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公开(公告)号：CN111466008B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN201880080069.6
申请日：2018-12-11
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: H01J35/10
Abstract: 旋转阳极X射线源的可旋转阳极具有置于其的苛刻的要求。例如，其可以以高达200Hz的频率旋转。通过向阴极施加大电压来激发X射线发射，从而使电子与焦点轨迹碰撞。在电子撞击位置处生成的焦斑可以具有在2000℃与3000℃之间的峰值温度。旋转阳极的不断旋转在一定程度上保护了焦点轨迹，然而紧接在CT采集协议之后的焦点轨迹的平均温度能够仍然在1500℃周围。因此，苛刻的要求被置于旋转阳极的设计。本申请提出了用于旋转X射线阳极的靶区域的多层涂层，其改进了机械弹性和热弹性，同时减少了所需的昂贵的难熔金属的量。
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公开(公告)号：CN112673285A
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：CN201980058844.2
申请日：2019-09-10
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Inventor： J·W·M·雅各布斯 , R·K·O·贝林 , R·斯特德曼布克 , G·福格特米尔 , O·J·维默斯
Abstract: 本发明涉及一种辐射探测器(100)，包括：i)衬底(110)；ii)传感器，其被耦合到所述衬底，所述传感器包括传感器像素的第一阵列(120)、信号读出元件的第二阵列(130)和电子电路，所述电子电路被配置为基于从所述信号读出元件接收的信号来提供图像数据；iii)换能器，其被耦合到所述衬底和所述传感器，所述换能器包括子像素的第三阵列(140)，其中，至少两个子像素被分配给一个传感器像素；其中，所述信号读出元件的第二阵列和所述子像素的第三阵列彼此对应；其中，所述子像素中的每个包括辐射转换材料。
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公开(公告)号：CN111466008A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201880080069.6
申请日：2018-12-11
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: H01J35/10
Abstract: 旋转阳极X射线源的可旋转阳极具有置于其的苛刻的要求。例如，其可以以高达200Hz的频率旋转。通过向阴极施加大电压来激发X射线发射，从而使电子与焦点轨迹碰撞。在电子撞击位置处生成的焦斑可以具有在2000℃与3000℃之间的峰值温度。旋转阳极的不断旋转在一定程度上保护了焦点轨迹，然而紧接在CT采集协议之后的焦点轨迹的平均温度能够仍然在1500℃周围。因此，苛刻的要求被置于旋转阳极的设计。本申请提出了用于旋转X射线阳极的靶区域的多层涂层，其改进了机械弹性和热弹性，同时减少了所需的昂贵的难熔金属的量。
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公开(公告)号：CN108603849A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680080743.1
申请日：2016-12-02
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G01N23/04 , G01N23/046 , A61B6/03 , A61B6/00
CPC classification number: G01N23/046 , A61B6/032 , A61B6/42 , A61B6/482 , G01N2223/419 , G01N2223/423
Abstract: 本发明涉及一种用于确定X射线管的有效能谱的装置。本发明描述了以下内容：提供(210)在一时间段内的X射线管的随时间变化的加速电压；还提供(220)在所述时间段内的随时间变化的X射线管电流；确定(230)所述随时间变化的X射线管电流与时间区间的至少一个乘积；根据所述随时间变化的X射线管电流与所述时间区间的所述至少一个乘积并根据所述X射线管的所述电压来确定(250)所述X射线管的有效能谱。
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公开(公告)号：CN105190823B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201480008739.5
申请日：2014-01-29
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及多个X射线束(26)的生成。为了提供具有增大的管功率的能力的经促进的X射线源，以用于提供例如差分相衬成像(DPCI)中的相干辐射，多X射线束X射线源(10)被提供有阳极结构(12)和阴极结构(14)。所述阳极结构包括提供多条焦线(18)的多个液态金属射流(16)。所述阴极结构提供电子束结构(20)，所述电子束结构为每个液态金属射流提供子电子束(22)。所述液态金属射流每个由子电子束沿着环周表面的比环周的一半更小的电子冲击部分(24)撞击。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103959423A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280057661.7
申请日：2012-10-24
