光电阴极以及具备该光电阴极的电子管

    公开(公告)号:CN101572201A

    公开(公告)日:2009-11-04

    申请号:CN200910135940.0

    申请日:2009-04-30

    CPC classification number: H01J31/50 H01J1/34 H01J40/06 H01J2231/5001

    Abstract: 本发明所涉及的光电阴极(1)具备:由单结晶的化合物半导体构成的支撑基板(11)、被设置于支撑基板(11)上并且具有比该支撑基板(11)的能带隙更小的能带隙、吸收透过支撑基板(11)的入射光而产生光电子的光吸收层(13)、被设置在光吸收层(13)上并且使光吸收层(13)的工作函数降低的表面层(15);支撑基板(11)由Al(1-X)GaXN(0≤X<1)形成,光吸收层(13)由选自Al、Ga以及In的至少一种成分与N构成的化合物半导体形成。

    无源Q开关激光装置
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100492786C

    公开(公告)日:2009-05-27

    申请号:CN200580029865.X

    申请日:2005-09-06

    Abstract: 激光装置(10)具备:激光介质(11),其配置在构成光共振器(12)的一对反射机构(12A、12B)间,同时被激发而放出光;可饱和吸收体(14),其配置在上述一对反射机构间在光共振器(12)的光轴(L)上,同时伴随着吸收来自激光介质的放出光(21)而增加透射率;激发光源部(13),其输出激发激光介质的波长的光(22)。上述可饱和吸收体(14)是具有互相垂直的第1~第3晶轴的晶体,被配置在光共振器(12)内以使其分别互相垂直的2个偏光方向的放出光而具有不同的透射率。此时,激光振荡相对于透射率更大的偏光方向的放出光而产生,结果得到偏光方向稳定的激光。

    半导体激光装置
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100438238C

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200580001983.X

    申请日:2005-03-08

    Abstract: 本发明涉及一种半导体激光装置,其具备用于防止散热器的制冷剂流路的腐蚀,并且长期稳定地对半导体激光器阵列进行冷却的构造。该半导体激光装置具备半导体激光器堆、制冷剂供给器、绝缘性配管和制冷剂。制冷剂供给器向半导体激光器堆供给制冷剂。制冷剂包含碳氟化合物。绝缘性配管是具有柔软性的绝缘性管子。在绝缘性配管内配置有接地的导电体。该导电体起着除去当制冷剂在绝缘性配管内流通时生成的静电的作用。

    半导体装置
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101192642A

    公开(公告)日:2008-06-04

    申请号:CN200710196173.5

    申请日:2007-11-29

    Abstract: 本发明涉及一种半导体装置,其具有某一方作为光感应层或发光层而起作用,并以低浓度掺杂p型杂质且异质接合的第一以及第二III-V族化合物半导体层。第二III-V族化合物半导体层的能带宽度小于第一III-V族化合物半导体层的能带宽度。使用Be或C作为各半导体层中的p型掺杂物。这时,第二III-V族化合物半导体层可以层叠在第一III-V族化合物半导体层上。而且,第一III-V族化合物半导体层和第二III-V族化合物半导体层可以含有(In、Ga、Al)和(As、P、N)中的至少各一种以上。

    聚光装置
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1675578A

    公开(公告)日:2005-09-28

    申请号:CN03818635.7

    申请日:2003-08-28

    Abstract: 聚光装置具有多个光源(10、20)和合光元件(30)。这些光源(10、20)分别具有半导体激光器阵列叠层体(12、22)、准直透镜(16、26)和光束变换器(18、28)。因为合光元件(30)合成来自叠层体(12)的光束和来自叠层体(22)的光束,所以能够生成高光密度的激光束。合光元件(30)的透过单元(32)和反射单元(34),优选为沿叠层体(12、22)的叠层方向为细长的带状,这时,即便多个活性层(14、24)具有位置偏离,也可以由合光元件(30)适当地接受、合成从活性层(14、24)射出的光束。

    电子倍增器与装有它的电子管

    公开(公告)号:CN1134044C

    公开(公告)日:2004-01-07

    申请号:CN97122417.X

    申请日:1997-11-06

    CPC classification number: H01J43/045 H01J1/32 H01J43/10

    Abstract: 本发明涉及到传输式电子倍增器与其配套的电子管。该传输式电子倍增器具有高的二次电子产生率和一种容许被检测光入射检测位置的结构。电子管包括:封闭容器;放置在封闭容器中的电子源,向封闭容器中发射电子;面对电子源的阳极;安置在电子源和阳极之间的传输式电子倍增器。该传输式电子倍增器包含有用金刚石或用以金刚石为主要成分的材料作成的薄膜,和用来加固薄膜的加固部件,加固部件还有显露一部分薄膜的孔。

Patent Agency Ranking