知搜-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

22 records (took 0.026 seconds)

    图案膜、用于制造图案膜的方法和包括其的透射率可变装置
    11.
    发明公开
    图案膜、用于制造图案膜的方法和包括其的透射率可变装置 有权

    公开(公告)号：CN114902099A

    公开(公告)日：2022-08-12

    申请号：CN202180007781.5

    申请日：2021-02-04

    Applicant: 株式会社LG化学

    Inventor： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  成知玹 ,  李承宪 ,  金旼俊

    IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

    Abstract: 本说明书涉及图案膜、用于制造图案膜的方法和包括其的透射率可变装置。间隔物图案包括分隔壁间隔物和球形间隔物，所述分隔壁间隔物包括多个间隔物点和连接所述间隔物点的间隔物线，其中所述球形间隔物以嵌入至少一个分隔壁间隔物中、部分地嵌入至少一个分隔壁间隔物中或与至少一个分隔壁间隔物接触的形式包括在内，形成闭合图形的边的长度中的至少一者与其余边不同，以及所述间隔物点的不规则度为50％或更大。

    基板
    13.
    发明公开
    基板 有权

    公开(公告)号：CN111033377A

    公开(公告)日：2020-04-17

    申请号：CN201880051202.5

    申请日：2018-08-14

    Applicant: 株式会社LG化学

    Inventor： 宋哲沃 ,  李承宪 ,  黄智泳 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  朴镇宇 ,  柳正善

    IPC: G03F1/58 ,  G03F1/60 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

    Abstract: 本申请提供了基板及其生产方法。本申请可以在具有包括依次形成的基础层、黑层和间隔物的结构的基板中提供具有优异的所述间隔物对所述基础层或所述黑层的粘合性且确保适当的暗化特性的基板，并且还可以提供能够在没有单独处理例如热处理的情况下有效地生产这样的基板而没有不利影响例如出现异物的生产方法。

    基板
    14.
    发明公开
    基板 有权

    公开(公告)号：CN111033372A

    公开(公告)日：2020-04-17

    申请号：CN201880050289.4

    申请日：2018-07-27

    Applicant: 株式会社LG化学

    Inventor： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  崔贤 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善 ,  宋哲沃 ,  裴南锡

    IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1333

    Abstract: 本申请涉及其上以特定排列状态设置有间隔物的基板和使用这样的基板的光学装置。在本申请中，复数个间隔物根据预定规则不规则地设置在基板上，使得在间隔物保持光学装置构造中的均匀的单元间隙的同时，可以确保整体均匀的光学特性而不引起所谓的莫尔现象等。

    基板
    18.
    发明授权
    基板 有权

    公开(公告)号：CN111033377B

    公开(公告)日：2023-10-13

    申请号：CN201880051202.5

    申请日：2018-08-14

    Applicant: 株式会社LG化学

    Inventor： 宋哲沃 ,  李承宪 ,  黄智泳 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  朴镇宇 ,  柳正善

    IPC: G03F1/58 ,  G03F1/60 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

    Abstract: 本申请提供了基板及其生产方法。本申请可以在具有包括依次形成的基础层、黑层和间隔物的结构的基板中提供具有优异的所述间隔物对所述基础层或所述黑层的粘合性且确保适当的暗化特性的基板，并且还可以提供能够在没有单独处理例如热处理的情况下有效地生产这样的基板而没有不利影响例如出现异物的生产方法。

Patent Agency Ranking