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公开(公告)号：CN103176368A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201310070625.0
申请日：2013-03-06
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液减振回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液减振回收装置；气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置、多孔介质；密封和注液回收装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体、浸没单元下端盖和浸没单元下端盖配件组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和注液回收功能，实现缝隙流场连续稳定的更新。缝隙流场边缘使用气密封结构防止液体泄漏，采用气液减振回收结构实现气体和液体的回收，在低速情况下,避免了气液两相流的产生，在高速情况下,减弱了气液两相流带来的振动。无论硅片往哪个方向运动，缓冲腔结构使缝隙流场具有自适应调节功能。
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公开(公告)号：CN102937777A
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN201210449140.8
申请日：2012-11-12
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公布了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液隔离装置；气密封和气液隔离装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体和浸没单元下端盖组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，实现缝隙流场的稳定更新。本发明采用气密封结构防止液体泄漏，采用气液隔离装置将缝隙流场周围的密封气体与内部的浸没液体隔离开来，即采用气体密封液体，液体密封液体的两级密封结构，在保证气密封优点的同时，能够有效的避免气液两相流的产生，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性。
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公开(公告)号：CN116699947B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202310652690.8
申请日：2023-06-02
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法，上密封件从浸没控制单元上方完全遮蔽其中心通孔，下密封件从浸没控制单元下方完全遮蔽其中心通孔，共同合围形成中心流室；下密封件中设下采样流道，下采样流道两端分别与中心通孔和洁净度检测器相连。对组装好的浸没控制单元及其附属流路进行浸液流路的洁净度检测，在检测过程中，封闭浸没控制单元中心通孔的上下两端，避免其内部容纳的浸液与环境气体接触，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。
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公开(公告)号：CN107492909A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201710926624.X
申请日：2017-10-08
Applicant: 浙江大学
CPC classification number: H02J3/381 , H02J3/06 , H02J13/0096
Abstract: 本发明公开了一种分布式有源配电网拓扑，包括供电区域、有源微电网、智能功率/信息交换基站、综合调控中心，各个相邻的有源微电网之间通过各自的公共连接点与智能功率/信息交换基站实现连接，将有源微电网的供电边界抽象为Ｎ边形，智能功率/信息交换基站分布在Ｎ边形的Ｎ个角上，从而形成拓扑结构；每个基站对所连接微电网的运行状态进行实时监控，并将数据传送到综合调控中心，通过调控中心实现对有源配电网全网运行状态的监控。本发明的配电网网络架构更坚强，单个区域故障不会影响到其他区域，系统供电可靠性更高，消纳新能源的能力更强，接入更方便，系统扩展的灵活性更高，更容易实现电力市场化。
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公开(公告)号：CN105116688B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201510552449.3
申请日：2015-09-01
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的浸没液体控制装置。包括浸没单元基体和回收网孔板，基体中间为圆形薄衬板，周围为环形方体结构，圆形薄衬板中心开有矩形通孔，环形方体部设有对称的水平注液腔和水平注液口，环形方体部设有对称的水平回液腔和水平回液口，水平注液口和水平回液口水平两侧的浸没单元基体侧壁均分别开有注气口和垂直回收口，浸没单元基体环形方体部的下表面向外依次开有均浸没液体缓冲槽、垂直回收槽和注气槽。本发明能够有效地提高浸没液体的利用率和增强核心流场区域的稳定性，能够有效地提高硅片的扫描速度，提高浸没单元的垂直回收效率以及减小流场振动，实现了对浸没液体的稳定更新与动态密封的控制功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105045046B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201510479159.0
申请日：2015-08-03
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间置有本发明装置；包括浸没单元下端盖、浸没单元基体、垂直注液孔板、焊接盖板和注气盖板，浸没单元下端盖、垂直注液孔板及注气盖板安装在浸没单元基体下表面，浸没单元基体上表面开有气和液的流道，流道通过焊接盖板密封覆盖。本发明能满足浸没式光刻系统中缝隙流场的密封、液体的注入回收、核心流场的流速均一以及缝隙流场稳定更新的要求；采用气密封结构和垂直注液回收结构实现缝隙流场的密封，采用特殊的水平注液及回收结构保证了核心流场的流速均一性要求并降低水平回收由于气液两相流产生的振动和噪声。
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公开(公告)号：CN106505531A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201611243142.6
申请日：2016-12-29
Applicant: 国网浙江省电力公司绍兴供电公司 , 国家电网公司 , 国网浙江省电力公司 , 浙江大学
Abstract: 本发明公开一种限流式UPFC保护系统，包括UPFC，所述UPFC进线端依次通过进线缓冲滤波电路、并联变压器与三相电路相连，所述UPFC出线端依次通过出线缓冲滤波电路、串联变压器与限流器相连；所述进线缓冲滤波电路和并联变压器之间串联有进线过流保护电路，所述出线缓冲滤波电路和串联变压器之间并联有输出过压保护电路，所述串联变压器直接接入三相电路。上述限流式UPFC保护系统，通过进线过流保护电路和输出过压保护电路，可以保护限流式UPFC免受过压过流危害，并且保护自动动作，没有时延。
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公开(公告)号：CN105388201A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510694570.X
申请日：2015-10-21
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微电极阵列的三电极集成电化学传感器，该传感器包括铋膜修饰微电极阵列(金工作电极)，银/氯化银电极(参比电极)，铂电极(对电极)。三电极通过标准MEMS工艺制备，金电极上均匀分布多个等距的圆盘作为微电极阵列。在电化学检测过程中，微电极阵列上发生重金属富集和溶出反应，表面修饰铋膜为了扩大重金属的检测种类和范围。银电极表面电镀氯化银，构成Ag|AgCl参比电极。铂电极作为对电极，与工作电极形成通路。利用差分脉冲溶出伏安法对重金属的浓度进行测定，结果表明该传感器检测灵敏度高，检出限低，信噪比高，并且该传感器操作简便，所需样品量少，可用于重金属的现场快速检测，能够实现对环境污染进行实时高效监测。
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公开(公告)号：CN105116688A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201510552449.3
申请日：2015-09-01
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的浸没液体控制装置。包括浸没单元基体和回收网孔板，基体中间为圆形薄衬板，周围为环形方体结构，圆形薄衬板中心开有矩形通孔，环形方体部设有对称的水平注液腔和水平注液口，环形方体部设有对称的水平回液腔和水平回液口，水平注液口和水平回液口水平两侧的浸没单元基体侧壁均分别开有注气口和垂直回收口，浸没单元基体环形方体部的下表面向外依次开有均浸没液体缓冲槽、垂直回收槽和注气槽。本发明能够有效地提高浸没液体的利用率和增强核心流场区域的稳定性，能够有效地提高硅片的扫描速度，提高浸没单元的垂直回收效率以及减小流场振动，实现了对浸没液体的稳定更新与动态密封的控制功能。
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公开(公告)号：CN102937777B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201210449140.8
申请日：2012-11-12
Applicant: 浙江大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公布了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液隔离装置；气密封和气液隔离装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体和浸没单元下端盖组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，实现缝隙流场的稳定更新。本发明采用气密封结构防止液体泄漏，采用气液隔离装置将缝隙流场周围的密封气体与内部的浸没液体隔离开来，即采用气体密封液体，液体密封液体的两级密封结构，在保证气密封优点的同时，能够有效的避免气液两相流的产生，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性。
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