激光装置、激光照射方法和半导体器件制造方法

    公开(公告)号:CN1492488A

    公开(公告)日:2004-04-28

    申请号:CN03158812.3

    申请日:2003-09-12

    Abstract: 本发明的目的是提供使激光能量更稳定的激光装置、激光照射方法和半导体器件的制作方法。为此,对振荡器发射的激光束的一部分进行采样,以生成包含激光束的能量波动作为数据的电信号。对该电信号进行信号处理,以计算激光束能量波动的频率、幅度和相位。光量调节装置的透射比被控制,使得透射比变化的相位与激光束能量波动的相位相反,且幅度能够减小振荡器发射的激光束的幅度,该控制根据与从振荡器发射的激光束的振荡同步的信号的相位与计算得到的相位之间的相位差、根据采样的激光束与从振荡器发射的激光束的能量比率、以及根据计算得到的频率和幅度进行。在光量调节装置中,从振荡器振荡的激光束的能量被调节。

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