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公开(公告)号：CN115315318B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202180016238.1
申请日：2021-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
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公开(公告)号：CN118829489A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202280092645.5
申请日：2022-11-14
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置、弯月面头以及涂敷方法。根据实施方式，提供能够得到大面积且均匀的涂敷膜的涂敷装置、弯月面头以及涂敷方法。实施方式的涂敷装置通过弯月面法形成涂膜，具备输送基材的部件、涂敷棒、向涂敷棒的表面供给涂敷液的狭缝式模头、以及向狭缝式模头供给涂敷液的部件，各部件配置成，使得从狭缝式模头供给的涂敷液经由涂敷棒的表面供给到涂敷棒与基材之间而形成弯月面。
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公开(公告)号：CN112074965B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN201880090582.3
申请日：2018-03-16
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供电阻小、光透射性高并且能够用简便的方法制作的透明电极的制造方法以及制造装置。提供一种制造方法、利用该制造方法的透明电极的制造装置，所述制造方法的特征在于，具有：在疏水性的聚合物膜上涂敷金属纳米线分散液的工序；将所述聚合物上的金属纳米线和导电性基板直接压接的工序；以及使所述金属纳米线层剥离，而转印到所述导电性基板的工序。
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公开(公告)号：CN117062675A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280016250.7
申请日：2022-02-21
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: B05C1/02
Abstract: 提供能形成均匀的涂敷膜的涂敷装置以及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包括涂敷杆、多个喷嘴、多个保持部以及检测部。上述涂敷杆能与被涂敷构件相向。上述多个喷嘴能朝上述涂敷杆供给液体。上述多个保持部中的一个保持部保持上述多个喷嘴中的一个喷嘴。上述多个保持部中的一个保持部能控制以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴中的上述一个喷嘴的位置。上述检测部能检测与以上述涂敷杆为基准的上述多个喷嘴各自的位置相对应的量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115315318A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202180016238.1
申请日：2021-03-04
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
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公开(公告)号：CN114600255A
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202080060839.8
申请日：2020-09-09
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L31/0224 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供一种低电阻、制造简单、稳定的图案化的透明电极及其制造方法、以及使用其的电子器件。[解决手段]实施方式的透明电极是具备透明基材和配置在其表面上且被高电阻区域相互分离的多个导电性区域的透明电极，所述导电性区域具有从所述基材侧依次层叠第1透明导电性金属氧化物层、金属层、第2透明导电性金属氧化物层和含石墨烯层的结构，在所述高电阻区域中不存在具有石墨烯骨架的化合物，该透明电极可以通过在形成含石墨烯层后进行图案化来制造。
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公开(公告)号：CN112789744B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN201980056531.3
申请日：2019-09-10
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H10K30/81 , H10K30/82 , H10K50/805 , H10K71/60 , B32B9/00 , B32B15/02 , H01B13/00 , H01L21/288 , H01L31/0224 , H05B33/28
Abstract: [课题]本发明提供能够以使元件劣化少的、简便的方法制造电阻低且后加工容易的电极的方法、以及利用该方法的光电转换元件的制造方法。[解决手段]电极的制造方法包括如下工序：在疏水性基材的表面上直接涂布金属纳米材料分散液，以形成金属纳米材料层的工序；通过在上述金属纳米粒子层的表面上涂布碳材料分散液以形成碳材料层，从而形成包括金属纳米材料层与碳材料层的叠层体的电极层的工序；将上述碳材料层的表面与亲水性基材直接压接的工序；以及，剥离上述疏水性基材，将上述电极层转印至上述亲水性基材的表面的工序。
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公开(公告)号：CN113631277B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202080017045.3
申请日：2020-03-09
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 提供一种能够形成均匀的涂布膜的涂布头、涂布装置及涂布方法。根据实施方式，涂布头包括涂布棒、多个喷嘴、第1～第3构件、弹性构件以及位置控制部。多个喷嘴朝向涂布棒供给液体。第1构件包括多个第1凹部。多个喷嘴的1个的至少一部分位于多个第1凹部的1个与多个第3构件的1个之间。多个喷嘴的1个的至少一部分和多个第3构件的1个通过多个第2构件的1个固定于第1构件。多个弹性构件的1个设置在第1～第3位置中的至少任一个。第1位置是多个第3构件的1个与多个第2构件的1个之间。第2位置是多个第1凹部的1个的至少一部分与多个喷嘴的1个之间。第3位置是多个喷嘴的1个的至少一部分与多个第3构件的1个之间。
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公开(公告)号：CN115315815A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202180017899.6
申请日：2021-07-02
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L31/0224
Abstract: [课题]本发明提供一种不易发生银迁移而耐性高的透明电极及其制作方法、以及使用该透明电极的电子器件。[解决手段]实施方式的透明电极具备透明基材(101)、导电性含银层(102)和导电性氧化物层(103)依次层叠的层叠结构，将所述透明电极在波长800nm和600nm处的总透射率分别设为T800和T600时的透射率的比T800/T600为0.85以上，且所述含银层(102)是连续的。该电极可以通过使由导电性含银层(102)和导电性氧化物层(103)层叠而成的层叠膜与硫或硫化合物接触，形成含硫银化合物层来制作。
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