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公开(公告)号：CN108036927A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711145347.5
申请日：2017-11-17
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种嵌套式类Wolter‑I型望远镜性能评价方法，该方法基于三维光线追迹方法，利用在线测量得到望远镜装配后锥面镜片的三维图像，将镜片面形误差叠加到理想曲面上获得重构曲面；定义追迹光线；利用牛顿迭代法和双三次样条插值法精确的定位光线与重构曲面交点的位置；由包含追迹光线与重构曲面交点的法向量确定出射光线方向；最后通过光线追迹结果计算出光学系统的性能参数，由此对系统光学性能做出评价。与现有技术相比，本发明可高效和精确地评价装配后镜片面形误差对类Wolter‑I型望远镜光学系统性能的影响，该评价结果对系统的装配以及镜片加工工艺起到指导作用。
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公开(公告)号：CN105251745B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201510644365.2
申请日：2015-10-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种光学元件精密抛光后的清洗方法，特别适用于古典法抛光拼盘加工K9玻璃和熔融石英元件的清洗。具体步骤为：将下盘后的光学元件在汽油中浸泡 30分钟以上，在四氯化碳中浸泡 2小时后在40kHz、120kHz的超声频率下先后超声4～10分钟后，用35～45℃去离子水冲洗30～45秒；用乙醇溶液超声波清洗4～10分钟后用35～45℃去离子水冲洗30～45秒；最后用纯水超声清洗4～10分钟；干燥后即得所需产品。本发明综合浸泡和超声清洗方法，采用有机溶剂、无机溶剂和去离子水作为媒介，对精密抛光后的元件表面有机污染物和抛物粉残留颗粒有较高清洗效率，清洗过程不涉及酸性、碱性溶液，对元件表面不造成化学和物理损伤，提高紫外激光辐照下的损伤阈值。
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公开(公告)号：CN105176406B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201510644692.8
申请日：2015-10-09
Applicant: 同济大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种利用高纯气体混合搅拌的微米亚微米抛光液精选方法，特别适用于超光滑表面古典法抛光用的微米亚微米级氧化铈、氧化铁、氧化铝抛光液的筛选，具体步骤为：将抛光粉和高纯去离子水放入洁净容器中，通入洁净气体混合5～8分钟后静置3～5分钟，抛光粉颗粒在重力、浮力和液体阻力的共同作用下出现分层现象，利用虹吸管将上层1/2～2/3体积的溶液吸出；在吸出的溶液中加入等量水后再通入气体混合5～8分钟后静置3～5分钟，利用虹吸管吸出上层1/3～1/2体积的溶液，得到微粒粒径分布均匀的抛光液。该方法筛选的溶液粒径更小，粒度分布更均匀，用于超光滑表面抛光，不容易产生划痕，是超光滑表面抛光工艺中的关键技术。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103121190B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201310024139.5
申请日：2013-01-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种应用于双轴研抛机的夹持工具，包括开设有圆孔的中央套筒，圆孔内设置紧固C型黄铜圈，对称设置在中央套筒的两侧的半圆弧形支架，支架上开设有带螺纹的丝孔以及接在半圆弧形支架上的轴承部件。与现有技术相比，本发明在研磨或抛光盘上可以在研磨或抛光的时候，样品盘在转动前进的同时，还可以推动修整盘旋转前进，达到边修边抛的效果。本发明结构简单，通过不锈钢器件实现。与现有工具相比能大大提高在普通摆轴式抛光机上的研磨抛光效果，可操作性强，可靠行高，对应用环境没有额外的要求，非常适合实验室高精度研磨抛光需求和规模化生产的改造。
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公开(公告)号：CN105255368B
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201510644733.3
申请日：2015-10-09
Applicant: 同济大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种超精密抛光用微米亚微米抛光液的筛选方法，特别适用于古典法抛光超光滑表面用氧化铈、氧化铁、氧化铝抛光液的制备，具体步骤为：将抛光粉与适量纯水放入洁净容器中混合；用磁力搅拌器搅拌溶液5～10分钟并使用频率40kHz超声波超声5～10分钟后静置2~4分钟；将容器内上半部分近1/2体积溶液倒出；在倒出的溶液中加入等量纯水，再用磁力搅拌器搅拌溶液5～10分钟、超声5～10分钟、静置2~4分钟后，将容器内上半部分近1/2体积的溶液倒出，得到微粒粒径分布均匀的抛光液。该方法筛选的抛光液粒径更小，粒度分布更均匀，有效防止微米级抛光粉微粒团聚，用于超光滑表面抛光不容易产生划痕，是超光滑表面抛光工艺中的关键技术。
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公开(公告)号：CN103217125A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310098554.5
申请日：2013-03-26
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种基于子孔径拼接的高精度平面光学元件面型检测方法。所述检测装置包括：二维平移台、干涉仪和标准平面透镜，具体步骤为：将所述平面光学元件固定在二维平移台上，干涉仪对准所述平面光学元件的位置；调节二维平移台到达指定目标分布区域，使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分，干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算，得到该子孔径面型信息；重复前述步骤，直到完成全部子孔径的测量，即可实现所述平面光学元件的子孔径测量。本发明针对高精度平面光学元件面形平面度较高的特点，通过一定拼接算法恢复完整被测平面元件面型，为高精度平面光学元件面型检验提供一种经济有效的检测方法。
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公开(公告)号：CN103205753A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201310066774.X
申请日：2013-03-04
Applicant: 同济大学
IPC: C23F4/00
Abstract: 本发明涉及一种自由空间传输的近场光学诱导表面微结构平滑方法，该方法属于光学器件加工领域，主要针对常规的超精密光学器件制作技术要么是加工效率不高，要么是其表面粗糙度控制的不够低，难以有效地平滑表面微结构。自由空间传输的近场光学诱导表面微结构平滑方法是基于自由空间在激光辅助下发生的选择性化学反应，去除表面的纳米凸起、凹坑和划痕等表面微结构，与此同时在表面微结构消失时光化学反应自动停止，从而获得超光滑表面。此方法不仅大大的降低了光学器件表面的粗糙度，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN102901462A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210362668.1
申请日：2012-09-26
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种基于稀疏孔径拼接的平面光学元件检测方法。子所述检测装置包括：二维平移台、干涉仪和标准平面透镜，具体步骤为：将所述平面光学元件固定在二维平移台上，干涉仪对准所述平面光学元件的位置；调节二维平移台到达指定目标分布区域，使干涉仪出瞳对准平面光学元件的几何中心部分，干涉仪对该几何中心部分进行采集测量计算，得到该子孔径面型信息；重复前述步骤，直到完成全部子孔径的测量，即可实现所述平面光学元件的稀疏子孔径测量。本发明针对环形抛光的平面光学元件面形具有较高圆对称性的特点，通过一定规则指定检测区域，可达到不覆盖全孔径，快速完成大口径光学平面的稀疏孔径检测的目的，为环形抛光的工序检验提供一种经济的检测方法。
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