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公开(公告)号：CN1777708A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200480010535.1
申请日：2004-04-23
Applicant: 斯特拉化学株式会社 , 株式会社福田结晶技术研究所
CPC classification number: C30B15/08 , C01B9/08 , C30B29/12 , Y10T117/10
Abstract: 提供可用极短的时间制造氟化物晶体的制造装置及制造方法。对装置实施改造，使之具有能处理氟化物的反应室、窗户材等，可进行高真空排气，且使种晶与熔融液容易接触，并且通过使用对坩埚坑部的毛细部进行了控制的坩埚，能够用短时间稳定地得到高品质的氟化物单晶。
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公开(公告)号：CN1639070A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN03804728.4
申请日：2003-02-27
Applicant: 斯特拉化学株式会社
CPC classification number: C01G33/003 , C01G33/00 , C01G35/00 , C01G35/003 , C01P2006/80 , C22B3/20 , C22B3/22 , C22B3/44 , C22B34/24 , Y02P10/234
Abstract: 本发明提供一种能够更简便且低成本地进行高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制的高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制方法。其特征在于，用通过从含有铌和/或钽的溶液晶析所得到的结晶、融液或滤液生成铌化合物和/或钽化合物，并利用该溶解度的差进行高纯度的铌化合物和/或钽化合物的分离。
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公开(公告)号：CN1491300A
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN02804711.7
申请日：2002-02-07
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C30B29/12
CPC classification number: C30B31/06 , C01F11/22 , C01F17/0062 , C01P2004/60 , C01P2004/61 , C01P2006/80 , C30B29/12 , C30B33/02 , Y10T436/19
Abstract: 提供减少高纯度氟化物如氟化钙和氟化钡(高纯度氟化物不局限于氟化钙和氟化钡)中或稀土元素氟化物如氟化镱和氟化铈中的氧和碳组分的方法，这些氟化物被用于光学纤维、涂料等。本发明方法的特征在于高纯度氟化物中含有的氧和碳组分可通过氟气处理来减少。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1298698C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN03811021.0
申请日：2003-04-17
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C07C209/84 , C07C211/63 , H01M10/40 , H01G9/038
CPC classification number: H01G9/038 , C07C209/84 , H01G11/62 , H01M6/166 , H01M10/0568 , H01M2300/0025 , Y02E60/13 , C07C211/63
Abstract: 本发明提供一种四级烷基铵盐的精制方法，利用该方法可以高收率地得到适合作为电解液的电解质的水分含量低的粒子状的四级烷基铵四氟硼酸盐类。该方法的特征在于，包括使被精制的四级烷基铵盐分散在有机溶剂中而形成悬浊液的步骤。烷基的碳原子数为1～5的范围内。在使被精制的四级烷基铵盐分散至有机溶剂中制成悬浊液的步骤后，利用醇溶剂洗涤。
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公开(公告)号：CN1842725A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200480024303.1
申请日：2004-08-25
Applicant: 斯特拉化学株式会社
CPC classification number: G01T1/2023 , A61B6/037 , A61B6/4258
Abstract: 提供一种闪烁体材料，具有优良的发光强度与衰减速度特性，并且容易培育结晶。闪烁体是Pr1－xCexF3(0＜x＜0.5)的结晶，可以在紫外线或可见光区域发出光线或射线。
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公开(公告)号：CN1768259A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200480008530.5
申请日：2004-03-04
Applicant: 斯特拉化学株式会社
Abstract: 本发明之目的在于提供能极简单地分析氟化物中的杂质及色中心的氟化物中的杂质及色中心分析方法。并提供可在形成最终单结晶前对清除剂的添加效果进行评价的氟化物中的杂质及色中心分析方法。以X射线照射得到的熔融原料，通过测定该照射前后的透光率来检测形成的色中心等的吸收峰等。据此使清除剂等的熔融条件最优化，从而可培育出适合于X射线损伤少的单结晶培养的高纯度熔融原料。
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公开(公告)号：CN1639071A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN03804729.2
申请日：2003-02-27
Applicant: 斯特拉化学株式会社
CPC classification number: C01G35/00 , C01G33/00 , C01G35/02 , C01P2006/80 , C22B3/10 , C22B3/44 , C22B34/20 , C22B34/24 , Y02P10/234
Abstract: 本发明提供一种更为简便且低成本的铌化合物和/或钽化合物的精制方法。此种铌化合物和/或钽化合物的精制方法，其特征在于，利用晶析操作从铌化合物和/或钽化合物的溶解液进行精制。
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公开(公告)号：CN1608037A
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN02816597.7
申请日：2002-08-26
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/306
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸以及氟化铵、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸以及至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以x＞x1的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极大值f(x1)、x＝x2(其中x1＜x2)时具有极小值f(x2)。
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