公开(公告)号：CN100536068C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200710148563.5

申请日：2007-08-29

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 后藤友宏 ,  真田雅和 ,  茂森和士 ,  玉田修 ,  安田周一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/30 ,  G03F1/00 ,  G02F1/1333 ,  G11B7/26

Abstract: 一种基板处理方法及装置，在从喷出喷嘴向基板表面喷出洗涤液的同时，使喷出喷嘴进行扫描而对基板进行旋转干燥时可消除显影缺陷等的产生。由旋转卡盘(10)将基板(W)保持为水平姿势，通过旋转马达(14)使基板(W)围绕铅垂轴旋转，在一边从纯水喷出喷嘴(20)的喷出口向基板(W)表面喷出洗涤液，一边使纯水喷出喷嘴(20)的喷出口从与基板(W)中心对峙的位置到与基板(W)周缘对峙的位置进行扫描时，使该喷嘴开始移动后，在基板(W)中心附近，在基板(W)上仅产生一个干燥芯作为形成干燥区域时的始点，防止在基板(W)中心附近产生两个以上的干燥芯。且使以该干燥芯为始点的干燥区域在基板(W)整个表面上扩展而使其干燥。

公开(公告)号：CN1786828A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200510129566.5

申请日：2005-12-06

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  奥村刚

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/38

Abstract: 基板处理装置具有：分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、洗涤/显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在洗涤/显影处理模块的洗涤处理单元中进行基板的洗涤以及干燥处理。

公开(公告)号：CN1786827A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200510129564.6

申请日：2005-12-06

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  鸟山幸夫 ,  田口隆志 ,  三桥毅 ,  奥村刚

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、干燥处理区以及接口区。曝光装置以相邻于接口区的方式配置。干燥处理区具有干燥处理部。接口区具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部。在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥处理。

公开(公告)号：CN1773673A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN200510120446.9

申请日：2005-11-10

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 安田周一 ,  金冈雅 ,  金山幸司 ,  宫城聪 ,  茂森和士 ,  浅野彻 ,  久井章博 ,  小林宽 ,  奥村刚

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/7075 ,  Y10S438/906 ,  Y10S438/908

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，基板处理装置具有：分度器部、反射防止膜用处理部、抗蚀膜用处理部、显影处理部以及接口部。以相邻于接口部的方式配置曝光装置。接口部具有清洗处理部以及接口用搬送机构。在曝光装置中对基板执行曝光处理之前，基板通过接口用搬送机构被搬送到清洗处理部。在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥。

公开(公告)号：CN1773376A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN200510120440.1

申请日：2005-11-10

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 金山幸司 ,  久井章博 ,  浅野彻 ,  小林宽 ,  奥村刚 ,  安田周一 ,  金冈雅 ,  宫城聪 ,  茂森和士

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/70991 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供的基板处理装置具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置有曝光装置。接口模块具有含有2个干燥处理单元的干燥处理部和接口用搬送机构。在曝光装置中，在对基板实施了曝光处理后，基板通过接口用搬送机构被搬送到干燥处理部的干燥处理单元。在干燥处理部的干燥处理单元中，进行基板的洗涤和干燥。