公开(公告)号：CN1206708C

公开(公告)日：2005-06-15

申请号：CN02118478.X

申请日：2002-04-27

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  大日本屏幕制造株式会社

Inventor： 井上阳一 ,  坂下由彦 ,  渡邉克充 ,  川上信之 ,  石井孝彦 ,  村冈祐介 ,  齐藤公続 ,  岩田智巳 ,  沟端一国雄 ,  三宅孝志 ,  北门龙治

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/00 ,  B08B3/04

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/67028

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其特征为，它包括以下工序：在湿式处理装置中向基板供应处理液，进行湿式处理的湿式处理工序，把前述湿式处理后的基板在保持未干燥的状态下运送到与前述基板处理装置分开设置的干燥处理装置中的运送工序，以及在前述干燥处理装置中对前述基板进行采用超临界流体进行超临界干燥处理的干燥处理工序。本发明还提供一种基板处理设备，其特征为，它配备有：向基板供应处理液进行湿式处理的湿式处理装置，与该湿式处理装置分别设置、对基板进行采用超临界流体的超临界干燥处理的干燥处理装置，以及将前述湿式处理后的基板从前述湿式处理装置中取出、在保持其未干燥的状态下运送到前述干燥处理装置中的运送机构。

公开(公告)号：CN1501439A

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：CN200310103884.5

申请日：2003-11-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 村冈祐介 ,  齐藤公续 ,  岩田智巳 ,  深津英司 ,  溝端一国雄 ,  上野博之 ,  奥山靖夫 ,  蒲隆 ,  坂下由彦 ,  渡边克充 ,  宗政淳 ,  大柴久典 ,  猿丸正悟

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G11B7/261 ,  G11B7/265 ,  H01L21/67028 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统。可使基板无损坏地顺利实行由湿式处理到干燥处理一系列处理。在显像处理单元(10A、10B)中对基板W顺序进行显像处理、冲洗处理和置换处理后，在该基板(W)由干燥防止液润湿的状态下，由主自动输送装置(30)湿式输送到超临界干燥单元(20)。由此超临界干燥单元(20)单独进行高压干燥处理(超临界干燥处理)。因此，不用限定显像处理可用的显像液种类，不会产生超临界干燥单元(20)的压力容器(202)内的腐蚀等问题，就可进行由显像处理到高压干燥处理的一系列处理。由于干燥防止液的存在，还具有防止基板(W)输送中基板(W)自然干燥的效果。