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公开(公告)号:CN108305645B
公开(公告)日:2019-08-13
申请号:CN201711430804.5
申请日:2017-12-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/7006 , C22C19/07 , C22C27/06 , C22C2202/02 , G11B5/653 , G11B5/7325
Abstract: 一种磁记录介质,依次包括基板、底层、及具有L10型结晶结构的合金进行了(001)配向的磁性层。所述底层从所述基板侧开始依次包括第1底层和第2底层。所述第1底层是以W为主成分的结晶质层。所述第2底层是含有以W为主成分的材料和氧化物且所述氧化物的含量位于2mol%~30mol%的范围内的结晶质层。所述氧化物是从由Cr、Mo、Nb、Ta、V、及W所组成的组中选择的一种以上的元素的氧化物。
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公开(公告)号:CN108305645A
公开(公告)日:2018-07-20
申请号:CN201711430804.5
申请日:2017-12-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/7006 , C22C19/07 , C22C27/06 , C22C2202/02 , G11B5/653 , G11B5/7325 , G11B5/731 , G11B5/70605 , G11B5/725 , G11B5/851
Abstract: 一种磁记录介质,依次包括基板、底层、及具有L10型结晶结构的合金进行了(001)配向的磁性层。所述底层从所述基板侧开始依次包括第1底层和第2底层。所述第1底层是以W为主成分的结晶质层。所述第2底层是含有以W为主成分的材料和氧化物且所述氧化物的含量位于2mol%~30mol%的范围内的结晶质层。所述氧化物是从由Cr、Mo、Nb、Ta、V、及W所组成的组中选择的一种以上的元素的氧化物。
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公开(公告)号:CN108182951A
公开(公告)日:2018-06-19
申请号:CN201711284415.6
申请日:2017-12-07
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 一种磁记录介质,在非磁性基板上依次具有软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层和保护层。所述垂直磁性层从所述非磁性基板侧依次具有第1磁性层和第2磁性层。所述第2磁性层是包含磁性颗粒的最表层侧的磁性层。所述第1磁性层是晶界部包含氧化物的粒状结构的磁性层。所述第2磁性层是晶界部包含氮化物的粒状结构的磁性层。所述氮化物是所述磁性颗粒中所含的元素的氮化物。
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公开(公告)号:CN108231092B
公开(公告)日:2020-02-14
申请号:CN201711376704.9
申请日:2017-12-19
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 一种磁记录介质,在非磁性基板上依次具有软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层和保护层。所述垂直磁性层从所述非磁性基板侧依次具有第1磁性层和第2磁性层。所述第2磁性层是包含磁性颗粒的最表层侧的磁性层。所述第1磁性层是晶界部包含氧化物的粒状结构的磁性层。所述第2磁性层是晶界部包含碳化物的粒状结构的磁性层。所述碳化物是所述磁性颗粒中所含的元素的碳化物。
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公开(公告)号:CN108182951B
公开(公告)日:2020-02-14
申请号:CN201711284415.6
申请日:2017-12-07
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 一种磁记录介质,在非磁性基板上依次具有软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层和保护层。所述垂直磁性层从所述非磁性基板侧依次具有第1磁性层和第2磁性层。所述第2磁性层是包含磁性颗粒的最表层侧的磁性层。所述第1磁性层是晶界部包含氧化物的粒状结构的磁性层。所述第2磁性层是晶界部包含氮化物的粒状结构的磁性层。所述氮化物是所述磁性颗粒中所含的元素的氮化物。
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公开(公告)号:CN108346437A
公开(公告)日:2018-07-31
申请号:CN201810039987.6
申请日:2018-01-16
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/66
Abstract: 一种磁记录介质,依次包括基板、底层、及具有进行了(001)配向的L10型结晶结构的合金的磁性层。所述底层从所述基板侧开始依次包括第1底层和第2底层。所述第1底层是以Mo为主成分的结晶质层。所述第2底层是含有以Mo为主成分的材料和氧化物且所述氧化物的含量位于2mol%~30mol%的范围内的结晶质层。所述氧化物是从由Cr、Mo、Nb、Ta、V、及W所组成的组中选择的一种以上的元素的氧化物。
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