使用刷子抛光用于记录介质的基底的内边缘端面的方法

    公开(公告)号:CN101010166A

    公开(公告)日:2007-08-01

    申请号:CN200580028721.2

    申请日:2005-08-24

    Abstract: 本发明的目的是提供抛光基底的内边缘端面、并在抛光多个用于记录介质的盘状基底的内边缘端面时保持足够高的加工精度的方法。根据本发明,提供了使用刷子抛光用于记录介质的盘状基底的内边缘端面的方法,包括:提供多片在其中心部分具有圆孔、由此形成内边缘端面的用于记录介质的盘状基底,将它们叠置同时使圆孔对齐以形成在其中心部分具有圆孔的抛光对象;使含有抛光材料的抛光材料浆与所述抛光对象接触;和在使所述浆液与所述抛光对象接触的情况下,将在杆状柄的周围布有刷毛的抛光刷插入所述抛光对象的圆孔中,并以柄为中轴旋转抛光刷以抛光基底的内边缘端面;其中控制所述抛光材料浆以保持恒定温度。

    磁记录介质用基板、磁记录介质、硬盘驱动器

    公开(公告)号:CN111383667A

    公开(公告)日:2020-07-07

    申请号:CN201911353188.7

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 本发明提供一种磁记录介质用基板、磁记录介质、硬盘驱动器,磁记录介质用基板为3.5英寸型HDD用尺寸,不容易由于物理性冲击而在表面形成隆起部,并且因颤振所致的位移的幅度小。该磁记录介质用基板具有Al合金基板以及设置于Al合金基板的表面的Ni合金镀覆覆膜,该基板是直径为95~98mm、在中央具有内径为19~26mm的孔的圆盘状,厚度为0.48~0.64mm,质量为9.0~15.0g;Al合金基板的杨氏模量E为74GPa以上、密度ρ为2.75g/cm3以下、杨氏模量E与密度ρ之比E/ρ为27以上;Ni合金镀覆覆膜的厚度处于4~7μm,将前端为正四棱锥状的金刚石压头相对于Ni合金镀覆覆膜的表面沿垂直方向以0.49N的试验力压入10秒而形成压痕后,在压痕的周围生成的隆起部的平均高度处于10~50nm。

    用于磁记录介质的硅衬底和磁记录介质

    公开(公告)号:CN101019172A

    公开(公告)日:2007-08-15

    申请号:CN200580030953.1

    申请日:2005-09-16

    CPC classification number: G11B5/7315

    Abstract: 一种即使当衬底是由易碎材料制成的硅衬底时在衬底端面上也基本不碎裂或者开裂的衬底,并提供一种衬底,其防止从衬底端面生成粉尘和防止由于与处理盒摩擦而造成的粉尘。通过将衬底主面和外周侧端面之间斜切部分的长度L设置为0.1±0.03mm,以及将主面与在主面和外周侧端面之间的斜切部分的角α设置为45度±5度,而形成用于磁记录介质的硅衬底。还可能在主面和衬底外周侧斜切部分之间插入半径大于等于0.01mm且小于0.3mm的弯曲部分。

    磁盘基底以及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN101010736A

    公开(公告)日:2007-08-01

    申请号:CN200580028744.3

    申请日:2005-08-26

    CPC classification number: G11B5/7315

    Abstract: 本发明涉及一种磁盘玻璃基底,其能够在磁盘制造过程中防止出现灰尘以及颗粒粘附到磁盘表面,并涉及一种制造方法和一种磁盘。一种用于磁盘的玻璃基底具有以下结构,其中在主表面的圆周边缘部分附近形成的外周缘形状在以该主表面的另外的平坦部分作为参考时具有以下特征:外周缘部分的滑雪跳跃值不大于0μm;外周缘部分的滚降值是-0.2至0.0μm;以及外周缘部分的dub-off值是0至120;该玻璃基底具有在主表面(数据面)和外周缘表面(竖直表面)之间的斜面,并且具有在玻璃基底的数据面和斜面之间的曲率半径为0.013至0.080mm的R表面。

    磁盘基底以及磁盘的制造方法

    公开(公告)号:CN101010736B

    公开(公告)日:2010-12-29

    申请号:CN200580028744.3

    申请日:2005-08-26

    CPC classification number: G11B5/7315

    Abstract: 本发明涉及一种磁盘玻璃基底,其能够在磁盘制造过程中防止出现灰尘以及颗粒粘附到磁盘表面,并涉及一种制造方法和一种磁盘。一种用于磁盘的玻璃基底具有以下结构,其中在主表面的圆周边缘部分附近形成的外周缘形状在以该主表面的另外的平坦部分作为参考时具有以下特征:外周缘部分的滑雪跳跃值不大于0μm;外周缘部分的滚降值是-0.2至0.0μm;以及外周缘部分的dub-off值是0至120;该玻璃基底具有在主表面(数据面)和外周缘表面(竖直表面)之间的斜面,并且具有在玻璃基底的数据面和斜面之间的曲率半径为0.013至0.080mm的R表面。

    利用刷子对用于记录介质的基底的内缘端面进行抛光的方法

    公开(公告)号:CN100537141C

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200580028056.7

    申请日:2005-08-24

    Abstract: 提供一种抛光方法,该抛光方法在对用于记录介质的多个盘形基底的内缘端面进行抛光时没有加工量差量。提供一种利用刷子对用于记录介质的盘形基底的内缘端面进行抛光的方法,包括:提供多片用于记录介质的盘形基底,其在中心部分具有圆形孔从而形成内缘端面,并且层叠该多片盘形基底,同时对准圆形孔,从而形成在中心部分具有圆形孔的抛光对象;将包含抛光材料的抛光材料浆液接触到所述抛光对象;在所述浆液接触到所述抛光对象的情况下,将抛光刷从所述抛光对象的第一端插入到抛光对象的圆形孔中,其中抛光刷在杆形轴的周边散布有刷毛,然后以该轴作为中心轴来旋转抛光刷,从而对基底的内缘端面进行抛光;以及在所述浆液接触到所述抛光对象的情况下,将所述抛光刷从与第一端相对的第二端插入到所述抛光对象的圆形孔中,然后以该轴作为中心轴来旋转抛光刷,从而对基底的内缘端面进行抛光。

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