有机/钙钛矿三元混合体异质结薄膜太阳电池及制备方法

    公开(公告)号:CN116761441A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202210214450.5

    申请日:2022-03-04

    Abstract: 本发明涉及一种有机/钙钛矿三元混合体异质结薄膜太阳电池及制备方法,有机/钙钛矿三元混合体异质结薄膜太阳电池包括依次层叠的透明电极层、第一传输层、有机/钙钛矿三元混合吸光层、第二传输层和金属电极层,其中,所述有机/钙钛矿三元混合吸光层采用有机吸光材料和钙钛矿吸光材料混合的体异质结结构。该薄膜太阳电池中,有机/钙钛矿三元混合吸光层采用有机吸光材料和钙钛矿吸光材料结合三元体系,提升了太阳电池有源层对太阳光谱600~800nm波长内光子的利用效率,从而增加了吸光层的吸光范围和吸光强度,避免了纯有机光伏器件的波段跳跃性吸光,提升了太阳光谱利用率,提高了器件光电转换效率,可用于高效、低成本光伏发电。

    三维限制大面积钙钛矿单晶薄膜X射线探测器阵列及方法

    公开(公告)号:CN115483351A

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN202211027647.4

    申请日:2022-08-25

    Abstract: 本发明涉及一种三维限制大面积钙钛矿单晶薄膜X射线探测器阵列的制备方法,包括:在衬底层上制备金属阵列电极;在金属阵列电极上制备第一图形层;刻蚀金属阵列电极上的PMMA层和第一光刻胶,形成隔离槽;在隔离槽上滴加MAPbI3过饱和溶液;在第一光刻胶和MAPbI3过饱和溶液上覆盖软板;在加热的条件下,同时移除软板,以在金属阵列电极上形成MAPbI3单晶薄膜阵列;去除剩余的PMMA层和第一光刻胶,以完成钙钛矿单晶薄膜X射线探测器阵列的制备。本发明的方法制备的晶体阵列具有与块体钙钛矿型单晶相当的高晶体质量,其厚度、面积可控。

    一种基于有机受体-钙钛矿异质结吸光层的太阳电池

    公开(公告)号:CN114005941A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202111080672.4

    申请日:2021-09-15

    Abstract: 本发明公开了一种基于有机受体‑钙钛矿异质结吸光层的太阳电池,包括:由下至上依次层叠的透明电极层、第一传输层、钙钛矿吸光层、第二传输层和金属电极层;其中,当太阳电池为正型时,第一传输层为用作电子传输层的有机受体吸光层,第二传输层为空穴传输层;当太阳电池为反型时,第一传输层为空穴传输层,第二传输层为用作电子传输层的有机受体吸光层。本发明使用有机受体和钙钛矿材料共同作为吸光层能够增加吸光层的吸光范围和吸光强度,避免纯有机光伏器件波段跳跃性吸光和纯无机光伏器件吸光范围窄的问题,提升太阳光谱利用率和光电转换效率。且利用有机受体吸光层作为电子传输层,能够在不损伤电子提取能力的同时减少工艺步骤,降低成本。

    一种窄带全无机钙钛矿光电探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN113764541A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202110098575.1

    申请日:2021-01-25

    Abstract: 本发明公开了一种窄带全无机钙钛矿光电探测器及其制备方法,该制备方法包括:选取带有FTO电极阴极的玻璃衬底;在FTO电极阴极上制备TiO2电子传输层得到Glass/FTO/TiO2基底;在玻璃衬底背面制备CsPbIBr1.8Cl0.2钙钛矿滤光层得到CsPbIBr1.8Cl0.2/Glass/FTO/TiO2基底;在TiO2电子传输层上制备CsPbIBr2钙钛矿光吸收层得到CsPbIBr1.8Cl0.2/Glass/FTO/TiO2/CsPbIBr2基底;在CsPbIBr2钙钛矿光吸收层上沉积碳电极阳极制备得到窄带全无机钙钛矿光电探测器。本发明通过涂覆在玻璃衬底背面的CsPbIBr1.8Cl0.2钙钛矿滤光层与CsPbIBr2钙钛矿光吸收层材料的吸收波长范围的不同,CsPbIBr1.8Cl0.2钙钛矿滤光层滤过了波长为560nm之前的光,使得CsPbIBr2钙钛矿光光吸收层的吸光波长范围变窄,有效的拓宽了光谱利用范围,增强了太阳能电池的光电转换能力,提高了探测器特定波长范围的探测精度。

    一种基于GaN的横向结势垒肖特基二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112133761A

    公开(公告)日:2020-12-25

    申请号:CN202010887566.6

    申请日:2020-08-28

    Abstract: 本发明涉及一种基于GaN横向结势垒肖特基二极管及其制备方法,此势垒肖特基二极管包括:从下至上依次层叠设置的衬底层、成核层、缓冲层、插入层、势垒层和钝化层;P注入区,设置于缓冲层、插入层和势垒层内,位于缓冲层、插入层和势垒层的一端,P注入区包括若干P区和若干N区,且两个相邻所述P区之间未进行P注入的区域由于存在二维电子气即为N区;阳电极,位于P注入区的上表面;阴电极,位于势垒层的上表面,且位于势垒层远离阳电极的一端。本势垒肖特基二极管及其制备方法,通过P注入区与二维电子气形成梳状的横向PN结,有效屏蔽低势垒高度的肖特基结,可以抑制肖特基势垒降低效应及控制反向漏电流,提高击穿电压,同时保持较低的开启电压。

Patent Agency Ranking