-
公开(公告)号:CN101207945B
公开(公告)日:2011-11-16
申请号:CN200710192722.1
申请日:2007-11-16
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: H05B3/06 , H05B3/28 , H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/316 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供在半导体制造工艺中能够均匀地加工被加热物的加热装置。加热装置(10)具备:具有加热面的基体(11);以及埋设在该陶瓷基体(11)的内部的发热体(12)。在该陶瓷基体(11)内部的加热面(11a)和所述发热体(12)之间具有导热性部件(14)。导热性部件(14)具有比陶瓷基体高的导热率。
-
公开(公告)号:CN100539766C
公开(公告)日:2009-09-09
申请号:CN200610075826.X
申请日:2006-04-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: H01L21/67103 , H05B3/143
Abstract: 本发明提供可提高装置的可靠性的供电部件以及使用了它的加热装置。该供电部件(100)具备:与供电对象连接的第1棒状部件(101)、与电源连接的第2棒状部件(103)、在第1棒状部件(101)与第2棒状部件(103)之间设置的根据第1棒状部件(101)与第2棒状部件(103)的因热膨胀产生的长方向的变形而沿长方向收缩的热膨胀吸收部件(102)。
-
公开(公告)号:CN101043017A
公开(公告)日:2007-09-26
申请号:CN200710089473.3
申请日:2007-03-23
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6831
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够以良好地特性同时得到晶片的热均匀性和绝缘部件的绝缘性。静电吸盘(1)具有在保持晶片(W)的保持面附近埋设了电极(12)的陶瓷基材(11)。在该陶瓷基材(11)的背面侧设有与电极(12)连接的端子(13);晶片(W)的温度调节部件(14);该端子(13)以及温度调节部件(14)的绝缘部件(15)。该绝缘部件(15)在与陶瓷基材(11)相接的端部具有凸缘部(15a),由高导热性陶瓷构成。
-
-