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公开(公告)号：CN102947760A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201180029636.3
申请日：2011-05-26
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F1/42 , G03F7/20 , H01L21/20 , H01L21/268
CPC classification number: G03F1/42 , G03F1/50 , H01L21/0268
Abstract: 本发明具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。
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公开(公告)号：CN102640058A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201080054737.1
申请日：2010-11-10
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具有：光掩模（10、24），该光掩模形成有与被曝光在TFT用基板（4）的表面上的曝光图案相同形状的掩膜图案，该TFT用基板（4）被保持在载物台（8）上；透镜组装体（11、25），该透镜组装体将多个单元透镜组（15、29）排列在与光掩模（10、24）以及被保持在载物台（80）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内，单元透镜组（15、29）是在光掩模（10、24）的法线方向上配置多个凸透镜（14、28）而构成的，能够将形成在所述光掩模（10、24）上的掩膜图案的等倍正立像成像在TFT用基板(4)表面上；和移动单元（12、26），该移动单元使得该透镜组装体（11、25）在与光掩模（10、24）以及载物台（8）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内移动。
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公开(公告)号：CN111033693A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880051857.2
申请日：2018-07-26
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01L21/268 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786
Abstract: 本发明的一实施方式的激光照射装置的特征在于，具备：光源，其产生激光；投影透镜，其向粘附于基板的非晶硅薄膜的规定的区域照射所述激光；及投影掩模图案，其配置在所述投影透镜上，包含使所述激光以规定的投影图案透过的长方形形状的透过区域，所述长方形形状的透过区域的短边的长度是透过了所述投影掩模图案的激光的照射能量在所述规定的区域中成为大致均匀的长度。
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公开(公告)号：CN105209976A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201480027536.0
申请日：2014-06-16
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7015 , G03F7/201 , G03F7/70275
Abstract: 本发明涉及通过利用微透镜阵列将掩模上的图案成像在基板上而曝光基板的曝光装置等，并使射出曝光光的照明单元小型化。微透镜阵列(30)具有包含朝向与移动方向(A)相交的方向的排列且以二维方式配置的多个微透镜(31)，照明单元具有：排列有多个激光二极管的LD阵列条；以及照明光学系统，其将从构成该LD阵列条的多个激光二极管射出的多个发出光转换成缝形状的曝光光束，并利用该曝光光束的曝光光(170)对排成一列的多个微透镜上进行照明，关于与移动方向相交的方向，该曝光光束以跨越在该方向上排列的多个微透镜的方式扩展，并且关于移动方向，该曝光光束被限制为不会波及排列于在该移动方向上相邻的列上的微透镜的宽度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102597880B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN200980162228.8
申请日：2009-10-29
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 畑中诚
CPC classification number: G03F7/7035 , G03F7/70275
Abstract: 本发明是一种曝光装置，将在透明基板(9)的一面上设置的遮光膜(10)中形成有规定形状的多个开口(11)的光掩模(4)与被曝光体(6)接近、相对地配设，对该光掩模(4)照射光源光(L1)而在上述被曝光体(6)上以与上述开口(11)对应的图案进行曝光，与上述光掩模(4)的各开口(11)分别对应地在上述被曝光体(6)侧配设有使上述各开口(11)的像在上述被曝光体(6)上成像的多个微透镜(12)。由此，在接近曝光中，能提高曝光图案的分辨率并进行微细图案的曝光。
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公开(公告)号：CN102947760B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201180029636.3
申请日：2011-05-26
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F1/42 , G03F7/20 , H01L21/20 , H01L21/268
CPC classification number: G03F1/42 , G03F1/50 , H01L21/0268
Abstract: 本发明具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。
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公开(公告)号：CN103619527A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280022484.9
申请日：2012-05-09
Applicant: 株式会社V技术
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , C03B33/09 , G02B3/06
CPC classification number: G02B3/06 , B23K26/0648 , B23K26/0665 , B23K26/0734 , B23K26/388 , B23K26/389 , C03B33/04 , C03B33/093 , G02B27/0927 , G02B27/0966 , G02B2003/0093
Abstract: 本发明的透镜及搭载有该透镜的激光加工装置用于对被切割材料切割由闭合曲线构成的任意形状的部件，并且以使连结凸型圆柱透镜的圆柱面的顶点的线为与由上述闭合曲线构成的任意形状相同的形状的方式，闭合形成凸型圆柱透镜而成形。
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公开(公告)号：CN102597880A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200980162228.8
申请日：2009-10-29
Applicant: 株式会社V技术
Inventor： 畑中诚
CPC classification number: G03F7/7035 , G03F7/70275
Abstract: 本发明是一种曝光装置，将在透明基板(9)的一面上设置的遮光膜(10)中形成有规定形状的多个开口(11)的光掩模(4)与被曝光体(6)接近、相对地配设，对该光掩模(4)照射光源光(L1)而在上述被曝光体(6)上以与上述开口(11)对应的图案进行曝光，与上述光掩模(4)的各开口(11)分别对应地在上述被曝光体(6)侧配设有使上述各开口(11)的像在上述被曝光体(6)上成像的多个微透镜(12)。由此，在接近曝光中，能提高曝光图案的分辨率并进行微细图案的曝光。
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公开(公告)号：CN110998795A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880051904.3
申请日：2018-07-27
Applicant: 株式会社V技术
IPC: H01L21/268 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/786
Abstract: 本发明的一个实施方式的激光照射装置的特征在于，具备：光源，其产生激光；投影透镜，其向被覆于基板上的非晶硅薄膜的规定的区域照射激光；及投影掩模图案，其设置在投影透镜上，并设有多个开口部以对于非晶硅薄膜的规定的区域照射激光，投影透镜经由投影掩模图案而对于沿规定的方向移动的基板上的非晶硅薄膜的规定的区域照射激光，投影掩模图案在与移动的方向正交的一列中，至少相邻的开口部的面积互不相同。
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