金属射流X射线管
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107004552A

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201580070208.3

    申请日:2015-12-18

    Inventor: O.海德

    Abstract: 提出了一种金属射流X射线管,所述金属射流X射线管比常规的X射线管更少地遇到电子射流在阳极部件上的碰撞点处的功率密度的问题。为此,所述金属射流X射线管提供薄的金属射流(6),使得通过该金属射流(6)使碰撞在其上的电子射流(4)只是部分地制动。此外,还设置刀片阴极作为阴极部件(3),所述刀片阴极具有以微小的倾斜向下指向所述阳极部件(7)的液态金属射流(6)的方向的阴极刀片(10)。

    以耐离子轰击配置的电子发射结构

    公开(公告)号:CN105793952A

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201480064904.9

    申请日:2014-11-26

    Abstract: 公开了一种X射线发射器装置的电子发射结构设计,其被配置成便于X射线频谱下的辐射,并且还涉及防止冷阴极因高电压施加下的离子轰击而损坏。通过该发射结构发射的电子束被聚焦,并且被朝着电子阳极靶的电场加速,该电子阳极靶能够操作以将电子束吸引至关联焦斑,其中,所生成的离子沿着与和该电子阳极靶的表面并行的电场垂直的迹线加速。更具体地说,本发明涉及借助于设置被发射器区包围或者设置在发射器区之间的非发射器区,来实现一种鲁棒的冷阴极,以避免高电压施加下的粒子轰击损坏。该系统还被配置成提供校准靶阳极或阶状靶阳极,以进一步减少离子轰击损坏。

    用于电子束的磁控制的设备和方法

    公开(公告)号:CN105140089A

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:CN201510599765.6

    申请日:2011-07-28

    Abstract: 本发明名称是“用于电子束的磁控制的设备和方法”。用于x射线产生系统的电子束操纵线圈的设备和方法包括控制电路(68)的使用。控制电路(68)包括第一低压源(74)、第二低压源(76)和第一开关装置(90),所述第一开关装置(90)与第一低压源(74)串联耦合并且配置成在处于闭合位置时与第一低压源(74)创建第一电流通路(92)。控制电路还包括:第二开关装置(94),与第二低压源(76)串联耦合,并且配置成在处于闭合位置时与第二低压源(76)创建第二电流通路(96);以及电容器(86),与电子束操纵线圈(62)并联耦合,并且沿第一和第二电流通路(92,96)定位。

    用于大视场X射线相衬成像的X射线源

    公开(公告)号:CN102768931B

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201210265909.0

    申请日:2012-07-30

    Applicant: 深圳大学

    CPC classification number: H01J2235/086

    Abstract: 本发明公开了一种用于大视场X射线相衬成像的X射线源,包括用于发射电子束的电子源和响应于电子束入射而发射X射线的阳极靶,所述阳极靶为一体结构的柱体,所述阳极靶顶端设有发射面,所述发射面由多个呈阶梯状排布且相互平行的倾斜发射面单元组成;相邻的所述发射面单元之间的阶梯间侧壁与阳极靶发射面之间的夹角α为50°-120°,且该阶梯间侧壁与阳极靶发射面的主光轴之间的夹角β为大于等于90°。本发明提供一种能应用在大视场X射线相衬成像中、克服阵列结构阳极的视场限制、制造成本低、制作工艺简单可靠的用于大视场X射线相衬成像的X射线源。

    多能量X射线辐射的生成
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103765548A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201280041778.6

    申请日:2012-06-04

    Inventor: R·K·O·贝林

    CPC classification number: H01J35/101 H01J35/10 H01J2235/086

    Abstract: 本发明涉及多能量X射线辐射的生成。为了提供具有增加的切换频率的多能量X射线辐射,X射线管的旋转阳极(10)被提供有阳极体(12)、圆形焦轨(14)和旋转轴(16)。所述焦轨被提供在所述阳极体上并且包括至少一个第一焦轨部分(18)和至少一个第二焦轨部分(20)。过渡部分(22)被提供于所述至少一个第一焦轨部分与所述至少一个第二焦轨部分之间。所述至少一个第一焦轨部分向所述X射线管的X射线辐射投影方向(24)倾斜。所述至少一个第二焦轨部分在横向于所述径向方向的方向(26)被划分,并且包括初级子部分(28)和次级子部分(30),所述初级子部分(28)向所述X射线辐射投影方向倾斜,所述次级子部分(30)比所述初级子部分更少地面向所述X射线辐射投影方向。所述过渡部分被提供为使得在所述过渡部分的表面生成的X射线辐射的方向不同于所述X射线辐射投影方向。

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