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公开(公告)号：CN105263607A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201480031773.4
申请日：2014-05-28
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D61/04 , B01D61/08 , B01D61/12 , B01D65/02 , B01D2311/16 , B01D2311/2649 , B01D2313/243 , B01D2315/06 , B01D2315/20 , B01D2317/025 , B01D2317/04 , B01D2321/04
Abstract: 本发明提供一种过滤系统和过滤方法，其中利用能够使过滤膜损伤最小、降低能耗和提高过滤效率的反渗透膜，本发明的过滤方法包括下述步骤：用第一和第二浸渍式过滤膜组件初步过滤待处理的未处理水；将通过所述初步过滤产生的一次过滤水加压至超过所述未处理水的渗透压的压力；用反渗透膜组件过滤所述被加压的一次过滤水；中断所述第一浸渍式过滤膜组件的初步过滤作业；对初步过滤作业被中断的所述第一浸渍式过滤膜组件进行反清洗，在实施所述第一浸渍式过滤膜组件的反清洗作业期间，继续实施通过所述第二浸渍式过滤膜组件的初步过滤作业。
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公开(公告)号：CN104853832A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201380060621.2
申请日：2013-11-04
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: C02F1/444 , B01D61/14 , B01D61/18 , B01D61/22 , B01D63/02 , B01D63/043 , B01D69/08 , B01D2311/04 , B01D2311/14 , B01D2313/06 , B01D2313/20 , B01D2315/06 , C02F1/44 , C02F3/1273 , C02F2103/007 , C02F2103/34 , C02F2103/42 , Y02W10/15
Abstract: 本发明公开了能使能耗最小化的过滤系统和过滤方法。本发明的过滤系统包括处理罐，供应待处理给水至所述处理罐的第一泵，位于所述处理罐内的过滤装置和为所述过滤装置提供负压的第二泵，以便所述过滤装置可处理给水而生成渗透液，所述处理罐是可密封式的，以便所述处理罐充满给水后能够由所述第一泵对处理罐中的给水加压。
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公开(公告)号：CN102549500A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080043364.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0752
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。尤其是，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。
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公开(公告)号：CN102549499A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080043646.8
申请日：2010-09-29
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: G03F7/092 , G03F7/027 , G03F7/0752 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供干膜光致抗蚀剂，具体而言，本发明的干膜光致抗蚀剂可在去除基膜的状态下实施曝光工艺，从而防止基膜对曝光效果的不利影响，提高分辨率。另外，即使在存在树脂保护层的状态下进行曝光，也不会因树脂保护层降低透明度和显像速度，从而可实现高分辨率。尤其是，本发明的树脂保护层可减少多晶硅等润湿剂(wetting agent)的含量，从而节省成本，降低雾霾(haze)，而且，因适当粘接基膜和树脂保护层，以在去除基膜时不会损伤树脂保护层，从而防止雾霾的降低，不产生显像时间的降低，实现高分辨率。
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公开(公告)号：CN101836162A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200880112608.6
申请日：2008-10-24
Applicant: 可隆工业株式会社
Abstract: 本发明公开一种薄膜型感光转印材料，其包括基膜、树脂保护层、感光树脂层以及覆盖膜，其中树脂保护层的黏着力等于或小于0.005kgf/cm2。当薄膜型感光转印材料设置于印刷电路板上时，其能在移除基膜的状态下进行曝光过程，因而可在曝光过程中缩小掩膜与感光树脂层之间的距离，进而提高图案的分辨率。所述薄膜型感光转印材料允许基膜在曝光过程前被移除，且其可被加工成薄片或是可应用于卷压(roll？to？roll)过程。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106102882A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201580013128.4
