公开(公告)号：CN110366774B

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN201880015142.1

申请日：2018-11-26

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 铃木杰之 ,  武者和博 ,  松崎淳介 ,  田宫慎太郎 ,  南展史 ,  中尾裕利

IPC: H01L21/677 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明提供基板不会破损且能够在短时间从真空气氛改变成大气压气氛的真空装置。在处理对象物（10）和供气排气口（9）之间配置第一整流板（5），使得从供气排气口（9）喷出的升压用气体不会与搬运对象物（10）碰撞。在盖部件（16）的壁面和搬运对象物（10）之间设置第二整流板（6），使升压用气体从比搬运对象物（10）中的基板（7）高的上侧贯通孔（13）、比该基板（7）低的下侧贯通孔（23）向基板（7）和第一整流板（5）之间、基板（7）和台（15）之间导入，基板（7）不会抬起。

公开(公告)号：CN108884561A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201780021217.2

申请日：2017-11-01

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 南展史 ,  铃木杰之 ,  武者和博 ,  中尾裕利 ,  佐藤诚一

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  H01L21/677

Abstract: 提供一种设置面积较小的真空处理装置。在真空槽（12）的内部配置升降板（15），将基板保持装置（27）配置到升降板（15）上而使其能够升降移动。在位于升降板（15）升降移动的升降区域（12b）的侧方的处理区域（12a）内设置上方侧处理装置（40）和下方侧处理装置（50），借助上方侧移动装置（35）和下方侧移动装置（36），使基板保持装置（27）穿过处理区域（12a）内，借助交接装置（37），在上方侧移动装置（35）或下方侧移动装置（36）与升降板（15）之间进行基板保持装置（27）的交接。由于能够在上方侧和下方侧进行真空处理，所以真空处理装置（10）的设置面积较小。

公开(公告)号：CN103026479A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201180036140.9

申请日：2011-07-25

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 南展史 ,  武者和博

IPC: H01L21/677 ,  B25J15/06

CPC classification number: B65G47/92 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6831

Abstract: 本发明提供一种能够不损害位置精度而迅速转运基板的基板运送方法和基板运送系统。在利用运送机器人的保持面(210)对基板进行的保持中使用静电吸盘机构，以在保持面(210)产生静电吸附力的状态下，从支撑面(303)向保持面(210)转运基板(W)。从而，能够在将基板(W)转移至保持面(210)之后立即通过静电吸附力来保持基板，因此能够快速实行基板(W)的运送操作，能够缩短在处理室之间运送基板的时间。

公开(公告)号：CN101669199B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200880012654.9

申请日：2008-04-15

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 武者和博 ,  南展史 ,  川口崇文

IPC: H01L21/683 ,  B65G49/06 ,  G02F1/13 ,  G09F9/00

CPC classification number: H01L21/6833 ,  B65G49/061 ,  B65G49/067 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/045 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/6838

Abstract: 本发明提供一种基板保持机构和具有该保持机构的基板组装装置，该基板组装装置(20)包括支承台(21)和保持机构(22)。支承台(21)用来支承下侧基板(LW)，保持机构(22)包括保持面和功能性元件。上述保持面用来保持上侧基板(UW)的上表面，上述功能性元件设置在上述保持面上，其保持力会根据电压大小的改变而变化。上述保持机构会使上侧基板(UW)的下表面和被上述支承台(21)所支承的下侧基板(LW)的上表面面对。采用上述基板保持机构时，可以对作用给基板(UW)的保持力进行电气控制。可以有助于简化保持机构的结构。此外，由于可以平稳地改变作用给基板(UW)的保持力，所以也能够始终正常地保持或释放厚度较薄的基板。

公开(公告)号：CN102057477A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN200980120845.1

申请日：2009-06-03

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 佐藤诚一 ,  矢作充 ,  南展史 ,  武者和博 ,  高桥诚

IPC: H01L21/683 ,  B23Q1/01 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07 ,  H01L21/304 ,  H01L21/68 ,  B05C13/00

CPC classification number: H01L21/68785 ,  B65G49/061 ,  B65G49/065 ,  B65G49/067 ,  B65G2249/045 ,  H01L21/68 ,  H01L21/6838

Abstract: 本发明提供一种具有定位功能的载物台，该载物台即使在处理对象物重量大的情况下，也能够高精度并且容易地进行特别是θ方向的定位，且成本低。该具有定位功能的载物台具有暴露基板(S)处理面并保持基板(S)的载物台本体(4a)，还包括可自由地吸附在与所述的基板处理面相对的另外一面上的吸附装置(8)、向所述吸附装置上吸附位置以外的区域供给气体的气体供给装置(9)和向所述吸附装置施加旋转力使基板以所述吸附装置为旋转中心在同一平面内旋转的驱动装置(10)。

公开(公告)号：CN101678970A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200880019238.1

