公开(公告)号：CN111033372B

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN201880050289.4

申请日：2018-07-27

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  崔贤 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善 ,  宋哲沃 ,  裴南锡

IPC分类号： G02F1/1339 ,  G02F1/1333

摘要： 本申请涉及其上以特定排列状态设置有间隔物的基板和使用这样的基板的光学装置。在本申请中，复数个间隔物根据预定规则不规则地设置在基板上，使得在间隔物保持光学装置构造中的均匀的单元间隙的同时，可以确保整体均匀的光学特性而不引起所谓的莫尔现象等。

公开(公告)号：CN111656269A

公开(公告)日：2020-09-11

申请号：CN201980009780.7

申请日：2019-04-19

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 裴南锡 ,  孙镛久 ,  李承宪 ,  权泰均 ,  尹泳植

IPC分类号： G02F1/1339 ,  G02F1/1347 ,  E06B9/24

摘要： 根据本申请的一个示例性实施方案的可变透射率膜包括：设置成面向彼此的第一电极基底和第二电极基底；以及液体接收层，所述液体接收层设置在第一电极基底与第二电极基底之间并且包括液体物质和将液体物质划分成两个或更多个空间的分隔壁图案，其中至少部分分隔壁图案包括连接相邻空间的通道区域。

公开(公告)号：CN110770646A

公开(公告)日：2020-02-07

申请号：CN201880039546.4

申请日：2018-06-29

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  宋哲沃 ,  裴南锡 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善

IPC分类号： G02F1/1339

摘要： 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，通过控制形成在基板上的间隔物的形状，即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时，也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响，由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。

公开(公告)号：CN114341718A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202180005195.7

申请日：2021-02-04

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  金真弘 ,  金旼俊

IPC分类号： G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1339

摘要： 提供了图案膜，在所述图案膜中，间隔物图案包括分隔壁间隔物和球形间隔物，其中球形间隔物完全嵌入至少一个分隔壁间隔物中、或部分嵌入至少一个分隔壁间隔物中或与至少一个分隔壁间隔物接触，以及第一基础层的每单位面积的间隔物图案的单位面积比率为5％至17％。

公开(公告)号：CN112673309B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN201980058733.1

申请日：2019-11-18

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  韩在成 ,  李承宪

IPC分类号： G02F1/1339

摘要： 本申请可以提供其上形成有具有优异的尺寸精度和粘合性的间隔物的基板以及能够有效地生产这样的基板的方法。本申请还提供了包括这样的基板的光学装置。

公开(公告)号：CN114341718B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202180005195.7

申请日：2021-02-04

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  金真弘 ,  金旼俊

IPC分类号： G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1339

摘要： 提供了图案膜，在所述图案膜中，间隔物图案包括分隔壁间隔物和球形间隔物，其中球形间隔物完全嵌入至少一个分隔壁间隔物中、或部分嵌入至少一个分隔壁间隔物中或与至少一个分隔壁间隔物接触，以及第一基础层的每单位面积的间隔物图案的单位面积比率为5％至17％。

公开(公告)号：CN110770646B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN201880039546.4

申请日：2018-06-29

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  宋哲沃 ,  裴南锡 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善

IPC分类号： G02F1/1339

摘要： 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，通过控制形成在基板上的间隔物的形状，即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时，也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响，由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。

公开(公告)号：CN111344635A

公开(公告)日：2020-06-26

申请号：CN201880073200.6

申请日：2018-11-23

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 李浚行 ,  李渊槿 ,  金正斗 ,  徐汉珉 ,  宋哲沃 ,  裴南锡

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F1/60

摘要： 本申请涉及用于生产基板的方法。本申请的用于生产基板的方法可以均匀地形成具有根据期望的单元间隙的高度的间隔物，并且还可以自由地控制所述间隔物的高度。

公开(公告)号：CN110959134A

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：CN201880048877.4

申请日：2018-07-27

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 裴南锡 ,  李承宪 ,  章盛皓 ,  吴东炫 ,  朴镇宇 ,  黄智泳 ,  柳正善 ,  徐汉珉 ,  宋哲沃

IPC分类号： G02F1/1339

摘要： 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，可以呈现能够形成其中确保期望的暗化的高段差间隔物的结构。

公开(公告)号：CN111344635B

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN201880073200.6

申请日：2018-11-23

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 李浚行 ,  李渊槿 ,  金正斗 ,  徐汉珉 ,  宋哲沃 ,  裴南锡

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F1/60

摘要： 本申请涉及用于生产基板的方法。本申请的用于生产基板的方法可以均匀地形成具有根据期望的单元间隙的高度的间隔物，并且还可以自由地控制所述间隔物的高度。