一种基于热致相变材料的高透光热可调微波吸收光窗

    公开(公告)号:CN114501969A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202210110004.X

    申请日:2022-01-29

    Abstract: 一种基于热致相变材料的高透光热可调微波吸收光窗属于光学透明电磁屏蔽及微波吸收领域。该高透光微波吸收光窗由图案化热致相变材料层、透明介质层和透明微波屏蔽层共同构成,图案化热致相变材料和透明微波屏蔽层分别平行放置于透明介质层的两侧。本发明在高光学透明的前提下,通过控制温度可以实现光窗吸收率的连续变化,且光窗在峰值温度可以实现近100%的峰值吸收率。除此之外,本发明微波吸收光窗的峰值温度可通过控制热致相变材料方阻和图案化热致相变材料层的占空比来调节。本发明扩展了相变材料在GHz领域的应用,且具有设计灵活、热可调、应用范围广等优点。

    具有石墨烯与双层金属网栅的透明双向吸波电磁屏蔽器件

    公开(公告)号:CN106714533B

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN201510448956.2

    申请日:2015-07-28

    Abstract: 具有双向吸波作用的石墨烯/双层金属网栅透明电磁屏蔽器件属于光学透明件电磁屏蔽技术领域,该电磁屏蔽器件用金属网栅A和B作为透明反射层,分别用1‑6层被透明介质分隔的石墨烯薄膜作为透明吸收层A和B,将透明吸收层A和B分别置于透明反射层两侧;本发明将石墨烯薄膜的低反射和部分吸收微波特性与高透光双层金属网栅的强电磁反射特性有机结合,可使器件两侧的射频辐射多次穿过吸收层而被强吸收,实现双向的强屏蔽和低反射特性,可见光仅透过多层结构一次而具有高透光率;该电磁屏蔽器件解决了现有透明电磁屏蔽方法双向强电磁屏蔽、高透光和低电磁反射不能兼顾的问题,具有双向高透光、强电磁屏蔽、低电磁反射的特点。

    石墨烯网栅和双层金属网栅复合层叠结构的强电磁屏蔽光窗

    公开(公告)号:CN106385791B

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201510449180.6

    申请日:2015-07-28

    Abstract: 石墨烯网栅和双层金属网栅复合层叠结构的电磁屏蔽光窗属于光学透明件电磁屏蔽技术领域,该电磁屏蔽光窗利用石墨烯网栅薄膜具有不同的网孔单元开孔面积比时表现出的不同透光和微波屏蔽特性,将石墨烯网栅薄膜的低反射和部分吸收微波特性与高透光双层金属网栅的强电磁反射特性有机结合,构成多层结构:用双层金属网栅作为透明反射层,用N层被透明介质分隔的石墨烯网栅薄膜作为透明吸收层;该结构可使射频辐射多次穿过吸收层被强吸收,实现强屏蔽和低反射特性,可见光仅透过层叠结构一次而具有高透光率,并且由于石墨烯网栅薄膜存在周期性的开孔结构,提高了其透光性能;该电磁屏蔽光窗解决了现有透明电磁屏蔽方法高透光、低电磁反射和强电磁屏蔽不能兼顾的问题。

    一种双轴干涉镜组分光特性检测方法

    公开(公告)号:CN106323461B

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:CN201510397099.8

    申请日:2015-07-08

    Abstract: 双轴干涉镜组分光特性检测方法属于激光应用技术领域;该方法将双频激光依次通过偏振器和待测双轴干涉镜组,使用光电探测器同时接收待测双轴干涉镜组两路输出的光强;通过旋转偏振器,使双路测量光强发生变化,根据测量得到的两路光强变化曲线求解双轴干涉镜组的等效能量透射率和等效能量反射率、放置旋转角度误差、激光光源的非正交角。本发明将双轴干涉镜组分光特性用等效能量透射率和能量反射率表示;采用双路同步测量方式,有效避免了测量中光源波动对测量结果的影响;在技术方面,方位角求解利用了两路光强比值的周期性和对称性,等效参数求解考虑了采集波动误差,利用最小二乘法精确拟合求解,有效提高了参数求解的稳定性和精度。

    一种基于衍射光栅的三维位移测量装置

    公开(公告)号:CN104596425A

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201510021690.3

    申请日:2015-01-09

    Abstract: 一种基于衍射光栅的三维位移测量装置涉及一种超精密位移测量技术及光栅位移测量系统,由标尺光栅和读数头两部分组成,读数头包括光源、分光部件、扫描分光光栅部件、X向探测部件、Y向探测部件、Z向探测部件、信号处理部件;该装置基于迈克尔逊干涉仪原理和多衍射光栅干涉原理实现了X向、Y向和Z向位移的同时测量,具有结构简单紧凑、体积小、抗干扰能力强以及X向、Y向和Z向测量不耦合等优点,能够实现纳米甚至更高测量分辨力,可应用于多自由度高精度的位移测量。

