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公开(公告)号：CN115836244A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202180048947.8
申请日：2021-09-15
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明提供了用于制造光调制装置的方法，所述方法包括以下步骤：在通过辊来传输具有形成在第一表面上的胶合层或粘合剂层的第一基底和具有形成在第一表面上的间隔物和液晶配向膜的第二基底的同时，将第一基底和第二基底附接，其中第一基底和第二基底被附接成使得各第一表面面向彼此。因此，本发明可以提供所谓的辊对辊过程，由此在实现光调制层的期望配向状态(例如，液晶配向状态)的同时，可以快速制造在两个基底之间具有优异的粘合性的光调制装置。
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公开(公告)号：CN110573942A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201880027679.X
申请日：2018-04-30
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本申请涉及光调制装置及其用途。本申请通过将也是光学各向异性和机械各向异性的聚合物膜用作基底而可以提供具有优异的机械特性和光学特性二者的光调制装置。
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公开(公告)号：CN111164503B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN201880063270.3
申请日：2018-09-21
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本申请涉及用于制造光学装置的方法和光学装置。本申请提供了能够使在通过点涂过程制造光学装置时可能出现的点涂不均匀性最小化或消除的制造方法。特别地，即使当存在大的单元间隙或者应用聚合物基底作为基底使得无法进行高温热处理时，本申请的这样的方法也可以通过改善点涂不均匀性来提供具有改善的取向的配向膜。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN111164503A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880063270.3
申请日：2018-09-21
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本申请涉及用于制造光学装置的方法和光学装置。本申请提供了能够使在通过点涂过程制造光学装置时可能出现的点涂不均匀性最小化或消除的制造方法。特别地，即使当存在大的单元间隙或者应用聚合物基底作为基底使得无法进行高温热处理时，本申请的这样的方法也可以通过改善点涂不均匀性来提供具有改善的取向的配向膜。
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公开(公告)号：CN110573942B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN201880027679.X
申请日：2018-04-30
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本申请涉及光调制装置及其用途。本申请通过将也是光学各向异性和机械各向异性的聚合物膜用作基底而可以提供具有优异的机械特性和光学特性二者的光调制装置。
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公开(公告)号：CN111279045B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN201880069803.9
申请日：2018-11-08
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1343 , G02F1/1341 , G02F1/155 , G02F1/163 , E06B3/66 , E06B9/24
Abstract: 本发明涉及用于制造智能窗的方法。根据本发明的用于制造智能窗的方法，可以制造这样的智能窗：其中经由通过选择合适的密封剂和工艺优化来改善密封线的均匀性例如厚度偏差、线宽度偏差和直线度，改善了产品品质和生产率。
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