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公开(公告)号：CN111788328A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980016129.2
申请日：2019-03-06
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种耐破坏性、耐剥离性优异，即使用于滑动时反复产生大的接触应力的用途的情况下，也可发挥优异的密合性，并具有充分的耐久性的被膜及其形成方法。一种复合被膜，包覆在基材上，在下层形成有氢含量不足5at％、膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，硬质碳膜A与硬质碳膜B直接层叠。
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公开(公告)号：CN119156265A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202380034949.0
申请日：2023-04-25
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明实现一种在广泛的加工条件下稳定地发挥高性能的硬质被膜等。一种硬质被膜(12)，包括包含AlxCr1‑xN的A层(A1～An)与包含Ti1‑ySiyN的B层(B1～Bn)交替层叠而成的结构，在将交替层叠而成的所述A层与所述B层的一组的组合设为C层(C1～Cn)时，所述C层的厚度为7nm以上且18nm以下，所述C层的厚度的合计为1μm以上且6μm以下，所述A层以及所述B层的厚度分别小于10nm。(此处，所述x为0.6以上且0.7以下，所述y超过0.05且小于0.08)。
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公开(公告)号：CN106661715A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580040273.1
申请日：2015-07-16
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种可抑制阴极物质破裂的等离子体装置。等离子体装置10包括真空容器1、电弧式蒸发源3、阴极构件4、永久磁铁5、电源7、触发电极8及挡板12。电弧式蒸发源3在真空容器1的侧壁上与基板20相对向而固定。阴极构件4包含具有突起部的玻璃状碳，安装于电弧式蒸发源3上。突起部具有大于0.785mm2的剖面积。永久磁铁5对阴极构件4施加磁场。电源7对电弧式蒸发源3施加负的电压。触发电极8与阴极构件4的突起部接触或背离。对电弧式蒸发源3施加负的电压，使触发电极8与阴极构件4的突起部接触而产生电弧放电，打开挡板12而在基板20上形成碳薄膜。
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公开(公告)号：CN111788328B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201980016129.2
申请日：2019-03-06
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种耐破坏性、耐剥离性优异，即使用于滑动时反复产生大的接触应力的用途的情况下，也可发挥优异的密合性，并具有充分的耐久性的被膜及其形成方法。一种复合被膜，包覆在基材上，在下层形成有氢含量不足5at％、膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，硬质碳膜A与硬质碳膜B直接层叠。
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公开(公告)号：CN106661715B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201580040273.1
申请日：2015-07-16
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明提供一种碳薄膜、制造其的等离子体装置及制造方法，可抑制阴极物质破裂。等离子体装置包括真空容器、电弧式蒸发源、阴极构件、永久磁铁、电源、触发电极及挡板。电弧式蒸发源在真空容器的侧壁上与基板相对向而固定。阴极构件包含具有突起部的玻璃状碳，安装于电弧式蒸发源上。突起部具有大于0.785mm2的剖面积。永久磁铁对阴极构件施加磁场。电源对电弧式蒸发源施加负的电压。触发电极与阴极构件的突起部接触或背离。对电弧式蒸发源施加负的电压，使触发电极与阴极构件的突起部接触而产生电弧放电，打开挡板而在基板上形成碳薄膜。
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