半导体激光器
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108141010B

    公开(公告)日:2020-04-14

    申请号:CN201680056018.0

    申请日:2016-09-27

    Abstract: 半导体激光器(1)包括半导体层序列(2),所述半导体层序列具有n型传导的n型区域(21)、p型传导的p型区域(23)和位于其之间的用于产生激光辐射的有源区(22)。为了注入电流,直接在p型区域(23)处存在由透明导电氧化物构成的对于激光辐射可穿透的p型接触层(3)。直接在p型接触层(3)处安置有导电的且金属的p型接触结构(4)。p型接触层(3)是外罩层的一部分,使得激光辐射在半导体激光器(1)运行时常规地进入到p型接触层(3)中。半导体层序列(2)的两个棱面(25)形成用于激光辐射的谐振器端面。在直接在棱面(25)中的至少一个棱面处的至少一个电流保护区域(5)中,禁止到p型区域(23)中的电流注入。电流保护区域在垂直于所属的棱面(25)的方向上的扩展为至少0.5μm和最高100μm,并且附加地为用于激光辐射的谐振器长度的最高20%。

    具有在棱面上受抑制的电流注入的半导体激光器

    公开(公告)号:CN108352678B

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201680047847.2

    申请日:2016-09-27

    Abstract: 在一个实施形式中,半导体激光器(1)包括半导体层序列(2)。半导体层序列包括n型导电的n型区域(21),p型导电的p型区域(23)和位于之间的有源区(22),所述有源区用于产生激光辐射。为了电流注入,能导电的p型接触层(3)直接位于p型区域(23)上。直接在p型接触层(3)上安置导电的并且金属的p型接触结构(4)。半导体层序列(2)的两个棱面(25)形成用于激光辐射的谐振器端面。在直接在所述棱面(25)中的至少一个上的至少一个电流保护区域(5)中,电流注入p型区域(23)中受抑制。p型接触结构(4)与所属的棱面(25)平接,使得p型接触结构(4)并不突出于所属的棱面(25)或反之亦然,其中p型接触层(3)从电流保护区域(5)中的至少一个中去除并且在该电流保护区域(5)中p型接触结构(4)整面地与所述p型区域(23)直接接触。

    激光二极管装置
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105406351B

    公开(公告)日:2019-05-17

    申请号:CN201510958578.2

    申请日:2013-03-19

    Abstract: 本发明涉及一种激光二极管装置,其具有:壳体(1),该壳体具有壳体部件(10)和与壳体部件(10)连接的安装部件(11),该安装部件沿着延伸方向(110)背离壳体部件(10)地延伸;和在安装部件(11)上的激光二极管芯片(2),所述激光二极管芯片在衬底(20)上具有半导体层(21,22,23,24,26),该半导体层具有用于放射光的有源层(23),其中壳体部件(10)和安装部件(11)具有由铜制成的基体,并且至少壳体部件(10)是钢包封的,并且在激光二极管芯片(2)与安装部件(11)之间设置有厚度大于或等于3μm的第一焊料层(3)。

    半导体激光器
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108141010A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680056018.0

    申请日:2016-09-27

    Abstract: 半导体激光器(1)包括半导体层序列(2),所述半导体层序列具有n型传导的n型区域(21)、p型传导的p型区域(23)和位于其之间的用于产生激光辐射的有源区(22)。为了注入电流,直接在p型区域(23)处存在由透明导电氧化物构成的对于激光辐射可穿透的p型接触层(3)。直接在p型接触层(3)处安置有导电的且金属的p型接触结构(4)。p型接触层(3)是外罩层的一部分,使得激光辐射在半导体激光器(1)运行时常规地进入到p型接触层(3)中。半导体层序列(2)的两个棱面(25)形成用于激光辐射的谐振器端面。在直接在棱面(25)中的至少一个棱面处的至少一个电流保护区域(5)中,禁止到p型区域(23)中的电流注入。电流保护区域在垂直于所属的棱面(25)的方向上的扩展为至少0.5μm和最高100μm,并且附加地为用于激光辐射的谐振器长度的最高20%。

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