且无水斑(显影、水洗后像素图案上产生的斑点状色斑)的高品质的像素。一种着色层形成用放射线敏感性组合物，其特征在于：含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体、(D)光聚合引发剂、以及(E)N-羟基邻苯二甲酰亚胺所代表的特定的酰亚胺化合物。
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公开(公告)号：CN101174089B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN200710180825.6
申请日：2007-10-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/028 , G03F7/00 , G02F1/1339
Abstract: 本发明提供一种含有(A)至少含有1种来自(a1)分子内含有至少2个聚合性不饱和基的化合物的聚合单元的共聚物、(B)聚合性不饱和化合物和(C)放射线敏感性聚合引发剂的用于形成间隔体的放射线敏感性树脂组合物。提供高灵敏度、高分辨率且可以形成图案形状、压缩特性、摩擦耐性、耐热性等各种性能优异的图案状薄膜、抑制了烧结时的升华物的产生、抑制了LCD显示中的图像残留、对于负载负荷不易产生塑性变形、对于取向膜剥离液等化学试剂具有充分的耐性的用于形成间隔体的放射线敏感性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN101311829B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200810109115.9
申请日：2008-05-23
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 浜口仁
IPC: G03F7/028 , G03F7/00 , G02F1/1339 , G02F1/1333
Abstract: 本发明涉及感放射线性树脂组合物、间隔物和保护膜及其形成方法。所述感放射线性树脂组合物的其特征在于，含有下述成分：(A)含有(a1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的至少1种的不饱和化合物的共聚物、(B)聚合性不饱和化合物、(C)感放射线性聚合引发剂、和(D)具有下式(1)表示的结构的化合物，式(1)中，“*”表示连接键。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101311829A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200810109115.9
申请日：2008-05-23
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 浜口仁
IPC: G03F7/028 , G03F7/00 , G02F1/1339 , G02F1/1333
Abstract: 本发明涉及感放射线性树脂组合物、间隔物和保护膜及其形成方法。所述感放射线性树脂组合物的其特征在于，含有下述成分：(A)含有(a1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的至少1种的不饱和化合物的共聚物；(B)聚合性不饱和化合物；(C)感放射线性聚合引发剂；和(D)具有下式(1)表示的结构的化合物。式(1)中，“*”表示连接键。
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公开(公告)号：CN1834744A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610058552.3
申请日：2006-03-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1333 , G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题，本发明提供一种用于形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于：包括，[A]将下述(a1)～(a3)共聚而得到的共聚物，其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)是含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和下式(1)所示的骨架的不饱和化合物，(式中，R表示氢或甲基，n是2～1 0的整数)(a3)是上述(a1)～(a2)成分以外的其它不饱和化合物；[B]聚合性不饱和化合物；和[C]放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN107073516B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201580048538.2
申请日：2015-09-08
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种具有凹图案的构造体的制造方法、树脂组合物、导电膜的形成方法、电子电路及电子器件，所述构造体的制造方法包括下述步骤(i)及(ii)，所述构造体具有相对于下述步骤(i)中获得的涂膜的膜厚而薄5％以上且小于90％的膜厚的凹图案。(i)使用包含具有酸解离性基的聚合体及酸产生剂的树脂组合物，在构造体的非平坦面上形成涂膜的步骤；以及(ii)通过对所述涂膜的一部分的既定部分进行放射线照射而形成凹部的步骤。本发明可在具有非平坦面的构造体上容易形成所需的凹图案，通过使用具有该凹图案的构造体，可防止导电膜形成用组合物的润湿扩展或渗透，可容易形成高精细且对具有非平坦面的构造体的密合性优异的导电膜。
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公开(公告)号：CN107193186A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201710155257.8
申请日：2017-03-13
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种削减光刻步骤数、且可形成微细的图案的图案形成方法及感放射线性树脂组合物。本发明的图案形成方法包括：在基板上形成具有疏液性、且通过照射能量而亲液化的第1涂膜的步骤；将基板上的第1区域的绝缘层去除的步骤；以及在配置于基板上的除第1区域以外的区域的至少一部分中的第2区域中形成凹图案的步骤；且将第1区域的绝缘层去除的步骤包含照射特定波长的能量并使第1区域的第1涂膜接触特定的药液，而将第1区域的第1涂膜去除的步骤，在第2区域中形成凹图案的步骤包含照射特定波长的能量而使第2区域的绝缘层的表面亲液化的步骤。
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公开(公告)号：CN101458452B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN200810172759.2
申请日：2008-12-12
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 浜口仁
IPC: G03F7/028 , G03F7/00 , G02F1/1339
Abstract: 本发明提供一种射线敏感性树脂组合物、液晶显示元件的分隔物和保护膜以及它们的形成方法。射线敏感性树脂组合物具有高的射线敏感性，即使是低曝光量也能够形成尺寸精度和强度优异、在显影工序和打磨工序中形成图案不会脱落、具有能够耐受液晶取向膜形成时的焙烧温度的耐热性、对于液晶取向膜剥离液的耐久性优良、不会发生“残像”的图案状薄膜，并且在加热工序中不会产生升华产物。上述射线敏感性树脂组合物包含：(A)分子内具有选自由羧基和酸酐基团构成的物质组中的至少一种基团和聚合性不饱和键的聚合物；(B)具有聚合性不饱和键的单体；(C)射线敏感性聚合引发剂；以及(D)具有下述式(1)表示的结构的化合物，，式(1)中，“*”表示键合点。
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