反、透射式石墨烯光电阴极及其制备和激活方法

    公开(公告)号:CN113113277A

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN202110299754.1

    申请日:2021-03-22

    Abstract: 本发明公开了反、透射式石墨烯光电阴极及其制备和激活方法,该阴极包括衬底层、p型石墨烯发射层和Cs/O激活层。制备方法包括:将苯基硼酸粉末加热升华至退火处理后的铜箔上,冷却后生成单层硼掺杂石墨烯;将硼掺杂石墨烯逐层转移至目标衬底,形成p型石墨烯发射层;在p型石墨烯发射层表面进行Cs/O激活,由此制得反、透射式石墨烯光电阴极。激活方法包括铯、氧源激活两步,其中第一步激活中采用卤素灯白光光源垂直照射光电阴极面,第二步激活中采用蓝紫光激光器垂直照射光电阴极面。本发明能获得稳定性好,且可用于真空光电探测器件和真空电子源的反、透射式石墨烯光电阴极。

    一种提高砷化镓光电阴极量子效率的激活方法

    公开(公告)号:CN111584327A

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN202010358215.6

    申请日:2020-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种提高砷化镓光电阴极量子效率的激活方法,包括:开启铯源,光电流逐渐上升,光电流达到峰值后下降;当光电流下降到峰值电流的50%~90%时,开启氧源,并保持铯源开启状态;当光电流再次到达峰值时关闭氧源;当光电流下降到峰值的50%~90%时打开氧源,重复上述激活过程,直到光电流的峰值电流是前一个峰值电流的100~110%时,待光电流下降到峰值电流的50%~90%时打开氟源,当光电流上升到新的峰值时,先后关闭氟源和铯源,结束激活过程。本发明可以得到光电发射性能更好的砷化镓光电阴极,兼容传统铯氧激活工艺,且具备计算机辅助控制激活方式,操作简单,易于推广。

    一种提高InGaAs光电阴极量子效率的激活方法

    公开(公告)号:CN111584326A

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN202010358213.7

    申请日:2020-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种提高InGaAs光电阴极量子效率的激活方法,包括铯、氧激活和铯、NF3激活的两次激活,具体为:对InGaAs光电阴极进行第一次高温净化;开启铯源,当光电流下降到峰值电流的50%~85%时,开启氧源,并保持铯源开启,当光电流再次到达峰值时关闭氧源;对InGaAs光电阴极进行第二次高温净化;开启铯源,当光电流下降到峰值电流的50%~85%时,开启NF3进气阀门,使NF3气体进入激活腔体,并保持铯源开启,当光电流曲线上升速率小于0.2μA/min,关闭NF3进气阀门,关闭铯源。本发明可以得到量子效率更高的InGaAs光电阴极。

    近红外响应增强的薄层纳米阵列结构InGaAsP光电阴极组件及其制备方法

    公开(公告)号:CN119364878A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411372439.7

    申请日:2024-09-29

    Abstract: 本发明提出了一种近红外响应增强的薄层透射式In0.88Ga0.12As0.26P0.74光电阴极组件,该光电阴极结构自下而上为In0.88Ga0.12As0.26P0.74发射层、In0.52Al0.48As窗口层、Si3N4增透层以及玻璃。In0.52Al0.48As窗口层中包含平面层和纳米结构阵列两部分,并使用Si3N4介质填充纳米结构间的空隙,纳米结构阵列部分采用若干周期分布的圆柱或方柱结构,通过调整纳米阵列结构的周期、形状、尺寸和排列方式,可实现光电阴极组件整体对近红外特定波长处的吸收率的提高,从而提高透射式In0.88Ga0.12As0.26P0.74光电阴极在近红外特定波长处的量子效率。本发明还给出了兼容新兴的微纳加工工艺与传统反转工艺的In0.88Ga0.12As0.26P0.74光电阴极组件制备工艺流程。

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