发光二极管及其制造方法
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103430332A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201280013022.0

    申请日:2012-02-14

    Abstract: 本发明提供以均匀的膜厚形成保护膜及其上的电极膜的发光二极管及其制造方法。这样的发光二极管,在上部具有平坦部和台面型结构部,该台面型结构部具有倾斜侧面和顶面,平坦部和台面型结构部各自至少一部分由保护膜、电极膜依次覆盖,倾斜侧面通过湿式蚀刻形成,且水平方向的截面积朝向顶面连续变小地形成,保护膜覆盖平坦部的至少一部分、倾斜侧面、顶面的周缘区域,并且俯视在周缘区域的内侧具有将化合物半导体层的表面的一部分露出的通电窗,电极层是以与从上述通电窗露出的化合物半导体层的表面直接接触,并且至少覆盖形成于上述平坦部上的保护膜的一部分,在上述台面型结构部的顶面上具有光射出孔的方式形成的连续膜。

    发光二极管及其制造方法
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103430332B

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201280013022.0

    申请日:2012-02-14

    Abstract: 本发明提供以均匀的膜厚形成保护膜及其上的电极膜的发光二极管及其制造方法。这样的发光二极管,在上部具有平坦部和台面型结构部,该台面型结构部具有倾斜侧面和顶面,平坦部和台面型结构部各自至少一部分由保护膜、电极膜依次覆盖,倾斜侧面通过湿式蚀刻形成,且水平方向的截面积朝向顶面连续变小地形成,保护膜覆盖平坦部的至少一部分、倾斜侧面、顶面的周缘区域,并且俯视在周缘区域的内侧具有将化合物半导体层的表面的一部分露出的通电窗,电极层是以与从上述通电窗露出的化合物半导体层的表面直接接触,并且至少覆盖形成于上述平坦部上的保护膜的一部分,在上述台面型结构部的顶面上具有光射出孔的方式形成的连续膜。

    发光二极管及其制造方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103999246A

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201280062289.9

    申请日:2012-12-18

    Inventor: 粟饭原范行

    Abstract: 本发明提供一种保护膜及在其上方形成的电极膜以均匀膜厚形成、并且光取出效率高的发光二极管及其制造方法。这样的发光二极管,在其上部具备平坦部和具有倾斜侧面及顶面的台面型结构部,倾斜侧面采用湿式蚀刻形成,保护膜具有配置在俯视为周缘区域的内侧且光射出孔的周围而使化合物半导体层的表面的一部分露出的通电窗,电极膜是形成为与从通电窗露出来的化合物半导体层的表面相接触,并且覆盖在平坦部上形成的保护膜的一部分,在顶面上具有光射出孔的连续膜,透明膜形成在反射层与化合物半导体层之间,在透明膜内、与光射出孔重叠的范围内贯穿地设有贯通电极。

    发光二极管
    20.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203055975U

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201220353364.4

    申请日:2012-07-19

    Inventor: 粟饭原范行

    Abstract: 提供一种以均匀的膜厚形成有保护膜和在其上形成的电极膜、并且光取出效率高的发光二极管。本实用新型的发光二极管,包括:具有上表面(6a)和侧面(6b)的支持结构部(6)、和配置于该支持结构部(6)上并具有倾斜侧面(7a)和顶面(7b)的台面型结构部(7),倾斜侧面(7a)通过湿式蚀刻而形成,保护膜8具有俯视时位于周缘区域(7ba)的内侧、且配置于光射出孔(9b)的周围,将化合物半导体层的表面的一部分露出的通电窗(8b),第1电极膜(9)是以与从通电窗8b露出的化合物半导体层的表面接触,并且覆盖在上表面(6a)上形成的保护膜(8)的一部分,在台面型结构部7的顶面(7b)上具有光射出孔(9b)的方式形成的连续膜,在基板(1)的背面(1A)具有第2电极膜(10)。

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