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公开(公告)号：CN114342059B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN202080062352.3
申请日：2020-08-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本文描述的实施例涉及基板支撑组件，所述基板支撑组件使静电吸盘(ESC)能够进行低温操作，使得设置在基板支撑组件上的基板维持在适合进行处理的低温处理温度下，同时使处理腔室的其他表面维持在不同的温度。基板支撑组件包括静电吸盘(ESC)、ESC底座组件和设施板，ESC底座组件耦接至ESC、具有设置在ESC底座组件中的底座通道，且设施板具有设置在设施板中的设施通道。设施板包括板部分和壁部分。板部分耦接至ESC底座组件，且壁部分由密封组件耦接至ESC。由ESC、ESC底座组件、设施板的板部分、设施板的壁部分和密封组件限定真空区域。
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公开(公告)号：CN112970100A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201980072880.4
申请日：2019-11-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H02N13/00
Abstract: 本文所述实施例涉及一种基板支撑组件，所述基板支撑组件实现静电吸盘(ESC)的低温操作，使得设置在静电吸盘(ESC)上的基板被维持在适用于处理的低温处理温度，同时将处理腔室的其他表面维持在不同的温度。基板支撑组件包含：静电吸盘(ESC)，耦合至ESC的ESC底座组件，ESC底座组件具有设置在ESC底座组件中的底座通道，以及具有设置在设施板中的设施通道的设施板。设施板包含板部分和壁部分。板部分耦合至ESC底座组件并且壁部分使用密封组件耦合至ESC。真空区域由ESC、ESC底座组件、设施板的板部分、设施板的壁部分、以及密封组件来限定。
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公开(公告)号：CN105431924A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201580001474.0
申请日：2015-03-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , T·K·赵 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯
IPC: H01L21/02 , H01L21/203 , H01L21/205
Abstract: 本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室，以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。
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公开(公告)号：CN105408984A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201580001473.6
申请日：2015-01-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , T·K·赵
IPC: H01L21/02
Abstract: 本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。
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公开(公告)号：CN112970100B
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN201980072880.4
申请日：2019-11-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H02N13/00
Abstract: 本文所述实施例涉及一种基板支撑组件，所述基板支撑组件实现静电吸盘(ESC)的低温操作，使得设置在静电吸盘(ESC)上的基板被维持在适用于处理的低温处理温度，同时将处理腔室的其他表面维持在不同的温度。基板支撑组件包含：静电吸盘(ESC)，耦合至ESC的ESC底座组件，ESC底座组件具有设置在ESC底座组件中的底座通道，以及具有设置在设施板中的设施通道的设施板。设施板包含板部分和壁部分。板部分耦合至ESC底座组件并且壁部分使用密封组件耦合至ESC。真空区域由ESC、ESC底座组件、设施板的板部分、设施板的壁部分、以及密封组件来限定。
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公开(公告)号：CN109545642B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201811106975.7
申请日：2018-09-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , S·E·巴巴扬 , S·D·普劳蒂 , A·施密特
IPC: H01J37/32
Abstract: 本公开内容的各个方面总体上涉及用于在处理腔室中进行边缘环替换的设备和方法。在一个方面中，公开一种用于支撑边缘环的载体。在其他方面，公开了用于支撑载体的机械叶片。在另一方面中，公开一种用于在脱气腔室中支撑载体的支撑结构。在另一方面中，公开一种在载体上传送边缘环的方法。
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公开(公告)号：CN108573849B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201810191162.6
申请日：2018-03-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·阮 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯 , X·Y·常
IPC: H01J37/32
Abstract: 提供了用于在等离子体腔室的串接处理区域中处理基板的方法和设备。在一个示例中，设备被体现为等离子体腔室，等离子体腔室包括具有第一腔室侧部和第二腔室侧部的腔室主体，第一腔室侧部具有第一处理区域，第二腔室侧部具有第二处理区域。腔室主体具有前壁和底壁。第一腔室侧部端口、第二腔室侧部端口和真空端口穿过底壁设置。真空端口是处理区域中的每一者的排气路径的至少一部分。真空壳体从前壁延伸，并且限定真空端口的第二部分。基板支撑件设置在处理区域中的每一者中，并且杆耦接到每个基板支撑件。每个杆延伸穿过腔室侧部端口。
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公开(公告)号：CN114342059A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080062352.3
申请日：2020-08-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本文描述的实施例涉及基板支撑组件，所述基板支撑组件使静电吸盘(ESC)能够进行低温操作，使得设置在基板支撑组件上的基板维持在适合进行处理的低温处理温度下，同时使处理腔室的其他表面维持在不同的温度。基板支撑组件包括静电吸盘(ESC)、ESC底座组件和设施板，ESC底座组件耦接至ESC、具有设置在ESC底座组件中的底座通道，且设施板具有设置在设施板中的设施通道。设施板包括板部分和壁部分。板部分耦接至ESC底座组件，且壁部分由密封组件耦接至ESC。由ESC、ESC底座组件、设施板的板部分、设施板的壁部分和密封组件限定真空区域。
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公开(公告)号：CN112366128A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011249512.3
申请日：2015-03-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·恩古耶 , T·K·赵 , Y·萨罗德维舍瓦纳斯
Abstract: 本申请公开了一种用于在处理腔室中提供对称的流动路径的流动模块。本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室，以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。
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