一种同质阻挡层/骨架二氧化钛结构的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN107680815A

    公开(公告)日:2018-02-09

    申请号:CN201710845326.8

    申请日:2017-09-18

    CPC classification number: Y02E10/542 H01G9/2031

    Abstract: 一种同质阻挡层/骨架二氧化钛结构的制备方法及其应用,它涉及一种光阳极的制备方法及应用。本发明的目的是要解决现有介孔材料作为敏化太阳能电池的光阳极使用时电子传输效率低,光电子在传输过程中易发生复合的问题。方法:一、制备去除杂质的导电基底;二、配制阻挡层反应液;三、制备阻挡层/基底;四、制备TiO2骨架,得到同质阻挡层/骨架TiO2结构。本发明制备的同质阻挡层/骨架二氧化钛结构作为敏化太阳能电池的光阳极应用。本发明可获得同质阻挡层/骨架二氧化钛结构。

    一种钛合金TA2表面高太阳吸收率低发射率膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN105040070A

    公开(公告)日:2015-11-11

    申请号:CN201510586138.9

    申请日:2015-09-15

    Abstract: 一种钛合金TA2表面高太阳吸收率低发射率膜层的制备方法,它涉及一种钛合金TA2表面陶瓷膜层的制备方法。本发明的目的是要解决现有钛合金TA2表面的涂层存在太阳能吸收率低,自身发射率高,膜层与基体的结合力不高的问题。方法:钛合金TA2前处理;二、微弧氧化,得到钛合金TA2表面高太阳吸收率低发射率膜层。本发明制备的钛合金TA2表面高太阳吸收率低发射率膜层的厚度为0.3μm~1μm,膜层的粗糙度为0.2μm~0.25μm,太阳吸收率为0.82~0.9,发射率为0.08~0.13。本发明可获得一种钛合金TA2表面高太阳吸收率低发射率膜层的制备方法。

    一种高效制备枝状α-Fe吸波材料的方法

    公开(公告)号:CN104928725A

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201510394058.3

    申请日:2015-07-07

    Abstract: 一种高效制备枝状α-Fe吸波材料的方法,它涉及一种制备吸波材料的方法。本发明的目的是要解决现有铁粉的表面积小,利用率低和现有方法制备的纳米级铁粉的成本高,工艺复杂及危险性大的问题。方法:一、取一套反应装置;二、配置电解液;三、制备金属粉体;四、清洗干燥,得到枝状α-Fe吸波材料。本发明制备的枝状α-Fe吸波材料为枝状结构,粒径为5μm~15μm。枝状结构表面积大,有利于吸波性能提高,并且可以使吸波材料质量降低,满足质轻要求。本发明可获得一种高效制备枝状α-Fe吸波材料的方法。

    一种MWCNT/Fe3O4/ZnO三元异质纳米复合物的制备方法

    公开(公告)号:CN103151129B

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201310099409.9

    申请日:2013-03-26

    Abstract: 一种MWCNT/Fe3O4/ZnO三元异质纳米复合物的制备方法,它涉及一种纳米复合材料的制备方法。本发明的目的是要解决现有方法制备的MWCNT/Fe3O4/ZnO纳米复合物存在ZnO不能够在Fe3O4表面包覆的缺点。方法:一、混合;二、制备MWCNT/Fe3O4一维复合材料;三、氨基化处理,得到氨基化修饰后的MWCNT/Fe3O4;四、螯合反应,即得到MWCNT/Fe3O4/ZnO三元异质纳米复合物。本发明优点:实现ZnO在Fe3O4表面包覆。本发明主要用于制备MWCNT/Fe3O4/ZnO三元异质纳米复合物。

    一种镁合金微弧氧化膜沉积羟基磷灰石的复合膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN103173765B

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201310099462.9

    申请日:2013-03-26

    Abstract: 一种镁合金微弧氧化膜沉积羟基磷灰石的复合膜层的制备方法,它涉及一种镁合金微弧氧化膜表面沉积羟基磷灰石的复合膜层的制备方法。本发明要解决现有羟基磷灰石力学性能差和镁合金生物活性与耐腐蚀性能不高的问题,本发明方法为:一、制备镁合金表面微弧氧化膜层;二、制备羟基磷灰石粉体;三、制备羟基磷灰石悬浊液;将表面带有微弧氧化膜层的镁合金和羟基磷灰石粉体悬浊液置于密封反应器中,然后水热反应,再取出干燥,即完成镁合金微弧氧化膜沉积羟基磷灰石的复合膜层的制备方法。本发明应用化工领域。

    一种SiC/SiO2纳米线增强体的合成方法

    公开(公告)号:CN103011166B

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201210578947.1

    申请日:2012-12-27

    Abstract: 一种SiC/SiO2纳米线增强体的合成方法,它涉及一种SiC/SiO2纳米材料的合成方法。它要解决现有SiC/SiO2纳米材料的合成方法复杂,产率低和反应随机性大的问题。合成方法:一、按摩尔百分比将硅粉、SiO2和碳纳米管粉体混合,得到混合粉体;二、将混合粉体放于管式炉或烧结炉中,在氩气氛中以1100~1500℃的温度烧结混合粉体;三、混合粉体再置于加热设备中烧结,保温去碳后得到SiC/SiO2纳米线增强体。本发明的合成方法工艺简单,产品重现性高、可控性好,产率可达80%以上。本发明主要应用于金属基复合材料增强体SiC/SiO2纳米材料的合成。

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