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公开(公告)号：CN105264647A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480032514.3
申请日：2014-05-02
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/02052
Abstract: 本发明提供在磨粒存在下使用的硅晶圆研磨用组合物。该组合物包含硅晶圆研磨促进剂、含酰胺基聚合物和水。并且，前述含酰胺基聚合物在主链中具有构成单元A。前述构成单元A包含：构成前述含酰胺基聚合物的主链的构成碳原子；以及仲酰胺基或叔酰胺基。并且，构成前述仲酰胺基或叔酰胺基的羰基碳原子直接键合于前述主链构成碳原子上。
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公开(公告)号：CN111954705B
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN201980023577.5
申请日：2019-02-21
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , H01L21/304 , B24B37/04
Abstract: 本发明提供一种手段，其即使将研磨用组合物以浓缩液的状态长期间保管，也可以稳定地维持固定的研磨率。本发明为包含磨粒、碱性化合物、有机物和水的研磨用组合物，涉及通过下述式(1)测定的前述研磨用组合物的浓缩液的磨粒吸附参数不足15％的研磨用组合物，此处，C0为前述研磨用组合物的浓缩液所包含的全部有机碳量(重量ppm)，C1为对前述研磨用组合物的浓缩液进行离心分离处理而使前述磨粒沉淀，回收上清液，前述上清液所包含的全部有机碳量(重量ppm)。磨粒吸附参数(％)＝[(C0‑C1×(100‑A/2.2)/100)/C0)]×100(1)。
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公开(公告)号：CN111954705A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201980023577.5
申请日：2019-02-21
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , H01L21/304 , B24B37/04
Abstract: 本发明提供一种手段，其即使将研磨用组合物以浓缩液的状态长期间保管，也可以稳定地维持固定的研磨率。本发明为包含磨粒、碱性化合物、有机物和水的研磨用组合物，涉及通过下述式(1)测定的前述研磨用组合物的浓缩液的磨粒吸附参数不足15％的研磨用组合物，此处，C0为前述研磨用组合物的浓缩液所包含的全部有机碳量(重量ppm)，C1为对前述研磨用组合物的浓缩液进行离心分离处理而使前述磨粒沉淀，回收上清液，前述上清液所包含的全部有机碳量(重量ppm)。磨粒吸附参数(％)＝[(C0‑C1×(100‑A/2.2)/100)/C0)]×100 (1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108699425A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680079331.6
申请日：2016-12-16
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/044 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304 , H01L21/30625
Abstract: 提供能实现具有平滑性和低缺陷性的被研磨面的研磨用组合物。研磨用组合物含有满足条件(A)及(B)的水溶性高分子。条件(A)：在包含平均一次粒径35nm的二氧化硅、水溶性高分子、氨、及水、且二氧化硅的浓度为0.48质量％、水溶性高分子的浓度为0.0125质量％、pH为10.0的第一标准液中，吸附于二氧化硅的水溶性高分子的量相对于第一标准液中含有的水溶性高分子的总量的比率即吸附率为10％以上。条件(B)：在包含平均一次粒径35nm的二氧化硅、水溶性高分子、氨、及水、且二氧化硅的浓度为0.48质量％、水溶性高分子的浓度为0.0125质量％、pH为10.4的第二标准液中，吸附于二氧化硅的水溶性高分子的量相对于第二标准液中含有的水溶性高分子的总量的比率即吸附率为65％以下。
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公开(公告)号：CN119301741A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202380043492.X
申请日：2023-03-20
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C08K3/36 , C08L29/04 , C08L101/14 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/306
Abstract: 提供能够实现高品质的表面的研磨用组合物。上述研磨用组合物包含：二氧化硅颗粒(A)、碱性化合物(B)、第1水溶性高分子(C1)、第2水溶性高分子(C2)和水(D)，上述第1水溶性高分子(C1)为聚乙烯醇系聚合物。上述研磨用组合物的蚀刻速率ER[μm/h]与上述研磨用组合物的Zeta电位ζ[mV]的积(ER×ζ)为‑900nmV/h以上且‑90nmV/h以下。
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公开(公告)号：CN118019824A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202280065938.4
申请日：2022-09-14
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , C08L29/14 , H01L21/304
Abstract: 提供一种过滤性良好且能够减少研磨对象物的表面缺陷的研磨用组合物的制造方法。一种研磨用组合物的制造方法，其中，所述研磨用组合物包含改性聚乙烯醇组合物，所述改性聚乙烯醇组合物含有改性聚乙烯醇或其衍生物、以及水，所述研磨用组合物的制造方法包括以30℃以上且小于60℃的溶液温度保持所述改性聚乙烯醇组合物的保温工序，所述保温工序以参数A为2.0以上的方式进行。
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公开(公告)号：CN117063267A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280024860.1
申请日：2022-03-18
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种能够减少研磨后的基板的表面缺陷的方案。本发明涉及一种研磨方法，其为基板的研磨方法，所述研磨方法包括研磨工序，所述研磨工序包括：将研磨用组合物供给至所述基板与安装在研磨台上的研磨垫的接触面并且通过旋转所述研磨台来研磨所述基板的、2个以上研磨阶段，所述2个以上研磨阶段包括：在研磨台上使用研磨用组合物S1进行研磨的研磨阶段1；和、所述研磨阶段1之后，在与所述研磨阶段1同一研磨台上使用研磨用组合物S2进行研磨的研磨阶段2，所述研磨用组合物S1含有磨粒1、水和磨粒吸附参数为5以上的水溶性高分子；所述研磨用组合物S2含有磨粒2、水和所述磨粒吸附参数小于5的水溶性高分子，且不以0.005质量％以上的含量含有所述磨粒吸附参数为5以上的水溶性高分子。
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公开(公告)号：CN113631680B
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202080023228.6
申请日：2020-03-25
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种降低研磨对象物表面的雾度的优异的研磨用组合物。通过本发明所提供的研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、水溶性高分子及水。上述水溶性高分子至少包含水溶性高分子P1与水溶性高分子P2。在此，上述水溶性高分子P1为缩醛化聚乙烯醇系聚合物，上述水溶性高分子P2为缩醛化聚乙烯醇系聚合物以外的水溶性高分子。
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