申请日：2015-03-25
Applicant: 可隆工业株式会社
Inventor： 文熙岏
CPC classification number: B01D69/10 , B01D61/18 , B01D63/02 , B01D63/026 , B01D63/043 , B01D65/02 , B01D69/08 , B01D2313/025 , B01D2313/06 , B01D2313/13 , B01D2313/21 , B01D2313/54 , B01D2315/06 , B01D2317/04 , B01D2319/04 , B01D2321/185 , C02F1/44
Abstract: 本发明公开了一种过滤装置，其中，在框架结构内安装高集成的中空纤维膜组件，由此能够提高过滤系统的回收率，且能够有效地进行对高集成的所述中空纤维膜组件的曝气清洗。本发明的过滤装置包括具有第一内部空间和第二内部空间的框架结构、安装在所述第一内部空间内的第一中空纤维膜组件和安装在所述第二内部空间内的第二中空纤维膜组件。
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公开(公告)号：CN103842056B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280048270.9
申请日：2012-08-14
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: B01D65/08 , B01D63/02 , B01D65/02 , B01D2313/26 , B01D2315/06 , B01D2321/185 , B01F3/04262 , C02F1/44 , C02F2303/16
Abstract: 本发明公开了一种能够通过充分并且均匀地清洁过滤装置中的所有中空纤维膜来提高过滤效率的曝气单元及包括此类曝气单元的过滤装置。本发明的曝气单元包括：相互平行的多个曝气管，每一个曝气管包括第一末端和与第一末端相对的第二末端；以及第一共管，所述第一共管通过所述曝气管的第一末端与所述曝气管流体连通来为所述曝气管提供空气。所述第一共管垂直于所述曝气管。所述曝气管越接近所述第一共管的两末端，所述曝气管布置得越密集。
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公开(公告)号：CN105813720A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201480066794.X
申请日：2014-12-11
Applicant: 可隆工业株式会社
CPC classification number: B01D65/02 , B01D63/02 , B01D63/026 , B01D2313/18 , B01D2313/20 , B01D2315/06 , B01D2321/04 , B01D2321/185
Abstract: 本发明公开一种紧凑型的浸渍式过滤装置，该装置能够容易安装，能够安全方便地进行维护，能够大幅节能，且能够使所占空间最小化。本发明的浸渍式过滤装置包括：过滤槽，位于地面之上；过滤膜盒，安装在所述过滤槽内；以及第一引导件，设置在所述过滤槽内，在所述过滤膜盒向所述过滤槽内被引入以便安装于所述过滤槽内时，所述第一引导件对所述过滤膜盒进行引导。
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公开(公告)号：CN103826730A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280047052.3
申请日：2012-12-17
Applicant: 可隆工业株式会社
Inventor： 文熙岏
CPC classification number: B01D63/02 , B01D61/02 , B01D61/14 , B01D63/00 , B01D63/021 , B01D63/022 , B01D63/023 , B01D63/08 , B01D65/003 , B01D69/08 , B01D2313/04 , B01D2313/21 , B01D2315/06 , C02F1/44
Abstract: 本发明公开一种集流管以及包括该集流管的过滤膜组件，所述集流管可以防止集流管中用于固定过滤膜的固定层与集流管发生分离。本发明的过滤膜组件包括：过滤膜，集流管，所述集流管包括在上部具有开口的壳体和将壳体的内部空间分隔成用于插入过滤膜的第一空间和用于固定过滤膜的第二空间的隔板，以及固定层。所述过滤膜封装于固定层中，该固定层与壳体一起在第一空间中形成滤液收集空间。所述隔板具有通孔。所述固定层存在于第一空间的至少一部分、第二空间以及隔板的通孔中。
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公开(公告)号：CN102047180B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN200980119958.X
申请日：2009-05-20
Applicant: 可隆工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/11
Abstract: 本发明公开了一种薄膜型可光降解的转印材料，其包括：支持膜、树脂保护层、可光降解的光致抗蚀剂层和覆盖膜，其中所述树脂保护层的粘合力小于或等于0.05kgf。当该薄膜型可光降解的转印材料用于形成精细电路图形例如印刷电路板等时，通过在曝光时使掩模与光敏树脂层间的距离最小化，而提高图形的分辨率，且即使在曝光过程前去除支持膜，也可以片状进行加工，或者卷对卷工艺可用于加工中。
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