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公开(公告)号:CN119156265A
公开(公告)日:2024-12-17
申请号:CN202380034949.0
申请日:2023-04-25
Applicant: 日本ITF株式会社
Abstract: 本发明实现一种在广泛的加工条件下稳定地发挥高性能的硬质被膜等。一种硬质被膜(12),包括包含AlxCr1‑xN的A层(A1~An)与包含Ti1‑ySiyN的B层(B1~Bn)交替层叠而成的结构,在将交替层叠而成的所述A层与所述B层的一组的组合设为C层(C1~Cn)时,所述C层的厚度为7nm以上且18nm以下,所述C层的厚度的合计为1μm以上且6μm以下,所述A层以及所述B层的厚度分别小于10nm。(此处,所述x为0.6以上且0.7以下,所述y超过0.05且小于0.08)。