脉冲激光沉积系统及采用该系统来沉积薄膜的方法

    公开(公告)号:CN106399949A

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201610905668.X

    申请日:2016-10-18

    Inventor: 石永敬

    CPC classification number: C23C14/28

    Abstract: 本发明提供一种脉冲激光沉积系统及采用该系统来沉积薄膜的方法,该系统包括真空室、衬底承载架、非平衡磁极辅助靶、激光器和光路系统,其中衬底承载架设置在真空室的下侧,非平衡磁极辅助靶设置在真空室内且其面向真空室内侧的一面上设置有至少一对磁极且在该对磁极之间形成有非平衡磁场,在该对磁极之间设置有靶材,激光器产生的激光束通过光路系统聚焦至所述靶材表面,以在靶材上产生烧蚀等离子体,烧蚀等离子体在非平衡磁场的作用下做进一步电离并均匀分布至靶材表面。通过本发明,可以有效解决激光沉积薄膜的厚度及成分的均匀性。

    磁极辅助非平衡磁控溅射装置

    公开(公告)号:CN106637109A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201610906281.6

    申请日:2016-10-18

    Inventor: 石永敬

    CPC classification number: C23C14/351 H01J37/3405 H01J37/3452

    Abstract: 本发明提供一种磁极辅助非平衡磁控溅射装置,包括真空室、非平衡磁控电极、辅助磁极和衬底承载架,衬底承载架设置在真空室的下侧,非平衡磁控电极设置在真空室上侧的中心位置处,辅助磁极设置在非平衡磁控电极的两侧;或者非平衡磁控电极均匀分布在以真空室上侧中心为圆心的同一圆周上,辅助磁极均匀分布在真空室内壁的等高线上和/或设置在真空室上侧的中心位置处,当存在偶数个非平衡磁控电极时,至少一对并排设置的非平衡磁控电极的两侧设置有辅助磁极,当存在奇数个非平衡磁控电极时,均匀分布在真空室内壁的等高线上的辅助磁极的个数等于非平衡磁控电极的个数。通过本发明可以提高沉积薄膜在成分、微观结构及厚度上的均匀性高。

    等离子体增强磁控溅射系统及方法

    公开(公告)号:CN105862005A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201610458183.0

    申请日:2016-06-22

    CPC classification number: C23C14/35 C23C14/46 C23C14/505 C23C14/56

    Abstract: 本发明提供一种等离子体增强磁控溅射系统及方法,该系统包括真空室、非平衡磁控溅射阴极、样品架和等离子体发生器,样品架和非平衡磁控溅射阴极都设置在真空室内,且非平衡磁控溅射阴极位于样品架的上方;等离子体发生器与真空室连通;等离子体发生器用于对注入其内的气体进行等离子体化,并将气体的等离子体输送至真空室内;非平衡磁控溅射阴极用于对气体的等离子体进一步电离,并溅射靶材,产生气源沉积到样品架上的衬底上。通过本发明,可以使单位时间内轰击到样品架上衬底表面的等离子密度增大,由此可以提高薄膜质量;另外可以提高薄膜的致密度并降低沉积薄膜的成本。

    等离子体增强磁控溅射系统

    公开(公告)号:CN206616268U

    公开(公告)日:2017-11-07

    申请号:CN201720388897.9

    申请日:2017-04-14

    Abstract: 本实用新型提供一种等离子体增强磁控溅射系统,该系统包括真空室、非平衡磁控溅射阴极、样品架和等离子体发生器,样品架和非平衡磁控溅射阴极都设置在真空室内,且非平衡磁控溅射阴极位于样品架的上方;等离子体发生器与真空室连通;等离子体发生器用于对注入其内的气体进行等离子体化,并将气体的等离子体输送至真空室内;非平衡磁控溅射阴极用于对气体的等离子体进一步电离,并溅射靶材,产生气源沉积到样品架上的衬底上。通过本实用新型,可以使单位时间内轰击到样品架上衬底表面的等离子密度增大,由此可以提高薄膜质量;另外可以提高薄膜的致密度并降低沉积薄膜的成本。

    脉冲激光沉积系统
    19.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207775343U

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201721304052.3

    申请日:2017-10-11

    Inventor: 石永敬

    Abstract: 本实用新型提供一种脉冲激光沉积系统,该系统包括真空室、衬底承载架、非平衡磁极辅助靶、激光器和光路系统,其中衬底承载架设置在真空室的下侧,非平衡磁极辅助靶设置在真空室内且其面向真空室内侧的一面上设置有至少一对磁极且在该对磁极之间形成有非平衡磁场,在该对磁极之间设置有靶材,激光器产生的激光束通过光路系统聚焦至所述靶材表面,以在靶材上产生烧蚀等离子体,烧蚀等离子体在非平衡磁场的作用下做进一步电离并均匀分布至靶材表面。通过本实用新型,可以有效解决激光沉积薄膜的厚度及成分的均匀性。

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