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公开(公告)号：CN105312189A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201410441705.7
申请日：2014-09-01
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
CPC classification number: B05B15/002 , B01F5/106 , B01F15/00155 , B01F15/0462 , B01F15/0475 , B05B15/20
Abstract: 本发明提供一种吐出装置及涂布系统。其中，吐出装置包括一容器、一泵、多条管路以及一调整装置。容器具有一腔室以及连接腔室的一第一出入口与一第二出入口，并且腔室适于盛装一流体。多条管路连接于泵以及容器的第一出入口与第二出入口之间，以形成一流体回路。泵适于驱动流体于流体回路内流动。调整装置耦接于容器，用以调整腔室的容积。此外，一种涂布系统也被提及。
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公开(公告)号：CN105025647A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201410359001.5
申请日：2014-07-25
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: H05H1/28
CPC classification number: H05H1/34 , H01J37/32055 , H01J37/32449 , H01J37/32596 , H01J2237/006 , H05H2001/3463 , H05H2001/3468
Abstract: 本发明提供一种等离子体装置，包括一外壳、一第一电极、一第二电极、一喷嘴以及一气体喷出口。外壳具有一第一腔室。该第一电极为一第一管状电极，第一管状电极设置在第一腔室中，且具有一第二腔室。第二电极具有与第二腔室连通的一第三腔室，其中第二电极能相对于外壳旋转。第二腔室与第三腔室适于容纳第一电极与第二电极间所形成的一等离子体。喷嘴与气体喷出口分别独立地设置在第二电极的底部，其中喷嘴用以喷出等离子体，并与第二电极的旋转轴心之间具有一夹角或与轴心相距一段距离，而气体喷出口用以喷出一冷却气体。
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公开(公告)号：CN1993010A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200510003377.3
申请日：2005-12-31
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
Abstract: 一种等离子放电装置及其应用方法。该等离子放电装置至少包含外电极、绝缘层以及内电极。外电极至少包括：一第一部分具有一第一腔室，且第一腔室具有第一孔径，其中第一腔室具有一底板，且底板设有一开口；以及一第二部分连接到第一部分下，且具有第二腔室贯穿第二部分，第二腔室具有第二孔径，其中第二腔室与底板的开口连接，且第一孔径大于第二孔径。绝缘层位于第一腔室的内壁上。内电极设于外电极内的第一腔室的前端，并相对于底板的开口。
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公开(公告)号：CN1782123A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200410096585.8
申请日：2004-12-03
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: C23C16/26 , C23C16/27 , C23C16/02 , C23C16/513
Abstract: 本发明提供了一种耐磨耗、可由低温工艺形成，且具有高附着力的类金刚石碳薄膜及其制造方法，本发明的方法是利用有机硅氧化合物，如六甲基二硅醚混合含氢碳源，以薄膜沉积的方法，并且在工艺中逐渐改变有机硅氧化合物与含氢碳源的比例，在基材上形成一含硅氧化合物的中间层。最后在中间层上方以含氢碳源作薄膜沉积镀覆实质为类金刚石碳材质的一表层，以形成一高附着力的类金刚石碳薄膜。该类金刚石碳薄膜提供适当的硬度/韧性比例，使中间层具有足够的机械支撑力，更使得高硬度的类金刚石碳材质得以附着于基材上不易脱落。
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公开(公告)号：CN110846640A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201910073881.2
申请日：2019-01-25
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: C23C16/513
Abstract: 一种电浆镀膜装置。此电浆镀膜装置包含常压电浆产生器以及至少一进料治具。常压电浆产生器包含管状电极以及旋转喷嘴。旋转喷嘴设于管状电极的底部。旋转喷嘴具有电浆喷口以及外侧面，且外侧面的下部的外径由管状电极的底部往电浆喷口的方向渐缩。进料治具设于旋转喷嘴的外侧面的外围。进料治具包含至少一前驱物喷口。进料治具配置以经由前驱物喷口朝旋转喷嘴的外侧面的下部喷射镀膜前驱物。电浆喷口喷出电浆时会在电浆喷口附近形成低压区，镀膜前驱物被低压区吸引而顺着旋转喷嘴的外侧面的下部流至电浆喷口前来与电浆反应。借此，可解决旋转喷嘴及管状电极内部的镀膜原料污染问题，且可提升电浆的稳定度、镀膜作业的效率，进而可提高镀膜品质。
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公开(公告)号：CN110465203A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201810609062.0
申请日：2018-06-13
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
Inventor： 徐逸明
Abstract: 一种提高抗污膜的附着力的方法。在此方法中，提供基板。形成改质镀膜于基板的表面上，其中形成改质镀膜时包含使用前驱物，此前驱物包含硅碳氧分子。涂布抗污分子于改质镀膜上。进行烘烤制程。由于氢氧(-OH)官能基可顺利形成在使用含硅碳氧分子的前驱物所形成的改质镀膜表面上，而抗污分子可与这些氢氧官能基产生键结，借此可提高抗污膜的附着力。
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公开(公告)号：CN208353689U
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201820649918.2
申请日：2018-05-03
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: H05H1/34
Abstract: 一种电浆火炬。此电浆火炬包含外电极、内电极、以及喷嘴。外电极具有腔室，腔室的末端具有开口。内电极设于外电极内的腔室中，并相对于腔室的开口。喷嘴接合于外电极的开口，其中喷嘴具有主要开孔以及数个凹槽，这些凹槽设于主要开孔的外缘且与主要开孔连通。主要开孔中的大气流有分流会旋入凹槽中而破坏大气流，可破坏因大气流所造成的电浆被局限在中心区域的机制，因此可放大电浆火炬的电浆区域，使得电浆火炬可进行大面积的电浆处理。
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公开(公告)号：CN205701219U
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201620278118.5
申请日：2016-04-05
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
Abstract: 一种抗污涂层的涂布设备，包含上料站、多个真空腔室及常压涂布站。上料站用以承载并传送载盘与其上的工件。真空腔室包含降压腔室、等离子体辅助化学气相沉积腔室及升压腔室。降压腔室与上料站串接。降压腔室用以接收来自上料站的载盘与工件，且将腔室压力降至真空。等离子体辅助化学气相沉积腔室用以接收来自降压腔室的载盘与工件、及在工件上形成中间层。升压腔室用以接收来自等离子体辅助化学气相沉积腔室的载盘与工件，及将腔室压力提升至真空腔室外的压力。常压涂布站用以接收来自升压腔室的载盘与工件、及在中间层上形成抗污涂层。涂布设备形成均匀中间层及具类水草结构的单分子抗污涂层，故抗污涂层具高均匀度、无膜层应力问题及手指滑度触感佳的优点。
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