    一种基于衍射光栅的二维位移测量装置

    公开(公告)号:CN104567696A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201510021664.0

    申请日:2015-01-09

    Abstract: 一种基于衍射光栅的二维位移测量装置涉及一种超精密位移测量技术及光栅位移测量系统,由标尺光栅和读数头两部分组成,读数头包括光源、分光部件、扫描分光光栅部件、X向探测部件、Z向探测部件、信号处理部件;该装置基于迈克尔逊干涉仪原理和多衍射光栅干涉原理实现了X向和Z向位移的同时测量,具有结构简单紧凑、体积小、抗干扰能力强以及X向和Z向测量不耦合等优点,能够实现纳米甚至更高测量分辨力,可应用于多自由度高精度位移测量。

    一种使用双频激光和衍射光栅的三维位移测量装置

    公开(公告)号:CN104567695A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201510021662.1

    申请日:2015-01-09

    Abstract: 一种使用双频激光和衍射光栅的三维位移测量装置涉及一种超精密位移测量技术及光栅位移测量系统,由标尺光栅和读数头两部分组成,读数头包括双频激光光源、Z向干涉部件、扫描分光光栅部件、X向探测部件、Y向探测部件、Z向探测部件、信号处理部件;该装置基于典型迈克尔逊干涉仪原理、多衍射光栅干涉原理和光学拍频原理实现了X向、Y向和Z向位移的同时测量,具有结构紧凑、抗干扰能力强、对标尺光栅后向零级衍射强度要求低以及X向、Y向和Z向测量不耦合等优点,能够实现纳米甚至更高测量分辨力,可应用于多自由度高精度的位移测量。

    具有内切子圆环的交叉三角分布金属圆环阵列电磁屏蔽光窗

    公开(公告)号:CN103874404A

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201410051906.6

    申请日:2014-02-14

    Inventor: 陆振刚 谭久彬

    Abstract: 具有内切子圆环的交叉三角分布金属圆环阵列电磁屏蔽光窗属于电磁屏蔽技术领域;两种不同直径的金属圆环分别按等边三角形排列密接排布并交叉分布构成二维金属网栅加载于光窗透明基片表面,同一直径的相邻圆环外切连通,其中一种直径的圆环内部含有内切连通的子圆环,该圆环和其内切连通的子圆环共同组成二维金属网栅的基本单元;在圆环相切连通的连接处,通过线条交叠或设置保证金属环切点间可靠电联接的金属,确保所有圆环相互连通导电。相对于现有的金属网栅结构,本发明的金属网栅结构可显著的降低网栅高级次衍射光强分布的不均匀性,使衍射造成的杂散光分布更加均匀,对成像影响更小。

    基于三角及正交混合分布圆环及子圆环阵列的电磁屏蔽光窗

    公开(公告)号:CN103826428A

    公开(公告)日:2014-05-28

    申请号:CN201410051544.0

    申请日:2014-02-14

    Inventor: 陆振刚 谭久彬

    Abstract: 基于三角及正交混合分布圆环及子圆环阵列的电磁屏蔽光窗属于电磁屏蔽技术领域,由相同直径的金属圆环作为基本圆环按等边三角和二维正交混合排列密接排布构成并加载于光窗透明基片表面;相邻基本圆环外切连通,相邻基本圆环的圆心连线构成等边三角形或正方形;每个基本圆环内设有与其内切连通、金属的子圆环,两者共同构成二维网栅阵列结构的基本单元;在圆环相切连通的连接处,通过线条交叠或设置保证金属环切点间可靠电联接的金属,确保所有圆环相互导电。本发明的金属网栅结构可显著的降低网栅高级次衍射光强分布的不均匀性,使衍射造成的杂散光分布更加均匀,对成像影响更小。

    基于全向散布定域堆积模型的曲面超薄金属共掺杂镀膜装置

    公开(公告)号:CN119663200A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202510179797.4

    申请日:2025-02-19

    Abstract: 本申请涉及镀膜技术领域,公开一种基于全向散布定域堆积模型的曲面超薄金属共掺杂镀膜装置,装置包括水冷循环系统、真空泵组、模式切换电机控制系统、旋转载物台、溅射头组和溅射头公转支撑臂,具备灵活的机械自由度和多种工作模式,通过全向散布定域堆积模型,结合溅射角度调控和环带拼接沉积,显著提升镀膜厚度的均匀性和掺杂材料的分布精度。装置可实现单溅射和共溅射模式切换,适用于球面、抛物面等曲率复杂的回转曲面,在5–35nm厚度范围内制备均匀的共掺杂金属薄膜。本申请能够有效降低沉积过程中的时间和成本,并克服现有方法在材料多样性、膜层连续性以及曲面适配性方面的局限性。

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