图案形成方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107193186B

    公开(公告)日:2020-11-24

    申请号:CN201710155257.8

    申请日:2017-03-13

    Abstract: 本发明提供一种削减光刻步骤数、且可形成微细的图案的图案形成方法及感放射线性树脂组合物。本发明的图案形成方法包括:在基板上形成具有疏液性、且通过照射能量而亲液化的第1涂膜的步骤;将基板上的第1区域的绝缘层去除的步骤;以及在配置于基板上的除第1区域以外的区域的至少一部分中的第2区域中形成凹图案的步骤;且将第1区域的绝缘层去除的步骤包含照射特定波长的能量并使第1区域的第1涂膜接触特定的药液,而将第1区域的第1涂膜去除的步骤,在第2区域中形成凹图案的步骤包含照射特定波长的能量而使第2区域的绝缘层的表面亲液化的步骤。

    图案形成方法及感放射线性树脂组合物

    公开(公告)号:CN107193186A

    公开(公告)日:2017-09-22

    申请号:CN201710155257.8

    申请日:2017-03-13

    Abstract: 本发明提供一种削减光刻步骤数、且可形成微细的图案的图案形成方法及感放射线性树脂组合物。本发明的图案形成方法包括:在基板上形成具有疏液性、且通过照射能量而亲液化的第1涂膜的步骤;将基板上的第1区域的绝缘层去除的步骤;以及在配置于基板上的除第1区域以外的区域的至少一部分中的第2区域中形成凹图案的步骤;且将第1区域的绝缘层去除的步骤包含照射特定波长的能量并使第1区域的第1涂膜接触特定的药液,而将第1区域的第1涂膜去除的步骤,在第2区域中形成凹图案的步骤包含照射特定波长的能量而使第2区域的绝缘层的表面亲液化的步骤。

    金属膜的形成方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101365821B

    公开(公告)日:2011-10-05

    申请号:CN200680052501.8

    申请日:2006-07-27

    Abstract: 本发明涉及一种使形成有选自钴化合物、钌化合物和钨化合物中的至少一种金属化合物的膜的基体上的金属化合物升华,将该升华气体向用于形成金属膜的基体供给并分解,由此在基体表面上形成金属膜的方法。提供一种能简单形成下述金属膜的方法:在绝缘体基板的沟槽内,采用镀敷法将金属特别是铜埋入之际,在形成种子层的同时,还起到防止金属原子向绝缘膜迁移的阻挡层的作用,且和绝缘体的密合性优良的金属膜。

    液晶取向剂、液晶显示元件、聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物

    公开(公告)号:CN101747907B

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN200910224357.7

    申请日:2009-12-02

    Abstract: 本发明涉及一种液晶取向剂、液晶显示元件、聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物。提供能够形成电学性能下降较小的液晶取向膜、且即使以少量的液体量进行印刷时印刷性也优良的液晶取向剂,以及即使进行长时间连续驱动显示品质也不会下降的液晶显示元件。上述液晶取向剂含有选自使含有2,3,5-三羧基环戊基醋酸二酐的四羧酸二酐与含有具有烷基二环己基的特定二胺的二胺反应而制得的聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物构成的群组中的至少一种聚合物。上述液晶显示元件具有由上述液晶取向剂形成的液晶取向膜。

    液晶取向剂、液晶显示元件、聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物

    公开(公告)号:CN101747907A

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200910224357.7

    申请日:2009-12-02

    Abstract: 本发明涉及一种液晶取向剂、液晶显示元件、聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物。提供能够形成电学性能下降较小的液晶取向膜、且即使以少量的液体量进行印刷时印刷性也优良的液晶取向剂,以及即使进行长时间连续驱动显示品质也不会下降的液晶显示元件。上述液晶取向剂含有选自使含有2,3,5-三羧基环戊基醋酸二酐的四羧酸二酐与含有具有烷基二环己基的特定二胺的二胺反应而制得的聚酰胺酸及其酰亚胺化聚合物构成的群组中的至少一种聚合物。上述液晶显示元件具有由上述液晶取向剂形成的液晶取向膜。

    金属膜的形成方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101365821A

    公开(公告)日:2009-02-11

    申请号:CN200680052501.8

    申请日:2006-07-27

    Abstract: 本发明涉及一种使形成有选自钴化合物、钌化合物和钨化合物中的至少一种金属化合物的膜的基体上的金属化合物升华,将该升华气体向用于形成金属膜的基体供给并分解,由此在基体表面上形成金属膜的方法。提供一种能简单形成下述金属膜的方法:在绝缘体基板的沟槽内,采用镀敷法将金属特别是铜埋入之际,在形成种子层的同时,还起到防止金属原子向绝缘膜迁移的阻挡层的作用,且和绝缘体的密合性优良的金属膜。

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