申请日：2008-06-03

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 武者和博 ,  南展史 ,  川口崇文 ,  村上裕彦 ,  中野美尚 ,  江上洋一

IPC: B65G49/07 ,  B25J15/08 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6838

Abstract: 本发明提供一种既可实现基板搬运高速化又能确保适当的搬运动作的基板托持机构。其中，在末端执行器(14)的托持面(14a)上设置由碳纳米管制成的保持部(15)，并用碳纳米管的顶端来托持基板(W)。此时，基板和碳纳米管间产生分子间相互作用力，基板以对托持面具有一定吸引力的状态受其托持。该吸引力在大气中、空气中都会发生，且单位面积上碳纳米管的根数越多，吸引力越强。根据上述构造，可有效防止托持面上的被搬运物滑动，实现基板搬运的高速化。此外，碳纳米管有很好的耐热性，可防止在高温环境下使用时保持部因热变质或因粘着而引起的搬运不良，可确保适当的基板搬运动作。

公开(公告)号：CN112589807B

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202011049143.3

申请日：2020-09-29

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 武者和博 ,  南展史 ,  铃木杰之

IPC: B25J11/00 ,  B25J9/16 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供能够扩大设计自由度的基板输送装置和基板输送方法。基板输送装置具备：臂；末端执行器，与所述臂连结；驱动部，使所述臂上升来使所述末端执行器接收基板；以及控制部，对所述驱动部的输出进行控制来变更所述臂的上升速度，所述控制部构成为，一边通过使所述臂以第1速度上升来使所述末端执行器朝向所述基板上升，一边在所述末端执行器开始使所述基板的高度位置上升时，将所述上升速度改变为比所述第1速度低的第2速度。

公开(公告)号：CN102245944B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN200980149584.6

申请日：2009-12-02

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 武者和博 ,  南展史 ,  山田清隆

IPC: F16J15/32 ,  F16J15/16

CPC classification number: F16J15/324

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够降低为补充润滑剂而作的保养的频度并且摩擦阻力较小的密封机构以及配备有该密封机构的处理装置。为达到上述目的，密封机构(100)的突出状密封部(12)配置在驱动轴(25)的外周，其突出状部(12b)具有与驱动轴(25)接触的密封部(12c)。分隔壁部件(15)安装在驱动轴(25)上，封闭安装部件(30)的下部的开口，且与突出状密封件(12)相面对。至少由安装部件(30)与分隔壁部件(15)形成用于收装润滑剂(16)的容器。在分隔壁部件(15)与保持基座体(60)之间设有间隙(17)，且该间隙(17)不会使润滑剂(16)通过。通过这样的结构，能够确保收装润滑剂(16)的空间，同时，密封机构(100)与驱动轴(25)接触的部分仅为突出状密封件(12)的密封部(12c)。

公开(公告)号：CN101801646B

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN200880108048.7

申请日：2008-11-05

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 佐藤诚一 ,  矢作充 ,  南展史 ,  武者和博 ,  汤山纯平 ,  村田真朗 ,  宫田贵裕 ,  中村久三

IPC: B29C65/00 ,  B30B15/00 ,  B65G49/06 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1339 ,  G09F9/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67092 ,  B32B37/10 ,  B65G49/061 ,  B65G49/064 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/045

Abstract: 本发明公开了一种粘合基板制造装置，通过对上基板与下基板进行位置对准并粘合来制造粘合基板，其特征在于，包括：载置所述下基板的基底部；竖立设置在该基底部上的支撑棒；和能够沿该支撑棒上下移动并能够保持所述上基板的上加压部件，通过使所述上加压部件下降，将保持在所述上加压部件上的所述上基板与载置在所述基底部上的所述下基板粘合。

公开(公告)号：CN101801645B

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN200880107159.6

申请日：2008-11-12

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 佐藤诚一 ,  矢作充 ,  南展史 ,  武者和博 ,  汤山纯平 ,  村田真朗 ,  宫田贵裕 ,  中村久三

IPC: G02F1/13

CPC classification number: B65G49/064 ,  B32B37/1018 ,  B32B38/1833 ,  B32B2038/1891 ,  B32B2457/202 ,  B65G49/061 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/045 ,  H01L21/67092

Abstract: 本发明公开了一种粘合基板制造装置，通过对上基板与下基板进行位置对准并粘合来制造粘合基板，其特征在于，该粘合基板制造装置包括：支撑所述下基板的基底部；从所述基底部竖立设置的第一支撑棒；能够沿所述第一支撑棒上下移动并能够保持所述上基板的上加压部件；和包含能够独立于所述上加压部件上下移动的上部室部件和下部室部件的粘合处理室，通过移动所述上加压部件，能够在所述粘合处理室的内部粘合所述上基板与所述下基板，所述上部室部件和所述下部室部件能够同时沿相互抵接的方向或相互分离的方向移动。