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公开(公告)号：CN101007367A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200710007216.0
申请日：2007-01-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 尼子淳
IPC: B23K26/06 , B23K26/067 , B23K26/36
CPC classification number: G03B21/625
Abstract: 提供能够以高生产率再现性良好地在被加工体表面或内部形成所希望的微细图形的微细结构体的制造方法。本发明的微细结构体的制造方法包括：采用衍射光学元件将入射激光束分支成多个衍射光束的工序；由远心透镜将所述分支后的多个衍射光束聚光而形成相互平行的衍射光束的工序；使所述相互平行的各衍射光束以各衍射光束的中心和各旋转三棱镜的中心一致的方式向多个旋转三棱镜阵列状配置而成的旋转三棱镜集合体面垂直地入射，形成多个阵列状的贝塞尔光束的工序；对被加工体照射所述多个阵列状的贝塞尔光束的工序。
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公开(公告)号：CN1321002C
公开(公告)日：2007-06-13
申请号：CN200410049125.X
申请日：2004-06-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J2/1634 , B41J2/1433 , B41J2/1606 , B41J2/162 , B41J2002/14475
Abstract: 本发明提供一种喷墨头的制造方法及喷墨头，是具有收装液状体的空腔、和与该空腔连通的喷嘴(18)，并将与空腔相反一侧的喷嘴开口作为喷出口(9)，从喷嘴(18)的喷出口(9)喷出收装于空腔内的液状体的喷墨头的制造方法。在喷嘴(18)的内壁面的喷出口(9)的附近部分形成喷嘴内疏液膜(11)，所述喷嘴内疏液膜(11)和要喷出的液状体之间形成的后退接触角和前进接触角的差值为20度以上。从而，该喷墨头具有良好的稳定喷出性。
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公开(公告)号：CN1310759C
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200410002288.2
申请日：2004-01-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/09
CPC classification number: B41J2/04526 , B41J2/04561 , B41J2/04586
Abstract: 喷墨装置等的液滴喷出装置中，高精度进行液滴喷出为课题。采用：喷头向基板的目标位置喷出液滴的同时，用圆筒状激光来包围液滴的应前进的轨迹。由此，即使是喷头喷出的液滴轨迹离开所定的轨道，激光弹回液滴，从而，可以使液滴喷着在基板上的目标位置。
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公开(公告)号：CN1740915A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200510075901.8
申请日：2005-06-02
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 提供一种可以以低成本实现比可见光波长还短的数量级的微细加工的技术。一种微细结构体的制造方法，包括：感光膜形成工序，在被加工体(100)的上侧形成感光膜；曝光工序，使比可见光波长小的波长的2束激光束(B1、B2)交叉来产生干涉光、通过照射该干涉光来曝光上述感光膜；显影工序，显影曝光后的上述感光膜、在上述感光膜上呈现与上述干涉光的图案对应的形状；蚀刻工序，以显影后的上述感光膜为蚀刻掩膜进行蚀刻来加工上述被加工体。
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公开(公告)号：CN1200793C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN00800219.3
申请日：2000-02-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B23K26/38 , H01L21/302 , H01L21/3205 , B81C5/00 , B41J2/16
CPC classification number: B81C1/00087 , B23K26/009 , B23K26/066 , B23K26/18 , B23K26/384 , B41J2/16 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1634 , B41J2/1645 , B81C2201/0143 , H01L21/486 , H01L21/76898 , H01L23/481 , H01L2223/54453 , H01L2224/13 , H01L2224/13009 , H01L2224/14181 , H01L2224/16 , H01L2224/16146 , H01L2224/81
Abstract: 本发明涉及一种利用激光加工形成高长度直径比的加工孔的加工被加工物的方法。在硅基板(1)的表面和背面分别形成氧化硅膜(2)作为保护膜，经该保护膜(2)向硅基板(1)照射激光进行开孔加工。或者，向硅基板(1)照射圆偏振或随机偏振的激光。由此获得高长度直径比的加工孔，而且，加工孔形状也成为真正笔直的孔，提高了加工精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102841395B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201210214061.9
申请日：2012-06-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 尼子淳
CPC classification number: G02B27/4261 , G01J3/0224 , G01J3/18 , G01J3/44 , G02B5/1871 , G02B27/4272
Abstract: 提供了一种透射式衍射光栅及检测装置。该透射式衍射光栅包括：偏振转换层；第一衍射层，配置于偏振转换层的一个表面侧；以及第二衍射层，配置于偏振转换层的另一表面侧。第一衍射层以及第二衍射层都具有沿第一方向以周期P排列的折射率调制结构，并且对TE偏振光分量的衍射效率比对TM偏振光分量的衍射效率高。
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公开(公告)号：CN102269833B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201110124499.3
申请日：2011-05-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G01J3/1804 , G01J3/44 , G02B5/1857 , G02B5/1866 , G02B27/4261
Abstract: 本发明公开了一种光谱装置、检测装置以及光谱装置的制造方法。该光谱装置包括透射入射光的透射型衍射光栅。透射型衍射光栅具有由第一电介质形成的倾斜面，倾斜面相对于基准线倾斜排列。将向透射型衍射光栅入射的入射光相对于基准线的入射角度设为角度α，且将衍射光相对于基准线的衍射角度设为角度β。在这种情况下，入射角度α是比相对于倾斜面的布拉格角度θ小的角度，衍射角度β是比布拉格角度θ大的角度。
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公开(公告)号：CN103018211B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201210480083.X
申请日：2010-11-18
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种分析装置及其中的传感器芯片的制造方法，包括：传感器芯片；光源，生成激光；准直透镜，将激光变成平行光；偏振光控制元件，使平行光通过；光检测器，检测通过传感器芯片获得的光；对物透镜，汇聚传感器芯片中的散射光；分光镜，将通过偏振光控制元件的光导向传感器芯片，将传感器芯片中的散射光导向对物透镜，传感器芯片包括：玻璃基体部件，具有平面部；以及衍射光栅，衍射光栅包括：多个第一突起，沿与平面部平行的第一方向，按大于等于100nm小于等于1000nm的周期周期性地排列；基底部分，由相邻的第一突起间的区域中的玻璃基体部件的平面部构成；多个第二突起，形成在多个第一突起的上表面，构成与第一突起重叠构造。
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公开(公告)号：CN104321639A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201380020394.0
申请日：2013-04-12
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G01N21/65
CPC classification number: G01N21/553 , B82Y30/00 , G01N21/554 , G01N21/658 , G01N2201/06113 , Y10T428/249921
Abstract: 提供既能够提高热点的表面密度又能够使传播表面等离子体共振与局域表面等离子体共振结合的试样分析元件。试样分析元件11具备多列金属纳米体列16。每个金属纳米体列16包含以小于入射光的波长的第一节距SP在电介质表面排列成一列的多个金属纳米体15。多列金属纳米体列16以大于第一节距SP的第二节距LP并排排列。
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公开(公告)号：CN102841395A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201210214061.9
申请日：2012-06-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 尼子淳
CPC classification number: G02B27/4261 , G01J3/0224 , G01J3/18 , G01J3/44 , G02B5/1871 , G02B27/4272
Abstract: 提供了一种透射式衍射光栅及检测装置。该透射式衍射光栅包括：偏振转换层；第一衍射层，配置于偏振转换层的一个表面侧；以及第二衍射层，配置于偏振转换层的另一表面侧。第一衍射层以及第二衍射层都具有沿第一方向以周期P排列的折射率调制结构，并且对TE偏振光分量的衍射效率比对TM偏振光分量的衍射效率高。
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