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公开(公告)号：CN103080005B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201180040757.8
申请日：2011-08-19
申请人： 株式会社钟化
IPC分类号： C01B31/04
CPC分类号： C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/63444 , C08G69/26 , C08G69/28 , C08L77/06
摘要： 本发明能通过对构成石墨膜原料即聚酰亚胺膜的酸二酐和二胺加以适当选择，来制造较少产生石墨粉末的石墨膜。具体而言，可以通过方案（1）或（2）来获得较少产生石墨粉末的石墨膜。方案（1）：以PMDA为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为100/0～80/20）为二胺；方案（2）：以PMDA/BPDA（摩尔比率为80/20～50/50）为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为30/70～90/10）为二胺。
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公开(公告)号：CN104169214A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380015309.1
申请日：2013-09-19
申请人： 株式会社钟化
CPC分类号： C01B32/20 , B32B18/00 , C01B32/05 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B2235/6562 , C04B2235/9607 , C04B2237/363
摘要： 以连续生产方式所生产的碳质膜、及对该碳质膜进行热处理而获得的石墨膜有易产生褶皱的问题。本发明通过使用连续碳化装置沿高分子膜的厚度方向进行加压并在该加压状态下进行热处理，以获得褶皱得到抑制的碳质膜及石墨膜。
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公开(公告)号：CN103402915A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280010613.2
申请日：2012-03-26
申请人： 株式会社钟化
CPC分类号： C01B31/02 , B32B18/00 , C01B32/05 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B2237/363 , C04B2237/704 , C04B2237/84 , C08G73/10
摘要： 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合、波状起伏。一种碳质膜的制造，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下，当制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜在50%截面圆的内侧的部分具有空间（50%截面圆内的空间），所述50%截面圆是以辊状高分子膜的中心为圆周的中心、以相对于高分子膜全长从内侧开始50%的膜长度的位置为圆周上的一点的辊状高分子膜的截面圆，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上；特别是通过在芯与辊状高分子膜的最内径之间具有空间，上述课题的抑制进一步有效。
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公开(公告)号：CN102811947B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201180010401.X
申请日：2011-02-14
申请人： 株式会社钟化
IPC分类号： C01B31/04
CPC分类号： B32B37/20 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B37/0053 , B32B37/12 , B32B38/10 , B32B38/18 , B32B2250/02 , B32B2313/04 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/6269 , C04B35/63468 , C04B2235/604 , C04B2235/6581 , C04B2235/96 , C04B2235/9638
摘要： 表现出极低的平均撕裂负荷的石墨膜在其制造步骤及加工步骤中容易发生破裂不良、卷边不齐、褶皱不良、尺寸精度不良等各种不良情况。即便如此，通过使用满足以下条件（1）、（2）的石墨膜，就能抑制这些不良情况。（1）在依照日本工业标准JIS K7128来进行的裤形撕裂试验中，平均撕裂负荷为0.08N以下；（2）在依照日本工业标准JIS C2151来进行的膜卷取性评价中，松弛度为5mm以上且80mm以下。
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公开(公告)号：CN103380082B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201280008559.8
申请日：2012-03-26
申请人： 株式会社钟化
CPC分类号： B65D85/671 , C01B32/00 , C01B32/05 , C01B32/20 , C08G73/10 , Y10T428/24744
摘要： 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合。一种碳质膜的制造方法，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙，所述间隙满足下述关系：关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。另外，作为间隙的形成方法，在将高分子膜卷成辊状时，将衬纸同时卷取，然后抽出所述衬纸，通过使用上述方法，对抑制碳质膜的熔合具有效果。
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公开(公告)号：CN103998231A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201380004346.2
申请日：2013-01-11
申请人： 株式会社钟化
CPC分类号： F28F21/02 , B23B35/00 , B23K26/384 , C01B32/20 , C23C28/00 , F28F21/089 , Y10T428/12361 , Y10T428/24273 , Y10T428/24339 , Y10T428/30
摘要： 本发明提供一种石墨复合膜，其是包含在表面上形成有金属层的石墨膜的石墨复合膜，可抑制金属层从石墨膜上的剥离。本发明的石墨复合膜的特征在于，其是在石墨膜的至少单面上形成有金属层的石墨复合膜，在所述石墨膜中形成有多个贯穿孔，按照与形成于所述石墨膜的表面上的所述金属层连接的方式在所述贯穿孔内形成金属层，且所述贯穿孔内的所述金属层从所述石墨膜的单面至相反侧的面为止连续地形成，贯穿孔外径间距离为0.6mm以下，且所述贯穿孔内的金属的面积相对于所述石墨复合膜的面积的比例为1.4％以上。
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公开(公告)号：CN103547530A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201280011528.8
申请日：2012-03-15
申请人： 株式会社钟化
CPC分类号： C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 本发明通过设置2个级别以上的加热空间连续地进行煅烧，可以获得褶皱或波纹得到抑制的石墨片材。特别是如果在各加热空间之间存在冷却空间，那么可以获得平坦性优异、热扩散率较高的石墨膜。
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公开(公告)号：CN103080005A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180040757.8
申请日：2011-08-19
申请人： 株式会社钟化
IPC分类号： C01B31/04
CPC分类号： C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/63444 , C08G69/26 , C08G69/28 , C08L77/06
摘要： 本发明能通过对构成石墨膜原料即聚酰亚胺膜的酸二酐和二胺加以适当选择，来制造较少产生石墨粉末的石墨膜。具体而言，可以通过方案（1）或（2）来获得较少产生石墨粉末的石墨膜。方案（1）：以PMDA为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为100/0～80/20）为二胺；方案（2）：以PMDA/BPDA（摩尔比率为80/20～50/50）为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为30/70～90/10）为二胺。
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