公开(公告)号：CN104025265B

公开(公告)日：2018-01-12

申请号：CN201280064540.5

申请日：2012-12-25

申请人： 福吉米株式会社

发明人： 横田周吾 ,  加知良浩 ,  赤塚朝彦

IPC分类号： H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC分类号： C09G1/02 ,  B24B1/00 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

摘要： 本发明的研磨用组合物的特征在于，其为在研磨具有金属部分或层间绝缘膜的研磨对象物的用途中使用的研磨用组合物，含有固定化有磺酸、羧酸这样的有机酸而得的二氧化硅、和氧化剂。

公开(公告)号：CN104025265A

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201280064540.5

申请日：2012-12-25

申请人： 福吉米株式会社

发明人： 横田周吾 ,  加知良浩 ,  赤塚朝彦

IPC分类号： H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC分类号： C09G1/02 ,  B24B1/00 ,  B24B37/044 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

摘要： 本发明的研磨用组合物的特征在于，其为在研磨具有金属部分或层间绝缘膜的研磨对象物的用途中使用的研磨用组合物，含有固定化有磺酸、羧酸这样的有机酸而得的二氧化硅、和氧化剂。

公开(公告)号：CN103180101A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201180040355.8

申请日：2011-08-10

申请人： 福吉米株式会社

发明人： 水野敬广 ,  横田周吾 ,  大和泰之 ,  赤塚朝彦

IPC分类号： B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

摘要： 本发明的研磨用组合物，其特征在于，其为在研磨氮化硅的用途中使用的研磨用组合物，其含有固定化有磺酸、羧酸这样的有机酸的胶体二氧化硅，研磨用组合物的pH为6以下。

公开(公告)号：CN103131330A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201210587010.0

申请日：2009-01-29

申请人： 福吉米株式会社

发明人： 水野敬广 ,  井泽由裕 ,  赤塚朝彦

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

摘要： 本发明的第1方式的研磨用组合物含有含氮化合物和磨粒、pH为1～7。研磨用组合物中所含的含氮化合物优选具有通式(1)：R1-N(-R2)-R3(其中，R1、R2、R3分别表示烷基或者在烷基上附加特性基团得到的基团，R1～R3中的2个可构成杂环的一部分，R1～R3中的2个还可以相同并与剩余的1个一起构成杂环的一部分)所示的结构，或者为羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂、和氧化胺型两性表面活性剂中的任一种。本发明的第2方式的研磨用组合物含有水溶性高分子和磨粒，不含氧化剂，pH为1～8。