晶片加工用带
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103013365A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201110286708.4

    申请日:2011-09-23

    Abstract: 本发明涉及晶片加工用带,其为通过扩张将粘接剂层沿着芯片截断时所用的能够扩张的晶片加工用带,该晶片加工用带具有适于通过扩张截断粘接剂层的工序的均匀扩张性,在热收缩工序中即使不进行高温且长时间地受热也显示出充分的受热收缩性,且不会招致热收缩工序后的松弛所致的拾取不良。本发明的晶片加工用带10由基材膜11以及设于基材膜11上的粘附剂层12和设于粘附剂层12上的粘接剂层13构成,基材膜11为热传导率为0.15W/m·K以上的热塑性交联树脂。

    晶片加工用胶带
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102373017A

    公开(公告)日:2012-03-14

    申请号:CN201110043057.6

    申请日:2011-02-21

    CPC classification number: H01L2224/83191

    Abstract: 本发明提供一种晶片加工用胶带的生产性优异、可抑制拾取工序中的双芯片的发生或不能拾取半导体芯片的不良情况的发生的晶片加工用胶带。晶片加工用胶带(10)中,在将粘接膜(12)作为直角形拉裂试验片的、基于JIS K7128-3“塑料薄膜及片的拉裂强度试验方法--第3部:直角形拉裂法”所示的直角形拉裂试验片的试验方法中,将直角形拉裂试验片(100)的拉裂强度设为C、将在通过直角形拉裂试验片(100)的直角部的前端的中央线上从该直角部的前端放入了长度大致为1mm的切断部分(115)的直角形拉裂试验片(110)的拉裂强度设为D时,强度比(D/C)为0.8以下。并且,在基于JIS K7113的2号形试验片进行的延伸率的测定中,2号形试验片(120)即胶粘剂层(13)的延伸率为150%以上。

    晶片加工用胶带和使用其的半导体加工方法

    公开(公告)号:CN102337089A

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN201110188172.2

    申请日:2011-07-06

    Abstract: 本发明提供能够充分抑制拾取时半导体芯片彼此的再粘连的晶片加工用胶带以及使用该晶片加工用胶带的半导体加工方法。本发明的晶片加工用胶带为在作为由支持基材12a和粘合剂层12b构成的粘合带的切割带12的该粘合剂层12b上层积了含有具有环氧基的化合物的热固性接合剂层13的作为晶片加工用胶带的切割芯片粘贴带10,该晶片加工用胶带的特征在于:支持基材12a由将乙烯-(甲基)丙烯酸二元共聚物或乙烯-(甲基)丙烯酸-(甲基)丙烯酸烷基酯三元共聚物用金属离子交联而成的离聚物树脂构成;共聚物中的(甲基)丙烯酸成分的重量份分数为1%以上且不足10%,并且离聚物树脂中的(甲基)丙烯酸的中和度为50%以上。

    粘合薄膜以及半导体晶片加工用胶带

    公开(公告)号:CN102511077B

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201080005501.9

    申请日:2010-11-11

    CPC classification number: C09J7/20 C09J2201/622 C09J2203/326

    Abstract: 本发明提供一种粘合薄膜及半导体晶片加工用胶带,即使在粘合剂附着于胶粘剂层的状态下进行拾取,也可减少封装的回流焊裂痕。本发明的粘合薄膜,其特征在于,由基材薄膜及设于该基材薄膜上的粘合剂层构成,并使用于加工半导体晶片,其中,由差热分析测得的回流焊温度时所述粘合剂层的重量减少为1.5%以下。此外,本发明的半导体晶片加工用胶带,具有由基材薄膜及设于该基材薄膜上的粘合剂层构成的粘合薄膜、及设于所述粘合剂层上的胶粘剂层,其中,由差热分析测得的回流焊温度时所述粘合剂层的重量减少为1.5%以下。

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