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Inventor： R·K·O·贝林
IPC: H01J35/10
CPC classification number: H01J35/10 , H01J2235/086
Abstract: 本发明涉及调制生成的X射线射束。为了提供增大的(即，更快的)X射线强度的周期性调制，提供一种用于X射线管中的旋转阳极来调制生成的X射线射束的阳极盘(28)，所述阳极盘包括圆周目标区域(34)，所述圆周目标区域(34)具有目标表面区域、焦轨道中心线(38)以及射束捕集器表面区域。提供目标表面区域，使得当正由电子射束击中时，能够生成用于X射线成像的X射线；并且，提供射束捕集器表面区域，使得当正由电子射束击中时，能够生成不用于X射线成像的X射线。目标表面区域包括多个目标部分(80、82)，并且射束捕集器表面区域包括多个射束捕集器部分(88)。所述目标部分和所述射束捕集器部分被布置为沿着焦轨道中心线，使得在其中生成X射线辐射的焦斑的中心位于焦轨道中心线上。而且，在焦轨道中心线两侧的结构被布置使得，当正由同质电子射束撞击时，在两侧提供相同的辐射强度。额外地提供，目标表面区域的至少一部分在焦斑轨道中心线的方向上以交替方式包括目标部分和射束捕集器部分。
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公开(公告)号：CN108781496B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN201780019034.7
申请日：2017-03-21
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于生成X射线的装置。描述了利用电源(40)在至少一个阴极(20)与阳极(30)之间产生(210)至少两个电压，其中，所述至少两个电压包括第一电压和第二电压。所述至少一个阴极被相对于阳极定位。从所述至少一个阴极发射(220)电子。从所述至少一个阴极发射的电子以对应于所述至少两个电压的能量与所述阳极相互作用(230)。从所述阳极生成(230)X射线，其中，所述电子与所述阳极相互作用以生成所述X射线。当所述电源产生所述第一电压时生成第一X射线，当所述电源产生所述第二电压时生成第二X射线。制所述电源(250)，使得所述第一X射线与所述第二X射线之间的比率是可控的。
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公开(公告)号：CN114730681A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202080079691.2
申请日：2020-11-06
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及旋转阳极X射线源。除了旋转阳极X射线管的主阴极以外，在所述旋转阳极X射线管中还提供了辅助阴极。来自所述辅助阴极的电子被聚焦到所述阳极上的区中，来自所述阳极上的所述区的X射线无法进入所使用的由所述主阴极生成的X射线束。发射电流控制设备用于控制所述辅助阴极的电子发射。因此，即使为了剂量调制或在主电子电流的瞬变期间主X射线输出发生了变化，针对双电能扫描的电压斜降也仍会保持恒定。
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公开(公告)号：CN106999125B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201580060997.2
申请日：2015-11-10
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
Abstract: 本发明涉及用于光栅型相位衬度计算机断层扫描的X射线设备(10)的源‑检测器布置结构(11)。所述源‑检测器布置结构包括：X射线源(12)，所述X射线源适于相对于对象(140)围绕旋转轴线(R)旋转移动并且适于发射呈线条图案(21)的相干或准相干辐射的X射线束；以及X射线检测系统(16)，所述X射线检测系统包括第一光栅元件(24)和第二光栅元件(26)以及检测器元件(6)；其中所述辐射的所述线条图案和所述光栅元件的光栅方向被布置成正交于所述旋转轴线；并且所述第一光栅元件具有依赖于所述X射线束的锥角(β)而变化的第一光栅节距和/或所述第二光栅元件具有依赖于所述X射线束的所述锥角而变化的第二光栅节距。
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公开(公告)号：CN110785827A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201880039644.8
申请日：2018-06-14
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: H01J35/16
Abstract: 提供了一种用于生成X射线(11)的X射线源(10)。所述X射线源(10)包括：发射器装置(12)，其用于生成电子或者用于生成X射线；至少一个馈通部(38)，其用于向所述发射器装置(12)供应电力；以及绝缘体(20)，其被配置用于将所述至少一个馈通部(38)的电位与地电位隔离。其中，所述至少一个馈通部(38)至少部分地延伸穿过所述绝缘体(20)，并且所述绝缘体(20)的至少部分与所述发射器装置(12)的至少部分热接触。另外，所述绝缘体(20)包括至少一个冷却通道(28)，所述至少一个冷却通道被完全形成在所述绝缘体(20)的内部体积(25)中并被配置为消散来自所述发射器装置(12)的热量，其中，所述绝缘体(20)的外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的距离(29)至少等于所述冷却通道(20)的厚度(27)的一半。
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