公开(公告)号：CN108570659B

公开(公告)日：2021-11-16

申请号：CN201810178323.8

申请日：2018-03-05

Applicant: 株式会社堀场STEC

Inventor： 坂口有平 ,  志水徹 ,  南雅和 ,  林大介

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明涉及气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法，容易控制从容器导出的材料气体的总量。所述气体控制系统向收容有材料的容器(10)导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器(10)导出，该气体控制系统具有控制部(60)，所述控制部(60)控制所述载气的流量，使浓度指标值接近预先确定的目标浓度指标值，该浓度指标值直接或间接表示测量从所述容器(10)导出的混合气体而得到的所述混合气体中的材料气体浓度，所述控制部(60)在进行控制所述载气的流量以规定变化率变化的第一控制后进行第二控制，该第二控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差来控制所述载气的流量。

公开(公告)号：CN110416113A

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201910308983.8

申请日：2019-04-17

Applicant: 株式会社堀场STEC

Inventor： 林大介 ,  南雅和

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及程序介质，为了不依赖于操作员的经验而能够高速且高精度地使腔室内的二维浓度分布或二维温度分布均匀，所述基板处理装置具备：收纳基板且被供给材料气体的腔室；从腔室的周围的多个地方朝向形成于腔室的周壁的入射窗射出激光的激光射出机构；对从多个地方射出而通过腔室内且从形成于腔室的周壁的射出窗射出的各激光进行检测的激光检测机构；以及控制装置，获取由激光检测机构检测到的各激光的光强度信号，并且基于该光强度信号，计算出腔室内的材料气体的二维浓度分布或腔室内的二维温度分布，基于该二维浓度分布或该二维温度分布控制流体控制设备。