公开(公告)号：CN1572858A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410049278.4

申请日：2004-06-09

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 大岛良晓 ,  西本和彦 ,  末永宪一 ,  萩原敏也

IPC: C09K3/14 ,  B24D3/00

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及基板的制造方法、基板的研磨方法，及减少基板微小表面波纹的方法，所述方法包括用含有研磨材料和水的研磨液组合物和具有平均气孔径为1～35μm的表面部材的研磨垫研磨被研磨基板的工序。本发明还涉及减少擦伤的方法，所述方法包括用含有研磨材料、氧化剂、酸、其盐或其混合物及水的研磨液组合物和具有平均气孔径为1～35μm的表面部材的研磨垫研磨被研磨基板的工序。基板的制造方法可以用于记忆硬盘的最终研磨和半导体元件的研磨。

公开(公告)号：CN102858494B

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201180019525.4

申请日：2011-04-19

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 土居阳彦 ,  内野阳介 ,  西本和彦

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C09K3/1463

Abstract: 本发明提供一种硬盘用铝硅酸盐玻璃基板的制造方法，包括使用研磨液组合物来研磨被研磨铝硅酸盐玻璃基板的工序，所述研磨液组合物含有二氧化硅粒子、具有磺酸基的聚合物、和水，并且所述具有磺酸基的聚合物的相对于铝硅酸盐玻璃的吸附常数为1.5～5.0L/g。所述具有磺酸基的聚合物优选为具有芳香族环的聚合物。所述具有磺酸基的聚合物的重均分子量优选为3000～100000。

公开(公告)号：CN1986612B

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：CN200610169045.7

申请日：2006-12-19

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 西本和彦 ,  米田康洋 ,  代田真美

IPC: C08J5/14 ,  C08L33/02 ,  C08K3/36 ,  B24B7/24

CPC classification number: C09G1/02 ,  C03C19/00

Abstract: 本发明提供了玻璃基板用研磨液组合物以及使用该研磨液组合物的玻璃基板的制造方法，其中所述玻璃基板用研磨液组合物含有一次粒子的平均粒径为5～50nm的二氧化硅和重均分子量为1000～5000的丙烯酸/磺酸共聚物，该研磨液组合物的pH为0.5～5。玻璃基板用研磨液组合物适用于例如玻璃硬盘、强化玻璃基板用的铝硅酸盐玻璃以及玻璃陶瓷基板(晶化玻璃基板)、合成石英玻璃基板(光掩模基板)等的制造。

公开(公告)号：CN101100595B

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN200710127194.1

申请日：2007-07-04

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 西本和彦 ,  大井利昭

IPC: H01L21/302

CPC classification number: C09G1/02

Abstract: 本发明提供一种玻璃基板用研磨液组合物，其含有平均粒径为5～100nm的二氧化硅粒子，其特征在于：在通过电子显微镜照片的图像解析而求出的该二氧化硅粒子的投影图像中，该二氧化硅粒子的投影面积(A1)与该二氧化硅粒子的最大内接圆面积(A)的面积比R(A1/A)的平均值在1.2～3.0的范围内，该二氧化硅粒子在该投影图像的二氧化硅粒子轮廓中，平均具有2.0～10个所具有的曲率半径为该二氧化硅粒子的最大内接圆半径(r)的1/5～1/2的凸部，而且pH为1～5。同时提供一种玻璃基板的制造方法，其具有使该玻璃基板用研磨液组合物存在于研磨垫和被研磨基板之间，在研磨载荷为3～12kPa、pH为1～5的条件下进行研磨的工序。本发明的玻璃基板用研磨液组合物适用于例如玻璃硬盘、强化玻璃基板用铝硅酸盐玻璃、和玻璃陶瓷基板(晶化玻璃基板)等的制造。

公开(公告)号：CN1986612A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200610169045.7

申请日：2006-12-19

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 西本和彦 ,  米田康洋 ,  代田真美

IPC: C08J5/14 ,  C08L33/02 ,  C08K3/36 ,  B24B7/24

CPC classification number: C09G1/02 ,  C03C19/00

Abstract: 本发明提供了玻璃基板用研磨液组合物以及使用该研磨液组合物的玻璃基板的制造方法，其中所述玻璃基板用研磨液组合物含有一次粒子的平均粒径为5～50nm的二氧化硅和重均分子量为1000～5000的丙烯酸/磺酸共聚物，该研磨液组合物的pH为0.5～5。玻璃基板用研磨液组合物适用于例如玻璃硬盘、强化玻璃基板用的铝硅酸盐玻璃以及玻璃陶瓷基板(晶化玻璃基板)、合成石英玻璃基板(光掩模基板)等的制造。

公开(公告)号：CN1789366A

公开(公告)日：2006-06-21

申请号：CN200510129495.9

申请日：2005-12-09

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 西本和彦

IPC: C09K3/14 ,  B24B9/10

CPC classification number: C03C19/00 ,  C09G1/02 ,  G11B5/8404

Abstract: 本发明提供一种玻璃基板用研磨液组合物，其含有一次粒子的平均粒径为1～100nm的氧化硅、具有磺酸基的聚合物和水；并提供使用该玻璃基板用研磨液组合物的玻璃基板的制造方法以及玻璃基板的表面污染的减少方法。本发明的玻璃基板用研磨液组合物，例如适用于玻璃硬盘、强化玻璃基板用铝硅酸盐玻璃、玻璃陶瓷基板(晶化玻璃基板)等的制造。