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公开(公告)号：CN108137990A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680059049.1
申请日：2016-10-14
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D201/06 , A61K35/19 , B01J19/00 , C08F220/34 , C08F230/02 , C09D5/16 , C09D143/02 , C12M1/00 , C12M1/26 , G01N37/00
CPC classification number: A61K35/19 , B01J19/00 , C08F220/34 , C08F230/02 , C09D5/16 , C09D143/02 , C09D201/06 , C12M1/00 , C12M1/26 , G01N37/00
Abstract: 本发明提供通过极其简单的操作即可涂覆在流路的内部表面且具有优异的抑制生物材料附着的能力的流路用涂层剂、以及在流路的内部表面的至少一部分具有上述流路用涂层剂的流路设备、产生血小板的流路装置及其制造方法。本发明涉及含有共聚物的流路用涂层剂、以及在流路的内部表面的至少一部分具有上述流路用涂层剂的流路设备、产生血小板的流路装置及其制造方法，上述共聚物含有包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元及包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元。式中，Ua1、Ua2、Ua3、Ub1、Ub2、Ub3及An－如本说明书和权利要求书中所述。
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公开(公告)号：CN107001539A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580066417.0
申请日：2015-12-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08F230/02 , A61L27/00 , A61L31/00
Abstract: 本发明提供通过使至少包含下述式(A)、(B)及(C)(式中，Ta、Tb、Tc、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、Qa、Qb及Qc、Ra、Rb及Rc、An‑、以及m如本说明书及权利要求书中所定义的那样)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的共聚物等。本发明的共聚物可作为抑制生物材料附着的能力优异的离子复合物材料利用。
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公开(公告)号：CN105849642A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201480070299.6
申请日：2014-12-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08G63/6856 , C08G63/6886 , C09D167/02 , C09D167/025 , C09D181/04 , G03F7/091 , G03F7/094
Abstract: 本发明提供一种新型的抗蚀剂下层膜形成用组合物。所述抗蚀剂下层膜形成用组合物包含具有下述式(1)所示的结构单元及下述式(2)所示的结构单元的共聚物、交联性化合物、交联催化剂以及溶剂。(式中，A表示含三嗪环的2价的有机基团，X1表示?S?基或?O?基，Q表示碳原子数1～15的直链状、支链状或环状的烃基，该烃基可以在主链上具有至少1个硫原子或氧原子，也可以具有至少1个羟基作为取代基，n表示0或1，R1及R2各自独立地表示碳原子数1～3的亚烷基或单键，Z表示具有至少1个硫原子或氧原子的2价的基团，X1表示?O?基时，Z表示具有至少1个硫原子的2价的基团。)
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公开(公告)号：CN105308137A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480032648.5
申请日：2014-06-09
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D201/02 , B05D5/00 , B05D7/24 , B32B27/00 , C08F230/02 , C08L43/02 , C08L101/02 , C09D5/16 , C09D143/02
Abstract: 本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜、该涂覆膜的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。或。
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公开(公告)号：CN105307698A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480032424.4
申请日：2014-06-09
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: A61M1/02
Abstract: 本发明提供一种血液滤器，所述血液滤器包括：多孔元件；以及存在于该多孔元件的表面的至少一部分上的共聚物，所述共聚物包含：包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元和包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如说明书及权利要求书中所记载的那样)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103814091A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201280045988.2
申请日：2012-09-14
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D5/00 , C09D5/24 , C09D7/12 , C09D201/00 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0059 , C08K5/18 , C08K5/42 , C09D5/24 , C09D7/63 , H01L51/0021 , H01L51/5056 , H01L51/5088 , H01L51/5237 , H01L51/524
Abstract: 包含式（1）所示的芳基二胺化合物、电子接受性掺杂剂物质和溶剂的电荷传输性清漆形成具有高透明性、应用于有机EL元件时可发挥良好的元件特性的电荷传输性薄膜。式中，R1～R4各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、羟基、硫醇基、磷酸基、磺酸基、羧基、碳数1～20的烷氧基等，R5～R8各自独立地表示氢原子、苯基、萘基、吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、吡嗪基、呋喃基、吡咯基、吡唑基、咪唑基、噻吩基等，n表示2～5的整数。
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公开(公告)号：CN103026474A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201180036266.6
申请日：2011-07-26
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/247 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02592 , H01L21/02628 , H01L29/78693
Abstract: 形成包含金属盐、第一酰胺、以水为主体的溶剂的非晶态金属氧化物半导体层形成用前体组合物，使用该组合物制成非晶态金属氧化物半导体层。
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公开(公告)号：CN101910948B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN200980101866.9
申请日：2009-01-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G59/14 , C08G59/42 , H01L21/027
CPC classification number: C08G59/423 , C08G59/186 , G03F7/091 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的课题是提供用于形成抗蚀剂下层膜的组合物，所述抗蚀剂下层膜，干蚀刻速度相对抗蚀剂膜的选择比大、在ArF准分子激光等短波长下的k值低且n值显示出高值，并可形成所需形状抗蚀剂图案。当制造该组合物时和使用该组合物时，要求原料单体引起的臭气不会成为问题。作为解决本发明课题的方法是，通过包含主链具有二硫键(S-S键)的聚合物和溶剂的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物来解决上述课题。上述聚合物是包含2个环氧基的至少1种化合物(二环氧化合物)与包含二硫键的至少1种二羧酸的反应产物。
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公开(公告)号：CN101821677B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200880111027.0
申请日：2008-10-16
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G59/14 , H01L21/027
CPC classification number: C08G63/664 , C08G59/1438 , C08L63/00 , G03F7/091
Abstract: 本发明的目的在于提供用于形成干蚀刻速度的选择比大、且在诸如ArF准分子激光的短波长下的k值和折射率n显示期望值的抗蚀剂下层膜的组合物。该形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物包含线状聚合物和溶剂，所述线状聚合物的主链具有介由酯键和醚键引入了2，4-二羟基苯甲酸的单元结构。
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公开(公告)号：CN112552769B
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202011478659.X
申请日：2014-06-09
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D143/02 , C09D5/16 , C08F230/02 , C08F220/34
Abstract: 本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜和离子络合材料、它们的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。
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