层叠体的制造方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115715139A

    公开(公告)日:2023-02-24

    申请号:CN202210224956.4

    申请日:2022-03-09

    Abstract: 提供结晶性高的层叠体的制造方法。一种层叠体的制造方法,是制造以AlN为主成分的层叠体的方法,其特征在于,包含:在基板(210)上形成由包含金属元素的单晶构成的电极层(230)的工序;和在电极层(230)之上通过溅射而形成以AlN为主成分的压电层(240)的工序,在形成压电层(240)的工序中,在进行溅射时,对靶施加脉冲电压,将占空比设为4%以下,将施加脉冲时的平均功率密度设为200W/cm2以上且2500W/cm2以下。

    磁记录介质及磁记录再生装置

    公开(公告)号:CN107068168A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201611161241.X

    申请日:2016-12-15

    CPC classification number: G11B5/66 G11B5/667 G11B5/851

    Abstract: 一种磁记录介质,其非磁性基板上至少设置了软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层及保护层,垂直磁性层从基板侧开始依次包括第1至第4磁性层,第1至第4磁性层为粒状结构磁性层,构成第1至第4磁性层的磁性颗粒为连续柱状晶,第1磁性层和第2磁性层之间及第2磁性层和第3磁性层之间分别具有交换结合控制层,第3磁性层与第4磁性层接触,第1至第4磁性层为强磁结合,在第1至第4磁性层的磁各向异性常数为Kui、饱和磁化强度为Msi及膜厚为ti时,满足Kui>Kui+1(i=1,2)、Msi·ti>Msi+1·ti+1(i=1,2)、Kui<Kui+1(i=3)及Msi·ti<Msi+1·ti+1(i=3)的关系。

    垂直磁记录介质及磁存储装置

    公开(公告)号:CN105632520A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201510818080.6

    申请日:2015-11-23

    CPC classification number: G11B5/72 G11B5/66 G11B5/82

    Abstract: 本发明提供一种垂直磁记录介质及磁存储装置。一种垂直磁记录介质,包括非磁性衬底;垂直磁性层,其设在所述非磁性衬底的上方;以及保护层,其设在所述垂直磁性层上。所述垂直磁性层具有六角密积结构、并包括多个堆叠的层,该多个堆叠的层具有相对于所述非磁性衬底的表面平行取向的(0002)晶面。所述垂直磁性层的多个堆叠的层中的最上层包括多晶体晶粒,所述多晶体晶粒选自CoCr基合金、CoPt基合金、CoCrPt基合金、及CoPtCr基合金构成的组。所述保护层与所述垂直磁性层的所述最上层接触,并且所述保护层包括单一石墨烯层或石墨烯层叠体、以及非晶碳层。所述单一石墨烯层或所述石墨烯层叠体与所述多晶体晶粒的(0002)晶面平行结合。

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